本實用新型涉及半導(dǎo)體檢測領(lǐng)域,尤其涉及一種以積體電路為基板進(jìn)行半導(dǎo)體檢測的半導(dǎo)體檢測結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù):
半導(dǎo)體芯片在檢測時,由于檢測電極在半導(dǎo)體基板的內(nèi)部,需要對檢測電極進(jìn)行布線引出信號接入點,對精度以及工藝要求比較高,導(dǎo)致半導(dǎo)體芯片研發(fā)的周期較長,成本較高。
技術(shù)實現(xiàn)要素:
本實用新型要解決的技術(shù)問題是:提供一種方便的引出半導(dǎo)體電極進(jìn)行檢測的半導(dǎo)體檢測結(jié)構(gòu)。
為實現(xiàn)上述目的,本實用新型提供的半導(dǎo)體檢測結(jié)構(gòu),包括:
基材,具有多層半導(dǎo)體材料;
多個電極,設(shè)置在所述基材內(nèi);
接觸孔,從所述基材表面延伸至至少一個所述電極;導(dǎo)電橋墩,填充在所述接觸孔內(nèi),與所述電極電導(dǎo)通;
所述導(dǎo)電橋墩的材料為導(dǎo)電材料。
進(jìn)一步的,所述基材包括導(dǎo)電層、半導(dǎo)體層以及絕緣層。
進(jìn)一步的,所述接觸孔與所述導(dǎo)電橋墩之間還設(shè)置有沉積層,所述沉積層為絕緣材料。
進(jìn)一步的,所述導(dǎo)電橋墩通過金屬導(dǎo)線或?qū)щ娬吵聿牧吓c檢測設(shè)備形成導(dǎo)電通道。
本實用新型首先確認(rèn)需要檢測的電極位置,并通過在基材表面開挖一個到該電極位置的接觸孔內(nèi)填充導(dǎo)電材料形成導(dǎo)電橋墩,從而將該電極的電信號通過導(dǎo)電橋墩引出至外部檢測設(shè)備,該結(jié)構(gòu)克服了半導(dǎo)體檢測時電極信號難引出的問題,減小了半導(dǎo)體的研發(fā)周期,相對極大的降低了成本。
附圖說明
下面結(jié)合附圖,通過對本實用新型的具體實施方式詳細(xì)描述,將使本實用新型的技術(shù)方案及其它有益效果顯而易見。
附圖中,
圖1為本實用新型半導(dǎo)體檢測結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2至圖6為本實用新型半導(dǎo)體檢測結(jié)構(gòu)的另外的實施方式示意圖。
附圖標(biāo)號說明:
100、基材;200、電極;300、接觸孔;400、導(dǎo)電橋墩;500、外部檢測設(shè)備;600、電路;700、沉積層;80、外部檢測設(shè)備。
具體實施方式
為更進(jìn)一步闡述本實用新型所采取的技術(shù)手段及其效果,以下結(jié)合本實用新型的優(yōu)選實施例及其附圖進(jìn)行詳細(xì)描述。
請參閱圖1,本實用新型提供的半導(dǎo)體檢測結(jié)構(gòu),主要包括基材100,在基材100內(nèi)設(shè)置的多個電極200,以及一個電極200到基材100表面開挖的接觸孔300,并在接觸孔300內(nèi)填充導(dǎo)電材料形成的導(dǎo)電橋墩400。
其中,所述基材100為具有多層的半導(dǎo)體材料,包括導(dǎo)電層、半導(dǎo)體層或絕緣層中的至少一個或者多個的組合。其中,所述電極200并不局限于設(shè)置在導(dǎo)電層中。
所述接觸孔300是通過聚焦離子束或者鐳射的方式將半導(dǎo)體基材除去,直至裸露出所需要檢測的電極200;優(yōu)選的采用的離子束為鎵離子束。
所述導(dǎo)電橋墩400是通過聚焦離子束或者鐳射的方式將導(dǎo)電材料填充,直至填充至基板100的表面,其中,所述導(dǎo)電材料為鉑、鎢、銅、銀中一種或多種的組合物與二氧化硅的混合。
在本實施方式中,首先確認(rèn)需要檢測的電極200位置,并通過在基材100表面開挖一個到該電極200位置的接觸孔300內(nèi)填充導(dǎo)電材料形成導(dǎo)電橋墩400,從而將該電極200的電信號通過導(dǎo)電橋墩400引出至外部檢測設(shè)備或外部電路結(jié)構(gòu),該結(jié)構(gòu)克服了半導(dǎo)體檢測時電極信號難引出的問題,減小了半導(dǎo)體的研發(fā)周期,相對極大的降低了成本。
請參閱圖2,在本實用新型的其他實施方式中,當(dāng)需要檢測的電極200具有多個時,也可以通過上述結(jié)構(gòu)分別對多個電極200的電信號導(dǎo)出。如圖2中,導(dǎo)出了兩個電極信號,并將兩個電極200相導(dǎo)通。當(dāng)然在有需求的情況下,可以對導(dǎo)出的電極200之間或者導(dǎo)出的電極200的導(dǎo)電橋墩400上設(shè)置電路600,從而達(dá)到對半導(dǎo)體電路結(jié)構(gòu)的改變的目的,如圖3。這樣的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的改變相較于傳統(tǒng)的需要對半導(dǎo)體整個電路布圖進(jìn)行重新規(guī)劃來說,成本極低,有效的降低了半導(dǎo)體芯片開發(fā)、檢測的成本。
請參閱圖4或圖5,在本實用新型的其他實施方式中,所述接觸孔300與所述導(dǎo)電橋墩400之間還可以設(shè)置絕緣的沉積層700,該沉積層700能夠減少所述導(dǎo)電橋墩400引出之電信號與基板100中其他電極的短路或者串?dāng)_,提高檢測的可靠性。
請參閱圖6,其中利用導(dǎo)金屬導(dǎo)線或者導(dǎo)電粘稠材料與導(dǎo)電橋墩400導(dǎo)通,并將金屬導(dǎo)線或者導(dǎo)電粘稠材料延伸并電連接至外接檢測設(shè)備80,從而可以快速方便的對半導(dǎo)體的電極200上信號進(jìn)行檢測,極大的降低了檢測的成本。
以上所述,對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說,可以根據(jù)本實用新型的技術(shù)方案和技術(shù)構(gòu)思作出其他各種相應(yīng)的改變和變形,而所有這些改變和變形都應(yīng)屬于本實用新型權(quán)利要求的保護(hù)范圍。