本發(fā)明屬于激光技術(shù)領(lǐng)域,涉及超短脈沖激光技術(shù),具體涉及一種摻鐵硒化鋅可飽和吸收鏡及其制備與構(gòu)成的鎖模光纖激光器。
背景技術(shù):
近年來,超短脈沖激光因其在大氣通信、環(huán)境監(jiān)測(cè)、超快光學(xué)、光纖傳感、工業(yè)加工、激光制導(dǎo)、生物醫(yī)療、激光手術(shù)、激光雷達(dá)和激光對(duì)抗等領(lǐng)域的廣泛應(yīng)用前景,引起人們極大的研究興趣。
實(shí)現(xiàn)超短脈沖的常用方法為鎖模技術(shù),包括主動(dòng)鎖模、被動(dòng)鎖模和自鎖模等,其中主動(dòng)鎖模和被動(dòng)鎖模均通過在激光器諧振腔內(nèi)設(shè)置合適的非線性器件或者從外部驅(qū)動(dòng)光調(diào)制器來實(shí)現(xiàn),而主動(dòng)鎖模是根據(jù)調(diào)制器施加的射頻信號(hào)提供的相位或頻率來對(duì)激光進(jìn)行調(diào)制獲得超短脈沖激光,被動(dòng)鎖模是根據(jù)輻射本身與被動(dòng)非線性器件共同產(chǎn)生周期性調(diào)制,導(dǎo)致軸向模固定的相位關(guān)系,從而獲得超短脈沖激光;自鎖模又稱克爾透鏡鎖模,是利用激活介質(zhì)本身的非線性效應(yīng)對(duì)振蕩光束進(jìn)行強(qiáng)度調(diào)制、相位鎖定,來實(shí)現(xiàn)鎖模、獲得超短脈沖激光的。上述三種鎖模技術(shù)中,由于被動(dòng)鎖模技術(shù)能產(chǎn)生皮秒乃至飛秒量級(jí)的超短脈沖,且利用被動(dòng)鎖模原理設(shè)計(jì)的激光產(chǎn)生系統(tǒng)結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、易于操作而備受本領(lǐng)域研究人員的青睞。
研究人員在被動(dòng)鎖模技術(shù)中通常采用具有非線性吸收特性的可飽和吸收體作為非線性器件實(shí)現(xiàn)光纖激光器鎖模,輸出超短脈沖;可飽和吸收體具有可飽和吸收特性,可飽合吸收體對(duì)光的吸收與光強(qiáng)度有關(guān),其吸收系數(shù)隨光強(qiáng)的增加而減少,利用可飽和吸收體的這種特性,可以在激光器中實(shí)現(xiàn)對(duì)損耗的調(diào)制。以可飽和吸收體作為非線性器件實(shí)現(xiàn)激光器鎖模的過程為:在沒有發(fā)生鎖模之前,激光器產(chǎn)生的泵浦光分布基本上市均勻的,但由于可飽和吸收的特性,光強(qiáng)弱的信號(hào)透過可飽和吸收體的概率小,受到的損耗大,而光強(qiáng)強(qiáng)的信號(hào)頭蓋骨可飽和吸收體的概率大,損耗小,且其損耗可通過增益器件得到補(bǔ)償,這就使得初始光強(qiáng)大的信號(hào)不斷被放大,而初始光強(qiáng)小的信號(hào)最終被湮滅,在激光信號(hào)成長(zhǎng)的過程中,信號(hào)的前沿、后沿由于相對(duì)強(qiáng)度較小而不斷被銷陡,使信號(hào)不斷變窄,形成寬度縮短的脈沖,直至脈沖的光譜寬度與增益帶寬相近,從而形成單個(gè)的、非常短的、在激光腔內(nèi)往返傳輸?shù)某堂}沖。目前,研究人員通常采用單壁碳納米管、石墨烯等作為可飽和吸收體或者商用半導(dǎo)體可飽和吸收鏡(Semiconductor Saturable Absorber Mirror,SESAM)來實(shí)現(xiàn)光纖激光器鎖模、產(chǎn)生超短脈沖;但是,上述可飽和吸收體或可飽和吸收鏡均存在一些缺陷:(1)單壁碳納米管易聚集成束,很難分散,嚴(yán)重影響其光學(xué)性能;(2)石墨烯的光損傷閾值也相對(duì)較低,不適用于全方位研究的超快光纖激光器的動(dòng)力學(xué)特性;(3)SESAM的制作工藝復(fù)雜、生產(chǎn)成本昂貴,此外其光損傷閾值很低,為了提高損傷閾值,需要特殊設(shè)計(jì)。
因此,研制出損傷閾值高、工藝簡(jiǎn)單、生產(chǎn)成本低廉的可飽和吸收體一直是超快激光物理領(lǐng)域追求的目標(biāo)。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本發(fā)明的目的旨在針對(duì)目前可飽和吸收體的光損傷閾值較低的問題,提供一種具有較高光損傷閾值的摻鐵硒化鋅可飽和吸收鏡;
本發(fā)明另一個(gè)目的是提供一種生產(chǎn)成本低、工藝簡(jiǎn)單的制備方法,用于制備上述摻鐵硒化鋅可飽和吸收鏡。
本發(fā)明再一目的是提供一種基于上述摻鐵硒化鋅可飽和吸收鏡構(gòu)成的鎖模光纖激光器。
針對(duì)第一個(gè)發(fā)明目的,本發(fā)明提供的摻鐵硒化鋅可飽和吸收鏡,其構(gòu)成包括基底、鍍?cè)谒龌咨系母叻瓷淠ひ约板冊(cè)谒龈叻瓷淠ど系膿借F硒化鋅薄膜。所述述基底的材料可為石英、氟化鈣、碳化硅等,也可以選擇光纖端面作為基底;所述高反射膜要求對(duì)光具有很高的反射特性,可以選擇金膜或銀膜,高反射厚度不小于300nm;所述摻鐵硒化鋅薄膜具有可飽和吸收特性,可以實(shí)現(xiàn)對(duì)激光光強(qiáng)的調(diào)制,協(xié)助激光器實(shí)現(xiàn)鎖模;該摻鐵硒化鋅薄膜材料為Fe2+:ZnSe晶體,即以所述ZnSe晶體為待摻雜晶體,以Fe2+為摻雜離子,F(xiàn)e2+的濃度范圍為1×1017~1×1019cm-3,所述摻鐵硒化鋅薄膜厚度不大于5μm,可以根據(jù)實(shí)際加工要求,在50nm~5μm之間選擇,優(yōu)選為200nm~3μm。
針對(duì)第二個(gè)發(fā)明目的,本發(fā)明提供了上述摻鐵硒化鋅可飽和吸收鏡的制備方法,包括如下步驟:
(1)于真空不大于1×10-4Pa、溫度400~800℃條件下,在基底上沉積設(shè)定厚度的高反射膜;
(2)于真空不大于1×10-4Pa、溫度400~800℃條件下,在高反射膜上沉積設(shè)定厚度的摻鐵硒化鋅薄膜。
上述摻鐵硒化鋅可飽合吸收鏡的制備方法中,步驟(1)的目的是在基底上沉積設(shè)定厚度的高反射膜,可以采用磁控濺射、脈沖激光沉積或者電子束蒸鍍等方法來實(shí)現(xiàn),為了獲得致密性好、純度高的高反射膜,首先將沉積設(shè)備腔體內(nèi)真空抽至不大于1×10-4Pa,然后將腔體內(nèi)基底托的溫度升至400~800℃,再采用磁控濺射、脈沖激光沉積或者電子束蒸鍍等方法在基底上沉積設(shè)定厚度的高反射膜。
上述摻鐵硒化鋅可飽合吸收鏡的制備方法中,步驟(2)的目的是在高反射膜上沉積設(shè)定厚度的摻鐵硒化鋅薄膜,可以采用磁控濺射或者脈沖激光沉積等方法來實(shí)現(xiàn),為了獲得致密性好、純度高的摻鐵硒化鋅薄膜,首先將沉積設(shè)備腔體內(nèi)真空抽至不大于1×10-4Pa,然后將腔體內(nèi)基底托的溫度升至400~800℃,再采用磁控濺射或者脈沖激光沉積等方法在基底上沉積設(shè)定厚度的高反射膜。脈沖激光沉積原理為,飛秒激光系統(tǒng)發(fā)出的峰值功率為2×1010W~4×1010W的激光將摻鐵硒化鋅晶體靶材表面電離化,產(chǎn)生摻鐵硒化鋅等離子,產(chǎn)生的摻鐵硒化鋅等離子體沉積到高反射膜上形成摻鐵硒化鋅薄膜,通過這種方法沉積得到的摻鐵硒化鋅薄膜,其結(jié)晶性較好、薄膜厚度均勻、且可保證摻鐵硒化鋅薄膜在5μm及以下厚度均具有良好的可飽和吸收特性。
針對(duì)第三個(gè)發(fā)明目的,本發(fā)明提供了一種由上述摻鐵可飽和吸收鏡構(gòu)成的鎖模光纖激光器,該鎖模光纖激光器的構(gòu)成包括對(duì)應(yīng)設(shè)置的半導(dǎo)體激光器泵浦源、光學(xué)耦合組件、雙包層增益光纖和所述摻鐵硒化鋅可飽和吸收鏡,所述雙包層增益光纖一端為垂直截面,另一端為斜切面,雙包層增益光纖垂直截面與摻鐵硒化鋅可飽和吸收鏡構(gòu)成激光諧振腔,由半導(dǎo)體激光器泵浦源產(chǎn)生的泵浦光經(jīng)光學(xué)耦合組件準(zhǔn)直聚焦后進(jìn)入雙包層增益光纖產(chǎn)生激光,產(chǎn)生的激光在所述激光諧振腔內(nèi)諧振放大后經(jīng)摻鐵硒化鋅可飽和吸收鏡反射并調(diào)制鎖模,鎖模后的激光再次進(jìn)入雙包層增益光纖進(jìn)行放大輸出。該鎖模光纖激光器通過雙包層增益光纖產(chǎn)生激光,并通過摻鐵硒化鋅可飽和吸收鏡產(chǎn)生的激光實(shí)現(xiàn)鎖模,獲得的鎖模激光再經(jīng)雙包層增益光纖放大輸出得到超短脈沖。
上述鎖模光纖激光器,光學(xué)耦合組件主要用于對(duì)泵浦光或產(chǎn)生的激光準(zhǔn)直或聚焦,或者對(duì)激光進(jìn)行有選擇的反射,主要由透鏡和二向色鏡構(gòu)成。根據(jù)摻鐵硒化鋅可飽和吸收鏡與雙包層增益光纖的設(shè)置位置,光學(xué)耦合組件具有兩種實(shí)現(xiàn)方式:
第一種實(shí)現(xiàn)方式中,光學(xué)耦合組件包括第一透鏡、第二透鏡和二向色鏡;第一透鏡位于半導(dǎo)體激光器泵浦源后方,用于將半導(dǎo)體激光器泵浦源發(fā)出的泵浦光進(jìn)行準(zhǔn)直;第二透鏡位于雙包層增益光纖的前方,用于將準(zhǔn)直后的泵浦光進(jìn)行聚焦或/和將雙包層增益光纖輸出的激光進(jìn)行準(zhǔn)直;二向色鏡位于第一透鏡和第二透鏡之間,用于透過泵浦光或/和將雙包層增益光纖輸出的鎖模放大激光反射輸出。
第二種實(shí)現(xiàn)方式中,光學(xué)耦合組件包括第一透鏡、第二透鏡、二向色鏡和第三透鏡;第一透鏡位于半導(dǎo)體激光器泵浦源后方,用于將半導(dǎo)體激光器泵浦源發(fā)出的泵浦光進(jìn)行準(zhǔn)直;第二透鏡位于雙包層增益光纖的前方,用于將準(zhǔn)直后的泵浦光進(jìn)行聚焦或/和將雙包層增益光纖輸出的激光進(jìn)行準(zhǔn)直;二向色鏡位于第一透鏡和第二透鏡之間,用于透過泵浦光或/和將雙包層增益光纖產(chǎn)生的激光或者經(jīng)摻鐵硒化鋅可飽合吸收鏡鎖后的激光反射;第三透鏡位于二向色鏡與摻鐵硒化鋅可飽合吸收鏡之間,用于將二向色鏡反射的激光聚焦或/和將摻鐵硒化鋅可飽合吸收鏡反射的鎖模激光準(zhǔn)直。
上述鎖模光纖激光器,雙包層增益光纖為摻Er3+或Ho3+的ZBLAN光纖(氟化物光纖),雙包層增益光纖一端垂直切割得到垂直截面,利用垂直的界面菲涅爾反射,將垂直截面作為輸出鏡;雙包層增益光纖的另一端面采用斜切方式得到與垂直方向呈6~8°的斜切面,以消除菲涅爾反射對(duì)整個(gè)鎖模光纖激光器穩(wěn)定性可能產(chǎn)生的影響。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明具有以下有益效果:
1、由于本發(fā)明摻鐵硒化鋅可飽和吸收鏡以摻鐵硒化鋅薄膜為可飽和吸收體,同時(shí)摻鐵硒化鋅薄膜本身具有較高的損傷閾值,能夠用于高功率激光器的研制,彌補(bǔ)了本領(lǐng)域缺少高損傷閾值可飽和吸收鏡或可飽和吸收體的空缺;
2、由于本發(fā)明摻鐵硒化鋅可飽和吸收鏡為三層結(jié)構(gòu)由基底、高反射膜和摻鐵硒化鋅薄膜三層構(gòu)成,且可以通過磁控濺射、脈沖激光沉積等常規(guī)設(shè)備制備得到,不僅得到的摻鐵硒化鋅可飽和吸收鏡結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、可靠性高,而且制備工藝簡(jiǎn)單、生產(chǎn)成本低廉、適于批量生產(chǎn),可在激光器技術(shù)領(lǐng)域推廣;
3、由于本發(fā)明鎖模光纖激光器采用摻鐵硒化鋅可飽和吸收鏡對(duì)激光進(jìn)行調(diào)制實(shí)現(xiàn)鎖模,不僅可以獲得超短脈沖,同時(shí)由于摻鐵硒化鋅具有較高的損傷閾值,可以提高高功率鎖模光纖激光器的可靠性和穩(wěn)定性;
4、由于本發(fā)明鎖模光纖激光器雙包層增益光纖輸出端面與摻鐵可飽和吸收鏡之間構(gòu)成諧振腔,可以使激光光強(qiáng)得到增益放大,從而獲得皮秒乃至飛秒量級(jí)的超短脈沖;
5、由于本發(fā)明鎖模光纖激光器產(chǎn)生的鎖模激光由光纖輸出,相較于傳統(tǒng)的非光纖輸出(例如半導(dǎo)體激光器),減少了光的散射,可以有效提高激光器光束輸出質(zhì)量。
附圖說明
圖1為本發(fā)明提供的摻鐵硒化鋅可飽和吸收鏡的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2為本發(fā)明提供的一個(gè)實(shí)施例的鎖模光纖激光器的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖3為圖2中A部分的放大圖。
圖4為本發(fā)明提供的另一實(shí)施例的鎖模光纖激光器的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖5為圖4中B部分的放大圖。
其中,1-半導(dǎo)體激光器泵浦源,2-第一透鏡,3-二向色鏡,4-第二透鏡,5-雙包層增益光纖,6-垂直截面,7-斜切面,8-摻鐵硒化鋅可飽和吸收鏡,9-第三透鏡。
具體實(shí)施方式
以下將結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明各實(shí)施例的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整的描述,顯然,所描述實(shí)施例僅僅是本發(fā)明的一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例。基于本發(fā)明中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下所得到的所有其它實(shí)施例,都屬于本發(fā)明所保護(hù)的范圍。
以下實(shí)施例1-4中所使用的飛秒激光器為摻鈦藍(lán)寶石飛秒激光器,其中心波長(zhǎng)為800nm,脈沖寬度為45fs,脈沖重復(fù)頻率為1kHz。
實(shí)施例1
本實(shí)施例以石英玻璃為基底,采用激光脈沖沉積方法(PLD)制備摻鐵硒化鋅可飽和吸收鏡,包括如下步驟:將基底和金靶分別放入PLD(Pulsed laser deposition,脈沖激光鍍膜系統(tǒng))腔體內(nèi)的基底托和靶材托上,對(duì)腔體抽真空至不大于1×10-4Pa,然后使腔體內(nèi)基底托的溫度升高至400℃,打開飛秒激光器,在峰值功率為2×1010W的激光作用下,在基底上沉積40分鐘,得到厚度為300nm的金膜;然后隨爐冷卻至室溫,將金靶替換為Fe2+濃度為1×1017cm-3的摻鐵硒化鋅晶體靶材,再對(duì)腔體抽真空至不大于1×10-4Pa,然后使腔體內(nèi)基底托的溫度升高至400℃,打開飛秒激光器,在峰值功率為2×1010W的激光作用下,在基底上沉積10分鐘,得到厚度為50nm的摻鐵硒化鋅薄膜,之后隨爐冷卻至室溫即可。
實(shí)施例2
本實(shí)施例以氟化鈣晶體基片為基底,采用激光脈沖沉積方法(PLD)制備摻鐵硒化鋅可飽和吸收鏡,包括如下步驟:將基底和銀靶分別放入PLD(Pulsed laser deposition,脈沖激光鍍膜系統(tǒng))腔體內(nèi)的基底托和靶材托上,對(duì)腔體抽真空至不大于1×10-4Pa,然后使腔體內(nèi)基底托的溫度升高至600℃,打開飛秒激光器,在峰值功率為4×1010W的激光作用下,在基底上沉積25分鐘,得到厚度為400nm的銀膜;然后隨爐冷卻至室溫,將銀靶替換為Fe2+濃度為1×1018cm-3摻鐵硒化鋅晶體靶材,再對(duì)腔體抽真空至不大于1×10-4Pa,然后使腔體內(nèi)基底托的溫度升高至400℃,打開飛秒激光器,在峰值功率為4×1010W的激光作用下,在基底上沉積15分鐘,得到厚度為200nm的摻鐵硒化鋅薄膜,之后隨爐冷卻至室溫即可。
實(shí)施例3
本實(shí)施例以碳化硅晶體基片為基底,采用激光脈沖沉積方法(PLD)制備摻鐵硒化鋅可飽和吸收鏡,步驟如下:將基底和金靶分別放入PLD(Pulsed laser deposition,脈沖激光鍍膜系統(tǒng))腔體內(nèi)的基底托和靶材托上,對(duì)腔體抽真空至不大于1×10-4Pa,然后使腔體內(nèi)基底托的溫度升高至800℃,打開飛秒激光器,在峰值功率為4×1010W的激光作用下,在基底上沉積25分鐘,得到厚度為400nm的金膜;然后隨爐冷卻至室溫,將金靶替換為Fe2+濃度為1×1019cm-3的摻鐵硒化鋅晶體靶材,再對(duì)腔體抽真空至不大于1×10-4Pa,然后使腔體內(nèi)基底托的溫度升高至800℃,打開飛秒激光器,在峰值功率為4×1010W的激光作用下,在基底上沉積70分鐘,得到厚度為3μm的摻鐵硒化鋅薄膜,之后隨爐冷卻至室溫即可。
實(shí)施例4
本實(shí)施例以石英光纖為基底,采用激光脈沖沉積方法(PLD)制備摻鐵硒化鋅可飽和吸收鏡,步驟如下:將基底和銀靶分別放入PLD(Pulsed laser deposition,脈沖激光鍍膜系統(tǒng))腔體內(nèi)的基底托和靶材托上,對(duì)腔體抽真空至不大于1×10-4Pa,然后使腔體內(nèi)基底托的溫度升高至400℃,打開飛秒激光器,在峰值功率為3×1010W的激光作用下,在基底上沉積40分鐘,得到厚度為500nm的銀膜;然后隨爐冷卻至室溫,將銀靶替換為Fe2+濃度為1×1017cm-3的摻鐵硒化鋅晶體靶材,再對(duì)腔體抽真空至不大于1×10-4Pa,然后使腔體內(nèi)基底托的溫度升高至400℃,打開飛秒激光器,在峰值功率為3×1010W的激光作用下,在基底上沉50分鐘,得到厚度為600nm的摻鐵硒化鋅薄膜,之后隨爐冷卻至室溫即可。
實(shí)施例1至實(shí)施例4制備得到的摻鐵硒化鋅可飽和吸收鏡結(jié)構(gòu)如圖1所示,其構(gòu)成包括基底a、鍍?cè)谒龌咨系母叻瓷淠以及鍍?cè)谒龈叻瓷淠ど系膿借F硒化鋅薄膜c,其工作原理是,將其作為激光器的一個(gè)提供損耗調(diào)制的高反射鏡;當(dāng)產(chǎn)生的激光被該摻鐵硒化鋅可飽和吸收鏡反射時(shí),激光可被摻鐵硒化鋅可飽和吸收鏡吸收光強(qiáng)弱的激光反射光強(qiáng)強(qiáng)的激光從而完成對(duì)激光的調(diào)制實(shí)現(xiàn)鎖模;此外,這種摻鐵硒化鋅可飽和吸收鏡具有高損傷閾值,可用于作為高功率激光系統(tǒng)中脈沖激光產(chǎn)生的關(guān)鍵器件。
實(shí)施例5
本實(shí)施例提供了一種鎖模光纖激光器,如圖2及圖3所示,該鎖模光纖激光器包括半導(dǎo)體激光器泵浦源1、光學(xué)耦合組件、雙包層增益光纖5和實(shí)施例2制備的摻鐵硒化鋅可飽和吸收鏡8,光學(xué)耦合組件由第一透鏡2、第二透鏡4和二向色鏡3構(gòu)成,半導(dǎo)體激光器泵浦源1、第一透鏡2、二向色鏡3、第二透鏡4、雙包層增益光纖5和摻鐵硒化鋅可飽和吸收鏡8依次排列;雙包層增益光纖5一端為垂直截面6,另一端為與垂直面呈θ=8°的斜切面7,半導(dǎo)體激光器泵浦源1的泵浦光出射端位于第一透鏡2的焦點(diǎn)處,雙包層增益光纖5的垂直截面6位于第二透鏡4的焦點(diǎn)處,雙包層增益光纖5的垂直截面6與摻鐵硒化鋅可飽和吸收鏡8構(gòu)成激光諧振腔。
該鎖模光纖激光器的工作原理為:由半導(dǎo)體激光器泵浦源1產(chǎn)生的泵浦光,經(jīng)第一透鏡2準(zhǔn)直、穿過二向色鏡3和經(jīng)第二透鏡4聚焦后耦合進(jìn)入雙包層增益光纖5產(chǎn)生激光,產(chǎn)生的激光在上述激光諧振腔內(nèi)諧振放大,諧振放大產(chǎn)生的激光經(jīng)摻鐵硒化鋅可飽和吸收鏡8反射并調(diào)制而實(shí)現(xiàn)鎖模,鎖模后的激光經(jīng)原光路返回雙包層增益光纖5進(jìn)行放大,經(jīng)放大后的激光通過雙包層增益激光5輸出后由第二透鏡4準(zhǔn)直并經(jīng)二向色鏡3反射輸出。
實(shí)施例6
本實(shí)施例提供了另外一種鎖模光纖激光器,如圖4及圖5所示,該鎖模光纖激光器包括半導(dǎo)體激光器泵浦源1、光學(xué)耦合組件、雙包層增益光纖5和實(shí)施例4制備的摻鐵硒化鋅可飽和吸收鏡8,光學(xué)耦合組件由第一透鏡2、第二透鏡4、第三透鏡9和二向色鏡3構(gòu)成,半導(dǎo)體激光器泵浦源1、第一透鏡2、二向色鏡3、第二透鏡4和雙包層增益光纖5依次排列,第三透鏡9位于二向色鏡3的出射光路上,摻鐵硒化鋅可飽和吸收鏡8位于第三透鏡9的焦點(diǎn)處;雙包層增益光纖5一端為垂直截面6,另一端為與垂直面呈θ=6°的斜切面7,雙包層增益光纖5的斜切面7位于第二透鏡5的焦點(diǎn)處,半導(dǎo)體激光器泵浦源1的泵浦光出射端位于第一透鏡2的焦點(diǎn)處,雙包層增益光纖5的垂直截面6與摻鐵硒化鋅可飽和吸收鏡8構(gòu)成激光諧振腔。
該鎖模光纖激光器的工作原理為:由半導(dǎo)體激光器泵浦源1產(chǎn)生的泵浦光經(jīng)第一透鏡2準(zhǔn)直、穿過二向色鏡3和經(jīng)第二透鏡4聚焦后耦合進(jìn)入雙包層增益光纖5產(chǎn)生激光,產(chǎn)生的激光在上述激光諧振腔內(nèi)諧振放大,由于垂直截面8的菲涅爾反射作用,諧振放大產(chǎn)生的激光原路返回,由第二透鏡4準(zhǔn)直并經(jīng)二向色鏡3反射、再由第三透鏡9聚焦到摻鐵硒化鋅可飽和吸收鏡8,由摻鐵硒化鋅可飽和吸收鏡8反射并調(diào)制而實(shí)現(xiàn)鎖模,鎖模后的激光經(jīng)原光路返回雙包層增益光纖5進(jìn)行放大,經(jīng)放大后的激光通過雙包層增益激光5的垂直截面6輸出。
本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員將會(huì)意識(shí)到,這里的實(shí)施例是為了幫助讀者理解本發(fā)明的原理,應(yīng)被理解為本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于這樣的特別陳述和實(shí)施例。本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可以根據(jù)本發(fā)明公開的這些技術(shù)啟示做出各種不脫離本發(fā)明實(shí)質(zhì)的其它各種具體變形和組合,這些變形和組合仍然在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。