技術特征：

技術總結
本發(fā)明提供的磁控管及應用該磁控管的磁控濺射設備，其包括極性相反的外磁極和內磁極，其中，外磁極和內磁極的形狀滿足：使內磁極的總磁通量與外磁極的總磁通量的差值在預設范圍內。本發(fā)明提供的磁控管，其不僅可以提高薄膜厚度的均勻性，而且可以降低靶材濺射電壓，從而可以減少器件表面形成的損傷。

技術研發(fā)人員：楊玉杰;羅建恒;耿波;張同文
受保護的技術使用者：北京北方微電子基地設備工藝研究中心有限責任公司
技術研發(fā)日：2016.03.04
技術公布日：2017.09.12