1.一種襯底刻蝕方法，包括主刻蝕步驟和過(guò)刻蝕步驟，其特征在于，
所述主刻蝕步驟進(jìn)一步包括步驟S1和步驟S2，當(dāng)圖形側(cè)壁出現(xiàn)拐角時(shí)，結(jié)束所述步驟S1，同時(shí)開(kāi)始所述步驟S2；
所述過(guò)刻蝕步驟進(jìn)一步包括步驟S3和步驟S4，當(dāng)所述拐角的高度達(dá)到固定值時(shí)，結(jié)束所述步驟S3，同時(shí)開(kāi)始所述步驟S4；
其中，所述步驟S1和所述步驟S4所采用的用于冷卻襯底的背吹氣壓小于所述步驟S2和所述步驟S3所采用的用于冷卻襯底的背吹氣壓。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底刻蝕方法，其特征在于，所述步驟S1和所述步驟S4均采用第一背吹氣壓冷卻襯底；所述步驟S2和所述步驟S3均采用第二背吹氣壓冷卻襯底；所述第一背吹氣壓小于所述第二背吹氣壓。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底刻蝕方法，其特征在于，根據(jù)在進(jìn)行所述主刻蝕步驟的過(guò)程中，掩膜的刻蝕速率判斷圖形側(cè)壁出現(xiàn)拐角的時(shí)刻。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底刻蝕方法，其特征在于，根據(jù)在進(jìn)行所述過(guò)刻蝕步驟的過(guò)程中，所述拐角的高度的降低速率判斷所述拐角的高度達(dá)到固定值的時(shí)刻。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底刻蝕方法，其特征在于，所述固定值的取值范圍在200～400nm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底刻蝕方法，其特征在于，所述步驟S2和所述步驟S3的工藝時(shí)間之和為10～45min。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的襯底刻蝕方法，其特征在于，所述步驟S1對(duì)應(yīng)的工藝時(shí)刻為第0分鐘～第20分鐘。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的襯底刻蝕方法，其特征在于，所述步驟S4對(duì)應(yīng)的工藝時(shí)刻為第30分鐘～工藝結(jié)束。
9.根據(jù)權(quán)利要求2所述的襯底刻蝕方法，其特征在于，所述第一背吹氣壓的取值范圍在2～5Torr。
10.根據(jù)權(quán)利要求2所述的襯底刻蝕方法，其特征在于，所述第二背吹氣壓的取值范圍在4～8Torr。