一種晶圓保護(hù)膜及其涂刷裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型提供一種晶圓保護(hù)膜及其涂刷裝置，晶圓保護(hù)膜形成于所述晶圓邊緣；所述保護(hù)膜的成膜寬度范圍為2～3mm；所述保護(hù)膜的厚度小于2.7微米，本實(shí)用新型在晶圓周邊涂上一層具有一定抗拉強(qiáng)度,抗剪強(qiáng)度,及耐磨性的保護(hù)膜,從而對晶圓邊緣起到保護(hù)作用，有效避免了運(yùn)輸途中顛簸可能導(dǎo)致的晶圓邊緣產(chǎn)生裂紋或缺角,及邊緣裂紋應(yīng)力延伸致使的破片現(xiàn)象。本實(shí)用新型保護(hù)膜鋪設(shè)于晶圓邊緣,寬度小于3mm,不影響晶圓有效區(qū)域，并且保護(hù)膜成型于晶圓邊緣上表面,不影響后續(xù)測試工序。
【專利說明】—種晶圓保護(hù)膜及其涂刷裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型屬于半導(dǎo)體制造【技術(shù)領(lǐng)域】，涉及一種晶圓保護(hù)膜，特別是涉及一種晶圓運(yùn)輸過程中防邊緣破裂的保護(hù)膜。

【背景技術(shù)】
[0002]十多年來，我國集成電路技術(shù)突飛猛進(jìn)，集成度越來越高，處理速度越來越快，芯片制造生產(chǎn)線的技術(shù)水平也從8英寸、0.25微米提高到12英寸、45納米的新水平，并在向12英寸32納米和22納米以下的技術(shù)階段邁進(jìn)。具有各種不同功能的集成電路芯片已廣泛應(yīng)用于人們生活的各個領(lǐng)域。
[0003]集成電路的孩子做過程需要經(jīng)過過重工藝，如清洗、氧化、化學(xué)氣相沉積、金屬化、光刻、刻蝕、摻雜以及平坦化等等，這些工藝需要在工廠的不同區(qū)域進(jìn)行。而在半導(dǎo)體集成電路制過程中，由于所有電路均集成于晶圓上，所以晶圓需要在不同制程之間和同一制程的不同區(qū)域流轉(zhuǎn)，其運(yùn)輸和保管過程中都需要用到晶圓放置裝置(Cassette)，現(xiàn)有的晶圓放置裝置100如圖1所示，該裝置內(nèi)設(shè)置有多個卡槽102，將晶圓103分隔開來。如圖2所示，晶圓103放置在裝置中之后其側(cè)面和底部與晶圓放置裝置101接觸，卡槽102長時間使用會發(fā)生老化，老化的卡槽102將導(dǎo)致晶圓103卡不緊，由于運(yùn)輸過程中顛簸方向的不確定性，不論晶圓103橫放或者豎放，都不可避免晶圓103邊緣與裝置的接觸面發(fā)生撞擊，致使晶圓103邊緣產(chǎn)生裂紋或者缺角，邊緣裂紋應(yīng)力延伸，最終導(dǎo)致破片。所以如何保護(hù)好芯片邊緣一直是個難題。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0004]鑒于以上所述現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)，本實(shí)用新型的目的在于提供一種晶圓保護(hù)膜，用于解決現(xiàn)有技術(shù)中晶圓運(yùn)輸時發(fā)生邊緣破裂的問題。
[0005]為實(shí)現(xiàn)上述目的及其他相關(guān)目的，本實(shí)用新型提供一種晶圓保護(hù)膜，所述晶圓保護(hù)膜形成于所述晶圓的邊緣。
[0006]作為本實(shí)用新型晶圓保護(hù)膜的一種優(yōu)化的結(jié)構(gòu)，所述保護(hù)膜的成膜寬度小于3mm。
[0007]作為本實(shí)用新型晶圓保護(hù)膜的一種優(yōu)化的結(jié)構(gòu)，所述保護(hù)膜的成膜寬度范圍為2 ?3mm0
[0008]作為本實(shí)用新型晶圓保護(hù)膜的一種優(yōu)化的結(jié)構(gòu)，所述保護(hù)膜的成膜厚度小于2.7微米。
[0009]作為本實(shí)用新型晶圓保護(hù)膜的一種優(yōu)化的結(jié)構(gòu)，所述保護(hù)膜的材料為中性透明硅酮結(jié)構(gòu)膠。
[0010]作為本實(shí)用新型晶圓保護(hù)膜的一種優(yōu)化的結(jié)構(gòu)，所述保護(hù)膜形成于晶圓上具有器件結(jié)構(gòu)的一側(cè)表面的邊緣。
[0011]本實(shí)用新型還提供一種涂刷晶圓保護(hù)膜的裝置，所述裝置至少包括:支撐所述晶圓并使所述晶圓旋轉(zhuǎn)的支撐平臺、安裝在晶圓邊緣上方且用于提供保護(hù)膜材料的噴嘴、以及使所述保護(hù)膜固化的加速固化裝置。
[0012]作為本實(shí)用新型涂刷晶圓保護(hù)膜的裝置一種優(yōu)化的結(jié)構(gòu)，所述噴嘴中保護(hù)膜材料的注入流量范圍根據(jù)實(shí)際成膜質(zhì)量進(jìn)行調(diào)整，注入時間范圍為5s?10s，晶圓轉(zhuǎn)速范圍為5r/s ?10r/so。
[0013]作為本實(shí)用新型涂刷晶圓保護(hù)膜的裝置一種優(yōu)化的結(jié)構(gòu)，所述加速固化裝置為分別置于所述晶圓上下邊緣的兩個電吹風(fēng)，通過控制風(fēng)的壓力來控制所述保護(hù)膜的固化速率。
[0014]作為本實(shí)用新型涂刷晶圓保護(hù)膜的裝置一種優(yōu)化的結(jié)構(gòu)，所述上面的電吹風(fēng)的風(fēng)嘴對準(zhǔn)保護(hù)膜的內(nèi)邊緣，下面電吹風(fēng)的風(fēng)嘴對準(zhǔn)晶圓的外邊緣。
[0015]如上所述，本實(shí)用新型的晶圓保護(hù)膜，形成于所述晶圓邊緣。具有以下有益效果:本新型在晶圓周邊涂上一層具有一定抗拉強(qiáng)度，抗剪強(qiáng)度，及耐磨性的保護(hù)膜，從而對晶圓邊緣起到保護(hù)作用，有效避免了運(yùn)輸途中顛簸可能導(dǎo)致的晶圓邊緣產(chǎn)生裂紋或缺角，及邊緣裂紋應(yīng)力延伸致使的破片現(xiàn)象。本實(shí)用新型保護(hù)膜鋪設(shè)于晶圓邊緣，寬度小于3_，不影響晶圓有效區(qū)域，并且保護(hù)膜成型于晶圓邊緣上表面，不影響后續(xù)測試工序。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0016]圖1為本實(shí)用新型中的晶圓放置裝置示意圖。
[0017]圖2為本實(shí)用新型的晶圓放置在裝置中的示意圖。
[0018]圖3為本實(shí)用新型的晶圓邊緣形成有保護(hù)膜的示意圖。
[0019]圖4為本實(shí)用新型用來涂刷晶圓保護(hù)膜的裝置示意圖。
[0020]元件標(biāo)號說明
[0021]101晶圓放置裝置
[0022]102卡槽
[0023]103晶圓
[0024]104保護(hù)膜
[0025]201支撐平臺
[0026]202噴嘴
[0027]203加速固化裝置

【具體實(shí)施方式】
[0028]以下由特定的具體實(shí)施例說明本實(shí)用新型的實(shí)施方式，熟悉此技術(shù)的人士可由本說明書所揭露的內(nèi)容輕易地了解本實(shí)用新型的其他優(yōu)點(diǎn)及功效。
[0029]請參閱附圖。須知，本說明書所附圖式所繪示的結(jié)構(gòu)、比例、大小等，均僅用以配合說明書所揭示的內(nèi)容，以供熟悉此技術(shù)的人士了解與閱讀，并非用以限定本實(shí)用新型可實(shí)施的限定條件，故不具技術(shù)上的實(shí)質(zhì)意義，任何結(jié)構(gòu)的修飾、比例關(guān)系的改變或大小的調(diào)整，在不影響本實(shí)用新型所能產(chǎn)生的功效及所能達(dá)成的目的下，均應(yīng)仍落在本實(shí)用新型所揭示的技術(shù)內(nèi)容得能涵蓋的范圍內(nèi)。同時，本說明書中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中間”及“一”等的用語，亦僅為便于敘述的明了，而非用以限定本實(shí)用新型可實(shí)施的范圍，其相對關(guān)系的改變或調(diào)整，在無實(shí)質(zhì)變更技術(shù)內(nèi)容下，當(dāng)亦視為本實(shí)用新型可實(shí)施的范疇。
[0030]如圖3所示，本實(shí)用新型提供一種晶圓保護(hù)膜104，所述晶圓保護(hù)膜104形成在所述晶圓103的邊緣，用于防止晶圓103在運(yùn)輸過程中邊緣破裂導(dǎo)致報(bào)廢。
[0031]在晶圓103包裝出貨前，在其周邊涂上保護(hù)膜104，所述保護(hù)膜104具有膠的特性，例如，具有一定的抗拉強(qiáng)度、抗剪強(qiáng)度及耐磨性，從而對晶圓103邊緣起到保護(hù)作用。
[0032]作為示例，所述保護(hù)膜104的成膜寬度應(yīng)小于3mm，不影響晶圓103的有效區(qū)域。優(yōu)選地，所述保護(hù)膜104的成膜寬度控制在2?3mm范圍內(nèi)。本實(shí)施例中，所述保護(hù)膜104的成膜寬度暫選為2.5mm,當(dāng)然，在其他實(shí)施例中，所述保護(hù)膜104的成膜寬度也可以是2.2_、2.7mm等等。
[0033]另外，所述保護(hù)膜104的厚度應(yīng)盡量薄。作為示例，所述保護(hù)膜104的厚度小于
2.7微米。本實(shí)施例中，所述保護(hù)膜104的厚度暫選為2微米，當(dāng)然，在其他實(shí)施中，所述保護(hù)膜104的厚度也可以是2.5微米、1.5微米等等。
[0034]再者，所述保護(hù)膜104的成膜時間可控，成膜時間應(yīng)盡量短，縮短晶圓出產(chǎn)的時間。作為示例，所述保護(hù)膜104的成膜時間應(yīng)控制在5?10秒范圍內(nèi)。
[0035]作為示例，所述保護(hù)膜104可以選擇為中性透明硅酮結(jié)構(gòu)膠。當(dāng)然，也可以選擇其他合適的成膜材料，在此不限。
[0036]對于保護(hù)膜104成膜的具體位置，可以形成于晶圓103上具有器件結(jié)構(gòu)的一側(cè)表面的邊緣，這樣可以不影響后續(xù)測試工作。
[0037]本實(shí)用新型還提供一種涂刷保護(hù)膜的裝置，如圖4所示，該裝置至少包括:支撐平臺201、噴嘴202、加速固化裝置203。
[0038]所述支撐平臺201用于支撐并旋轉(zhuǎn)晶圓103，具體地，通過真空吸附作用將所述晶圓103緊緊吸附在支撐平臺201上。所述噴嘴202安裝在所述晶圓103邊緣的上方，用于提供保護(hù)膜104材料，保護(hù)膜104材料為流體狀，其從噴嘴202流出注入到晶圓103邊緣的流量范圍根據(jù)實(shí)際成膜質(zhì)量進(jìn)行調(diào)整，注入時間為5s?1s (秒)。
[0039]通過支撐平臺201來控制晶圓103的旋轉(zhuǎn)速度，從而更高效地在晶圓103的邊緣涂刷保護(hù)膜104，所述晶圓103的旋轉(zhuǎn)速度控制在5r/s?lOr/s (轉(zhuǎn)/秒)范圍內(nèi)。
[0040]所述加速固化裝置203為分別置于所述晶圓103上下邊緣的兩個電吹風(fēng)，通過控制風(fēng)的壓力來控制所述保護(hù)膜104的固化速率，使流體態(tài)的保護(hù)膜104材料更快的固化成膜。
[0041]所述上面的電吹風(fēng)的風(fēng)嘴對準(zhǔn)保護(hù)膜的內(nèi)邊緣，可以防止保護(hù)膜漿料濺到晶圓的內(nèi)器件部分，下面電吹風(fēng)的風(fēng)嘴對準(zhǔn)晶圓的外邊緣向上吹，可以防止保護(hù)膜材料從晶圓邊緣滴落。
[0042]綜上所述，本實(shí)用新型晶圓保護(hù)膜，形成于所述晶圓邊緣。具有以下有益效果:本新型在晶圓周邊涂上一層具有一定抗拉強(qiáng)度，抗剪強(qiáng)度，及耐磨性的保護(hù)膜，從而對晶圓邊緣起到保護(hù)作用，有效避免了運(yùn)輸途中顛簸可能導(dǎo)致的晶圓邊緣產(chǎn)生裂紋或缺角，及邊緣裂紋應(yīng)力延伸致使的破片現(xiàn)象。本實(shí)用新型保護(hù)膜鋪設(shè)于晶圓邊緣，寬度小于3_，不影響晶圓有效區(qū)域，并且保護(hù)膜成型于晶圓邊緣上表面，不影響后續(xù)測試工序。
[0043]所以，本實(shí)用新型有效克服了現(xiàn)有技術(shù)中的種種缺點(diǎn)而具高度產(chǎn)業(yè)利用價值。
[0044]上述實(shí)施例僅例示性說明本實(shí)用新型的原理及其功效，而非用于限制本實(shí)用新型。任何熟悉此技術(shù)的人士皆可在不違背本實(shí)用新型的精神及范疇下，對上述實(shí)施例進(jìn)行修飾或改變。因此，舉凡所屬【技術(shù)領(lǐng)域】中具有通常知識者在未脫離本實(shí)用新型所揭示的精神與技術(shù)思想下所完成的一切等效修飾或改變，仍應(yīng)由本實(shí)用新型的權(quán)利要求所涵蓋。
【權(quán)利要求】
1.一種晶圓保護(hù)膜，其特征在于，所述晶圓保護(hù)膜形成于所述晶圓的邊緣。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓保護(hù)膜，其特征在于:所述保護(hù)膜的成膜寬度小于
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的晶圓保護(hù)膜，其特征在于:所述保護(hù)膜的成膜寬度范圍為2?3臟。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓保護(hù)膜，其特征在于:所述保護(hù)膜的成膜厚度小于2.7微米。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓保護(hù)膜，其特征在于:所述保護(hù)膜的材料為中性透明硅酮結(jié)構(gòu)膠。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓保護(hù)膜，其特征在于:所述保護(hù)膜形成于晶圓上具有器件結(jié)構(gòu)的一側(cè)表面的邊緣。
7.一種涂刷如權(quán)利要求1所述的晶圓保護(hù)膜的裝置，其特征在于，所述裝置至少包括:支撐所述晶圓并使所述晶圓旋轉(zhuǎn)的支撐平臺、安裝在晶圓邊緣上方且用于提供保護(hù)膜材料的噴嘴、以及使所述保護(hù)膜固化的加速固化裝置。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置，其特征在于:所述噴嘴中保護(hù)膜材料的注入流量范圍根據(jù)實(shí)成膜質(zhì)量進(jìn)行調(diào)整，注入時間范圍為58?108，晶圓轉(zhuǎn)速范圍為5^/8?101^8。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置，其特征在于:所述加速固化裝置為分別置于所述晶圓上下邊緣的兩個電吹風(fēng)，通過控制風(fēng)的壓力來控制所述保護(hù)膜的固化速率。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的裝置，其特征在于:所述上面的電吹風(fēng)的風(fēng)嘴對準(zhǔn)保護(hù)膜的內(nèi)邊緣，下面電吹風(fēng)的風(fēng)嘴對準(zhǔn)晶圓的外邊緣。
【文檔編號】H01L21/67GK204118056SQ201420600605
【公開日】2015年1月21日 申請日期:2014年10月16日 優(yōu)先權(quán)日:2014年10月16日
【發(fā)明者】周振林 申請人:中芯國際集成電路制造(北京)有限公司