專利名稱：防粘增印保護(hù)膜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種增印保護(hù)膜，尤其涉及一種防粘增印保護(hù)膜。
背景技術(shù)：
薄膜面板例如手機(jī)觸摸按鍵，薄膜開關(guān)等產(chǎn)品在搬運(yùn)和使用過程中，其表面容易受到接觸性污染或磨痕劃傷，通常采用保護(hù)膜覆蓋在其表面使之免受損傷和污染。保護(hù)膜一般由基材層和涂覆在該基材層上的膠粘劑層構(gòu)成。當(dāng)保護(hù)膜用來保護(hù)各種薄膜面板例如手機(jī)觸摸按鍵，薄膜開關(guān)等產(chǎn)品的表面時(shí)，需要在保護(hù)膜上印刷文字、圖案等，傳統(tǒng)的保護(hù)膜一般都沒有經(jīng)過耐磨增印處理，因此很難在保護(hù)膜上進(jìn)行印刷作業(yè)；其次，增印保護(hù)膜中離型紙與涂覆有高粘度粘合劑的貼膜貼附時(shí)，容易導(dǎo)致離型紙上的離型劑涂層被粘附力更大的粘合劑帶走，從而在貼膜的局部表面形成難以清理掉的離型劑涂層區(qū)域，破壞了貼膜整體的純凈、一致性。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型提供一種防粘增印保護(hù)膜，此防粘增印保護(hù)膜解決了現(xiàn)有保護(hù)膜不能印刷文字、圖案和增印保護(hù)膜中離型紙的淋膜層與離型劑涂層結(jié)合力不高的問題，且使得有機(jī)硅膠面霧度效果好，使得膠面達(dá)到低反光效果。為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是:一種防粘增印保護(hù)膜，包括一基材層，此基材層上面涂覆一用于印刷油墨的增印涂層，此基材層下表面通過有機(jī)硅壓敏膠與一離型膜粘合連接；所述離型膜包括上表面分別涂覆有霧面抗靜電涂層的薄膜層和下表面淋膜有PE膜的原紙層，此薄膜層和原紙層通過一膠粘劑層粘接；所述霧面抗靜電涂層另一表面涂覆有離型劑涂層。上述技術(shù)方案中進(jìn)一步改進(jìn)的技術(shù)方案如下:1、上述方案中，所述霧面抗靜電涂層與離型劑涂層接觸的表面的粗糙度為
2.821um 3.324um。2、上述方案中，所述離型劑涂層另一表面具有若干個(gè)凸起部。由于上述技術(shù)方案運(yùn)用，本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有下列優(yōu)點(diǎn):本實(shí)用新型防粘增印保護(hù)膜，其有利于油墨圖案與保護(hù)膜粘接，滿足了印刷文字、圖案的需要；其次，增印保護(hù)膜中離型劑涂層用于與粘膠膠面接觸的表面有一定的凹凸?fàn)?，利用光的漫反射原理，可以有一定的霧度，不容易發(fā)生反光現(xiàn)象，手指碰到膠面不會(huì)留下手指印，肉眼看起來有一種舒適細(xì)膩的感覺，滿足客戶的要求，提高產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)力。

附圖1為本實(shí)用新型防粘增印保護(hù)膜結(jié)構(gòu)示意圖；附圖2為本實(shí)用新型離型膜結(jié)構(gòu)示意圖。以上附圖中:1、基材層；2、增印涂層；3、有機(jī)硅壓敏膠；4、離型膜；41、霧面抗靜電涂層；42、薄膜層；43、PE膜；44、原紙層；45、膠粘劑層；46、離型劑涂層；47、凸起部。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步描述:實(shí)施例1:一種防粘增印保護(hù)膜，包括一基材層1，此基材層I上面涂覆一用于印刷油墨的增印涂層2，此基材層I下表面通過有機(jī)硅壓敏膠3與一離型膜4粘合連接；所述離型膜4包括上表面分別涂覆有霧面抗靜電涂層41的薄膜層42和下表面淋膜有PE膜43的原紙層44，此薄膜層42和原紙層44通過一膠粘劑層45粘接；所述霧面抗靜電涂層41另一表面涂覆有離型劑涂層46。上述霧面抗靜電涂層41與離型劑涂層46接觸的表面的粗糙度為2.88um或者3.31um。實(shí)施例2:—種防粘增印保護(hù)膜，包括一基材層1，此基材層I上面涂覆一用于印刷油墨的增印涂層2，此基材層I下表面通過有機(jī)硅壓敏膠3與一離型膜4粘合連接；所述離型膜4包括上表面分別涂覆有霧面抗靜電涂層41的薄膜層42和下表面淋膜有PE膜43的原紙層44，此薄膜層42和原紙層44通過一膠粘劑層45粘接；所述霧面抗靜電涂層41另一表面涂覆有離型劑涂層46。上述霧面抗靜電涂層41與離型劑涂層46接觸的表面的粗糙度為2.821um 3.324um。上述離型劑涂層另一表面具有若干個(gè)凸起部47。采用上述防粘增印保護(hù)膜時(shí)，其有利于油墨圖案與保護(hù)膜粘接，滿足了印刷文字、圖案的需要；其次，增印保護(hù)膜中離型劑涂層用于與粘膠膠面接觸的表面有一定的凹凸?fàn)?，利用光的漫反射原理，可以有一定的霧度，不容易發(fā)生反光現(xiàn)象，手指碰到膠面不會(huì)留下手指印，肉眼看起來有一種舒適細(xì)膩的感覺，滿足客戶的要求，提高產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)力。上述實(shí)施例只為說明本實(shí)用新型的技術(shù)構(gòu)思及特點(diǎn)，其目的在于讓熟悉此項(xiàng)技術(shù)的人士能夠了解本實(shí)用新型的內(nèi)容并據(jù)以實(shí)施，并不能以此限制本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。凡根據(jù)本實(shí)用新型精神實(shí)質(zhì)所作的等效變化或修飾，都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種防粘增印保護(hù)膜，其特征在于:包括一基材層(I)，此基材層(I)上面涂覆一用于印刷油墨的增印涂層(2)，此基材層(I)下表面通過有機(jī)硅壓敏膠(3)與一離型膜(4)粘合連接；所述離型膜(4)包括上表面分別涂覆有霧面抗靜電涂層(41)的薄膜層(42)和下表面淋膜有PE膜(43)的原紙層(44)，此薄膜層(42)和原紙層(44)通過一膠粘劑層(45)粘接；所述霧面抗靜電涂層(41)另一表面涂覆有離型劑涂層(46)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防粘增印保護(hù)膜，其特征在于:所述霧面抗靜電涂層(41)與離型劑涂層(46)接觸的表面的粗糙度為2.82Ium 3.324um。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防粘增印保護(hù)膜，其特征在于:所述離型劑涂層另一表面具有若干個(gè)凸起部(47)。
專利摘要本實(shí)用新型公開一種防粘增印保護(hù)膜，包括一基材層，此基材層上面涂覆一用于印刷油墨的增印涂層，此基材層下表面通過有機(jī)硅壓敏膠與一離型膜粘合連接；所述離型膜包括上表面分別涂覆有霧面抗靜電涂層的薄膜層和下表面淋膜有PE膜的原紙層，此薄膜層和原紙層通過一膠粘劑層粘接；所述霧面抗靜電涂層另一表面涂覆有離型劑涂層，所述霧面抗靜電涂層與離型劑涂層接觸的表面的粗糙度為2.821um～3.324um。本實(shí)用新型防粘增印保護(hù)膜解決了現(xiàn)有保護(hù)膜不能印刷文字、圖案和增印保護(hù)膜中離型紙的淋膜層與離型劑涂層結(jié)合力不高的問題，且使得有機(jī)硅膠面霧度效果好，使得膠面達(dá)到低反光效果。
文檔編號(hào)B32B3/30GK202936352SQ20122052756
公開日2013年5月15日 申請(qǐng)日期2012年10月16日 優(yōu)先權(quán)日2012年10月16日
發(fā)明者金闖, 張慶杰 申請(qǐng)人:蘇州斯迪克新材料科技股份有限公司