專利名稱：基板密封裝置和使用該基板密封裝置密封基板的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本公開涉及一種具有簡單結(jié)構(gòu)的基板密封裝置和使用該基板密封裝置密封基板的方法。
背景技術(shù)：
在平板顯示器(FPD)中，具有小的功耗和優(yōu)異的顯示質(zhì)量的有機發(fā)光顯示器正在 取代液晶顯示器(IXD )。通常，有機發(fā)光顯示器具有包括在像素區(qū)中的有機發(fā)光二極管(0LED)，其中有機發(fā)光二極管包括陰極電極、陽極電極和設(shè)置在兩個電極之間的有機發(fā)光層。沉積方法或激光誘導熱成像(LITI)方法被廣泛用于在基板上形成有機發(fā)光層。在激光誘導熱成像方法中，在真空環(huán)境中，其上形成有機發(fā)光層的施主膜(donor film)被層壓在基板上，熱被施加到施主膜以從施主膜向基板轉(zhuǎn)移有機發(fā)光層。因此，為了將施主膜的有機發(fā)光層正確地轉(zhuǎn)移到基板的像素區(qū)，在向施主膜施加熱之前，基板可通過施主膜被密封。用施主膜密封基板以使密封部分不通向外部是重要的。因此，可使用被加熱到預定溫度的封閉環(huán)形加熱棒擠壓施主膜。然而，由于加熱棒必須被保持在預定溫度，外來物質(zhì)可能被固定到加熱棒，以致密封質(zhì)量可能變壞。為了解決加工期間的上述問題，提出了瞬時使大容量電流流動通過包含諸如鎳鎘合金的高電阻材料的棒以產(chǎn)生熱的脈沖密封方法。然而，用于脈沖密封方法的棒不易于彎曲，從而難以將棒加工成封閉環(huán)的形式。因此，進行了許多針對解決該問題的方法的研究和開發(fā)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的實施例提供了一種用于密封基板的具有簡單結(jié)構(gòu)的基板密封裝置。實施例還提供了一種使用所述基板密封裝置容易地密封基板的方法。為了實現(xiàn)本發(fā)明的前面提到的和/或其他的方面，提供一種基板密封裝置，包括室；至少一個下擠壓構(gòu)件；以及上擠壓構(gòu)件。所述下擠壓構(gòu)件包括用于輻射熱的擠壓表面，被配置用于在相對于所述擠壓表面的豎直方向上被上升和下降，并繞所述豎直方向旋轉(zhuǎn)。所述上擠壓構(gòu)件包括用于輻射熱的擠壓表面，并且其被配置用于在所述豎直方向上被上升和下降。為了實現(xiàn)本發(fā)明的前面提到的和/或其他的方面，提供一種使用設(shè)置在室中的下擠壓構(gòu)件和設(shè)置在所述下擠壓單元上的上擠壓構(gòu)件來密封基板的方法。
所述方法包括在所述室中設(shè)置預備密封基板；下降所述下擠壓構(gòu)件以初次擠壓所述預備密封基板；上升所述下擠壓構(gòu)件；繞所述下擠壓構(gòu)件上升所沿的軸線旋轉(zhuǎn)所述下擠壓構(gòu)件，以將所述下擠壓構(gòu)件與所述上擠壓構(gòu)件在平面上分隔開；以及下降所述上擠壓構(gòu)件以再次擠壓所述預備密封基板。根據(jù)本發(fā)明的實施例，所述基板密封裝置的結(jié)構(gòu)被簡化，從而可以減少穿過所述室以驅(qū)動所述上擠壓構(gòu)件和所述下擠壓構(gòu)件的驅(qū)動軸的數(shù)量，并使所述室可以容易地保持在真空環(huán)境中。


附圖和說明書一起例示出本發(fā)明的特定實施例，并與描述一起用于解釋本發(fā)明的
原理。 圖I為例示出基板密封裝置的實施例的透視圖；圖2A至圖2C為例示出圖I的基板密封裝置的實施例的操作的視圖；圖3為例示出基板密封裝置的另一個實施例的透視圖；圖4A為例示出圖I的基板密封裝置的實施例在預備密封基板上形成第一密封圖案的操作的俯視圖；圖4B為圖4A的側(cè)視圖；圖5A為例示出圖I的基板密封裝置的實施例在預備密封基板上形成第二密封圖案的操作的俯視圖；圖5B為圖5A的側(cè)視圖；圖6A為例示出通過在4A、圖4B、圖5A和圖5B的預備密封基板上形成密封圖案而完成的密封基板的實施例的俯視圖；和圖6B為例示出沿圖6A的線1_1’截取的面的截面圖。
具體實施例方式在下面的詳細描述中，簡單地通過例示的方式僅示出和描述本發(fā)明的特定實施例。如本領(lǐng)域的技術(shù)人員應該意識到的那樣，在不背離本發(fā)明精神和范圍的情況下，所描述的實施例可以以各種不同的方式進行修改。因此，附圖和說明書將被認為本質(zhì)上為例示性而非限制性的。另外，當元件被提及為在另一元件“上”時，它能夠直接在另一元件上或者間接在另一元件上而具有一個或多個中間元件介于它們之間。同樣，當元件被提及為“被連接到”另一元件時，它能夠直接連接到另一元件或者間接連接另一元件而具有一個或多個中間元件介于它們之間。在下文中，相似的附圖標記通常指代相似的元件。在下文中，將參照附圖對本發(fā)明的一些實施例進行詳細描述。通過結(jié)合附圖的這些實施例，將會容易地理解本發(fā)明的目的、特征和效果。本發(fā)明不限于下文這些實施例，而是可以存在各種不同的修改。下面的實施例被提供用于使本發(fā)明所公開的精神清楚，以及用于將本發(fā)明的精神完全傳達給本領(lǐng)域的技術(shù)人員。因此，本發(fā)明的權(quán)利要求不應該被解釋為被限制于下面的實施例。與下面的實施例一起公開的附圖為了清楚而被簡化或擴大，并且相同的附圖標記通常表示相同的元件。圖I為例示出基板密封裝置的實施例的透視圖。
參照圖I，基板密封裝置200用膜來密封基板。在一些實施例中，基板密封裝置200可能被用在制造有機發(fā)光顯示器的過程中。在制造有機發(fā)光顯示器的過程中，當使用激光誘導熱成像(LITI)方法將形成在施主膜中的有機發(fā)光層轉(zhuǎn)移到基板時，基板密封裝置200可被用于通過施主膜來密封基板?；迕芊庋b置200包括室5、下擠壓構(gòu)件和設(shè)置在下擠壓構(gòu)件上的上擠壓構(gòu)件。下擠壓構(gòu)件包括第一擠壓單元10和第二擠壓單元20。上擠壓構(gòu)件包括第三擠壓單元30和第四擠壓單元40。室5具有與外部隔離 的真空內(nèi)部空間。工作臺8可被設(shè)置在室5中，密封對象9被安放在工作臺8上。第一至第四擠壓單元10、20、30和40中的每一個包含例如鎳鉻合金這樣的金屬，這樣的金屬具有高電阻，在高溫下不會被氧化，并且可以通過從外部供給的電流被加熱。因此，當?shù)谝恢恋谒臄D壓單元10、20、30和40在被加熱同時在豎直方向DO上被下降時，第一至第四擠壓單元10、20、30和40可以加熱并擠壓密封對象9。在一些實施例中，第一至第四擠壓單元10、20、30和40中的每一個具有細長棒形狀。在這樣的實施例中，第一至第四擠壓單元10、20、30和40的下表面中的每一個可以被定義為擠壓密封對象9的擠壓表面19。密封對象9被基板密封裝置200密封于密封圖案中，當密封圖案通向外部時，對密封對象9進行密封的效果可能變壞。因此，根據(jù)一些實施例，第一擠壓單元10和第二擠壓單元20被定位在第三擠壓單元30和第四擠壓單元40的下方，而當從上方觀察時，第一擠壓單元10和第二擠壓單元20與第三擠壓單元30和第四擠壓單元40部分重疊，以使密封圖案可以形成閉環(huán)。第一至第四擠壓單元10、20、30和40中的每一個在室5中在垂直于擠壓表面19的豎直方向DO上被上升和下降。另外，第一擠壓單元10和第二擠壓單元20不僅可以在豎直方向DO上向上和向下移動，并且可以繞豎直方向DO旋轉(zhuǎn)。將詳細描述如下。第一擠壓單元10與穿過室5并延伸到室5外部的第一驅(qū)動軸11聯(lián)接。第一驅(qū)動軸11與室5外部的第一線性驅(qū)動單元15和第一旋轉(zhuǎn)驅(qū)動單元18聯(lián)接。于是，通過驅(qū)動第一線性驅(qū)動單元15，第一擠壓單元10可以在豎直方向DO上被線性地移動。第一旋轉(zhuǎn)驅(qū)動單元18可以被驅(qū)動以使第一擠壓單元10繞豎直方向DO旋轉(zhuǎn)。在各種實施例中，第一線性驅(qū)動單元15可以通過滾珠絲杠、線性電動機或液壓/氣壓缸實現(xiàn)，而第一旋轉(zhuǎn)驅(qū)動單元18可以通過電動機實現(xiàn)。第二擠壓單元20與穿過室5并延伸到室5外部的第二驅(qū)動軸21聯(lián)接。另外，第二驅(qū)動軸21與室5外部的第二線性驅(qū)動單元25和第二旋轉(zhuǎn)驅(qū)動單元28聯(lián)接。與第一擠壓單元10的驅(qū)動相似，第二擠壓單元20可以在豎直方向DO上線性移動，并且也可以繞豎直方向DO旋轉(zhuǎn)。第三擠壓單元30與穿過室5并延伸到室5外部的第三驅(qū)動軸31聯(lián)接。另外，第三驅(qū)動軸31與室5外部的第三線性驅(qū)動單元35聯(lián)接，以使第三擠壓單元30可以通過第三線性驅(qū)動單元35在豎直方向DO上被線性移動。另外，第四擠壓單元40與穿過室5并延伸到室5外部的第四驅(qū)動軸41聯(lián)接。另夕卜，第四驅(qū)動軸41與室5外部的第四線性驅(qū)動單元45聯(lián)接。于是，第四擠壓單元40可以通過第四線性驅(qū)動單元45在豎直方向DO上被線性移動。參照圖2A至圖2C對具有第一至第四擠壓單元10、20、30和40的基板密封裝置200的操作的詳細描述如下。圖2A至圖2C為例示出圖I的基板密封裝置的實施例的操作的視圖。參照圖2A，通過使第一驅(qū)動單元15和第二驅(qū)動單元25被驅(qū)動，第一擠壓單元10和第二擠壓單元20在豎直方向DO上被下降。因此，第一擠壓單元10和第二擠壓單元20可以擠壓密封對象9，以使平行于第一方向Dl的密封圖案可形成在密封對象9上。當?shù)谝粩D壓單元10和第二擠壓單元20被下降時，由于第一擠壓單元10和第二擠壓單元20被定位在第三擠壓單元30和第四擠壓單元40的下側(cè)，盡管第一擠壓單元10和第二擠壓單元20與第三擠壓單元30和第四擠壓單元40在平面上部分重疊，但第一擠壓單元10和第二擠壓單元20不干涉第三擠壓單元30和第四擠壓單元40。 參照圖2B，第一擠壓單元10和第二擠壓單元20通過第一旋轉(zhuǎn)驅(qū)動單元18和第二旋轉(zhuǎn)驅(qū)動單元28繞豎直方向DO旋轉(zhuǎn)。結(jié)果，第一擠壓單元10和第二擠壓單元20被設(shè)置為平行于第三擠壓單元30和第四擠壓單元40，并在平面上與第三擠壓單元30和第四擠壓單兀40分隔開。參照圖2C，第三擠壓單元30和第四擠壓單元40通過第三線性驅(qū)動單元35和第四線性驅(qū)動單元45被下降。因此，第三擠壓單元30和第四擠壓單元40可以擠壓密封對象9，以使平行于第二方向D2的密封圖案可形成在密封對象9上。在第三擠壓單元30和第四擠壓單元40被下降前，如參照圖2B所描述，第一擠壓單元10和第二擠壓單元20被旋轉(zhuǎn)為平行于第三擠壓單元30和第四擠壓單元40。因此，第三擠壓單元30和第四擠壓單元40被下降，并且在第三擠壓單元30和第四擠壓單元40下降的過程中，不干涉第一擠壓單元10和第二擠壓單元20。再次參照圖1，為了使通過第一至第四擠壓單元10、20、30和40形成在密封對象9上的密封圖案不具有通向外部的形狀，第一擠壓單元10和第二擠壓單元20可被設(shè)置在與第三擠壓單元30和第四擠壓單元40部分重疊的位置。在這種情況下，第一擠壓單元10和第二擠壓單元20與第三擠壓單元30和第四擠壓單元40分離，以使在第三擠壓單元30和第四擠壓單元40的下降過程中，第三擠壓單元30和第四擠壓單元40不干涉第一擠壓單元10和第二擠壓單元20。因此，在一些實施例中，第一擠壓單元10和第二擠壓單元20旋轉(zhuǎn)并與第三擠壓單元30和第四擠壓單元40分隔開。在這樣的實施例中，在第三擠壓單元30和第四擠壓單元40下降的過程中，不用考慮將第一擠壓單元10和第二擠壓單元20移動到室5的兩側(cè)，也可方便地防止第三擠壓單元30和第四擠壓單元40干涉第一擠壓單元10和第二擠壓單元20。在為了防止干涉第三擠壓單元30和第四擠壓單元40而將第一擠壓單元10和第二擠壓單元20移動到室5的側(cè)邊的裝置中，需要與第一擠壓單元10和第二擠壓單元20聯(lián)接的兩個水平驅(qū)動軸以及與第三擠壓單元30和第四擠壓單元40聯(lián)接的兩個豎直驅(qū)動軸。這樣的裝置可能是復雜的。另外，由于穿過室5的驅(qū)動軸的數(shù)量增加了，可能不易于保持室5的真空環(huán)境。根據(jù)在此公開的實施例，由于第一擠壓單元10和第二擠壓單元20的每一個可通過使用與豎直驅(qū)動單元和旋轉(zhuǎn)驅(qū)動單元連接的單個驅(qū)動軸而被驅(qū)動，室5具有更加簡單的結(jié)構(gòu)。另外，穿過室5的驅(qū)動軸的數(shù)量的減少能夠更容易保持室5的真空環(huán)境。圖3為例示出基板密封裝置的另一個實施例的透視圖。在對圖3的描述中，對與參照圖I、圖2A和圖2C描述的元件具有相同附圖標記的元件的描述被省略。參照圖3，基板密封裝置201包括室5、下擠壓構(gòu)件和設(shè)置在下擠壓構(gòu)件上的上擠壓構(gòu)件。下擠壓構(gòu)件包括第一擠壓單元10和第二擠壓單元20。上擠壓構(gòu)件包括第三擠壓單元30和第四擠壓單元40。在圖3的基板密封裝置201中，第三擠壓單元30和第四擠壓單元40通過連接單元32彼此連接，并且連接單元32被連接到第三驅(qū)動軸33。第三驅(qū)動軸33穿出室5，并與在室5外部的第三線性驅(qū)動單元37聯(lián)接。因此，第三擠壓單元30和第四擠壓單元40可以通過第三線性驅(qū)動單元37在豎直方向DO上被同時線性移動。 根據(jù)上述結(jié)構(gòu)，由于第三擠壓單元30和第四擠壓單元40通過使用第三驅(qū)動軸33被同時線性移動，可以進一步減少穿過室5的驅(qū)動軸的數(shù)量。因此，基板密封裝置201的結(jié)構(gòu)可被進一步簡化，并且室5中的真空環(huán)境可以更易于獲得。圖4A為例示出圖I的基板密封裝置的實施例在預備密封基板上形成第一密封圖案的操作的俯視圖預備密封基板。圖4B為圖4A的側(cè)視圖。參照圖4A和圖4B，預備密封基板150被提供在保持真空環(huán)境的室5中的工作臺8上。預備密封基板150可以通過層壓密封膜110和施主膜130而形成，使得密封膜110在基板120的下方且施主膜130在基板120的上方。在一些實施例中，密封膜110可是基于塑料的柔性膜。在一些實施例中，當使用激光誘導熱成像方法在基板120上形成有機發(fā)光層(未不出)時，包括有機發(fā)光層(未不出)的轉(zhuǎn)移層(未示出)可被形成在施主膜130上。在密封膜110和施主膜130被擠壓前，施主膜130的側(cè)邊可以被提供在托盤140中的牽引設(shè)備牽引。于是，施主膜130保持平整，以使施主膜130、基板120和密封膜110之間的排列可以是穩(wěn)定的。電流被供給到第一擠壓單元10和第二擠壓單元20，以使第一擠壓單元10和第二擠壓單元20被加熱，第一線性驅(qū)動單元15和第二線性驅(qū)動單元25被驅(qū)動以使第一擠壓單元10和第二擠壓單元20沿豎直方向DO下降，以使施主膜130的上表面被擠壓。結(jié)果，由第一擠壓單元10和第二擠壓單元20供給的熱和壓力使施主膜130和密封膜110彼此聯(lián)接，以形成平行于第一方向Dl的第一組兩個密封圖案SI (參見圖5A)。圖5A為例示出圖I的基板密封裝置的實施例在預備密封基板上形成第二密封圖案的操作的俯視圖。圖5B為圖5A的側(cè)視圖。參照圖5A和圖5B,在形成第一密封圖案SI后,第一擠壓單兀10和第二擠壓單兀20在豎直方向DO上被上升，如上參照圖2B所述，第一旋轉(zhuǎn)驅(qū)動單元18和第二旋轉(zhuǎn)驅(qū)動單元28被驅(qū)動以繞豎直方向DO旋轉(zhuǎn)第一擠壓單元10和第二擠壓單元20。于是，第一擠壓單元10和第二擠壓單元20的每一個被設(shè)置為大約平行于第二方向D2。第三線性驅(qū)動單元35和第四線性驅(qū)動單元45被驅(qū)動以使第三擠壓單元30和第四擠壓單元40沿豎直方向DO下降，以使施主膜130的上表面被擠壓。結(jié)果，由第三擠壓單元30和第四擠壓單元40供給的熱和壓力使施主膜130和密封膜110彼此聯(lián)接，以形成平行于第二方向D2的第二組兩個密封圖案S2 (參見圖6A)。
圖6A為例示出通過在圖4A、圖4B、圖5A和圖5B的預備密封基板上形成密封圖案而完成的密封基板的實施例的俯視圖。圖6B為例示出沿圖6A的線1-1’截取的面的截面圖。參考圖6A，根據(jù)參照圖4A、圖4B、圖5A和圖5B的描述，預備密封基板150被密封以完成密封基板155。在密封基板155上,形成了在第一方向上延伸的第一組兩個密封圖案SI和在第二方向D2上延伸的第二組兩個密封圖案S2。第一密封圖案SI和第二密封圖案S2在平面上彼此部分重疊。參照圖6B，施主膜130和密封膜110延伸到基板120的側(cè)邊以封閉基板120，延伸的施主膜130和密封膜110通過熱和壓力被彼此結(jié)合，從而形成第一密封圖案SI。盡管沒有在附圖中描述，激光被投射到形成第一和第二密封圖案SI和S2的密封基板155上，從而施主膜130的轉(zhuǎn)移層被轉(zhuǎn)移到基板120。結(jié)果，包括有機發(fā)光層的轉(zhuǎn)移層 被轉(zhuǎn)移到形成陽極電極(未示出)的基板120上，從而有機發(fā)光層可以在陽極電極上形成。盡管已經(jīng)結(jié)合特定實施例對本發(fā)明進行了描述，應該理解的是，本發(fā)明不限于所公開的實施例，而是，相反地，意欲覆蓋包括所附權(quán)利要求的精神和范圍內(nèi)的各種修改和等同的設(shè)置，及其等價物。
權(quán)利要求
1.一種用于密封基板的裝置，包括 室; 提供在所述室中的至少一個下擠壓構(gòu)件，包括用于輻射熱的擠壓表面，所述至少一個下擠壓構(gòu)件被配置為在相對于所述擠壓表面的豎直方向上被上升和下降，并被配置為繞所述豎直方向旋轉(zhuǎn)；以及 上擠壓構(gòu)件，所述上擠壓構(gòu)件提供在所述至少一個下擠壓構(gòu)件上，包括用于輻射熱的擠壓表面，并被配置為在所述豎直方向上被上升和下降。
2.如權(quán)利要求I所述的用于密封基板的裝置，其中所述室的內(nèi)部為真空。
3.如權(quán)利要求I所述的用于密封基板的裝置，其中所述至少一個下擠壓構(gòu)件包括 第一擠壓單元； 與所述第一擠壓單元聯(lián)接的第一驅(qū)動軸； 第一線性驅(qū)動單元，該第一線性驅(qū)動單元在所述室的外部與所述第一驅(qū)動軸聯(lián)接，并且在所述豎直方向上驅(qū)動所述第一擠壓單元； 第一旋轉(zhuǎn)驅(qū)動單元，該第一旋轉(zhuǎn)驅(qū)動單元在所述室的外部與所述第一驅(qū)動軸聯(lián)接，并且使所述第一擠壓單元繞所述豎直方向旋轉(zhuǎn)； 與所述第一擠壓單元分隔開的第二擠壓單元； 與所述第二擠壓單元聯(lián)接的第二驅(qū)動軸； 第二線性驅(qū)動單元，該第二線性驅(qū)動單元在所述室的外部與所述第二驅(qū)動軸聯(lián)接，并且在所述豎直方向上驅(qū)動所述第二擠壓單元；以及 第二旋轉(zhuǎn)驅(qū)動單元，該第二旋轉(zhuǎn)驅(qū)動單元在所述室的外部與所述第二驅(qū)動軸聯(lián)接，并且使所述第二擠壓單元繞所述豎直方向旋轉(zhuǎn)。
4.如權(quán)利要求I所述的用于密封基板的裝置，其中所述上擠壓構(gòu)件包括 第三擠壓單元； 與所述第三擠壓單元聯(lián)接的第三驅(qū)動軸； 第三線性驅(qū)動單元，該第三線性驅(qū)動單元在所述室的外部與所述第三驅(qū)動軸聯(lián)接，并且在所述豎直方向上驅(qū)動所述第三擠壓單元； 與所述第三擠壓單元分隔開的第四擠壓單元； 與所述第四擠壓單元聯(lián)接的第四驅(qū)動軸；以及 第四線性驅(qū)動單元，該第四線性驅(qū)動單元在所述室的外部與所述第四驅(qū)動軸聯(lián)接，并且在所述豎直方向上驅(qū)動所述第四擠壓單元。
5.如權(quán)利要求3所述的用于密封基板的裝置，其中所述上擠壓構(gòu)件包括 第三擠壓單元； 與所述第三擠壓單元聯(lián)接的第三驅(qū)動軸； 第三線性驅(qū)動單元，該第三線性驅(qū)動單元在所述室的外部與所述第三驅(qū)動軸聯(lián)接，并且在所述豎直方向上驅(qū)動所述第三擠壓單元； 與所述第三擠壓單元分隔開的第四擠壓單元； 與所述第四擠壓單元聯(lián)接的第四驅(qū)動軸；以及 第四線性驅(qū)動單元，該第四線性驅(qū)動單元在所述室的外部與所述第四驅(qū)動軸聯(lián)接，并且在所述豎直方向上驅(qū)動所述第四擠壓單元。
6.如權(quán)利要求5所述的用于密封基板的裝置，其中所述第三擠壓單元和所述第四擠壓單元彼此平行，并且所述第一擠壓單元和所述第二擠壓單元通過所述第一旋轉(zhuǎn)驅(qū)動單元和所述第二旋轉(zhuǎn)驅(qū)動單元被旋轉(zhuǎn)，以與所述第三擠壓單元和所述第四擠壓單元在平面上部分重疊或分隔開。
7.如權(quán)利要求I所述的用于密封基板的裝置，其中所述上擠壓構(gòu)件包括 第三擠壓單元； 與所述第三擠壓單元分隔開的第四擠壓單元； 將所述第三擠壓單元連接到所述第四擠壓單元的連接單元； 與所述連接單元聯(lián)接的第三驅(qū)動軸；以及 第三線性驅(qū)動單元，該第三豎直驅(qū)動單元在所述室的外部與所述第三驅(qū)動軸聯(lián)接，并且在所述豎直方向上移動所述第三擠壓單元和所述第四擠壓單元。
8.—種密封基板的方法，其使用提供在室內(nèi)的下擠壓構(gòu)件和提供在所述下擠壓構(gòu)件上的上擠壓構(gòu)件來密封所述基板，該方法包括 在所述室中提供預備密封基板； 下降所述下擠壓構(gòu)件以初次擠壓所述預備密封基板； 上升所述下擠壓構(gòu)件； 繞所述下擠壓構(gòu)件上升所沿的軸線旋轉(zhuǎn)所述下擠壓構(gòu)件，以將所述下擠壓構(gòu)件與所述上擠壓構(gòu)件在平面上分隔開；以及 下降所述上擠壓構(gòu)件以再次擠壓所述預備密封基板。
9.如權(quán)利要求8所述的密封基板的方法，其中，當所述預備密封基板被初次擠壓時，所述下擠壓構(gòu)件被設(shè)置為平行于所述預備密封基板的第一方向，從而第一密封圖案沿所述預備密封基板的所述第一方向形成在所述預備密封基板上。
10.如權(quán)利要求8所述的密封基板的方法，其中，當所述預備密封基板被再次擠壓時，所述上擠壓構(gòu)件被設(shè)置在所述預備密封基板的第二方向上，從而第二密封圖案沿所述第二方向形成在所述預備密封基板上。
11.如權(quán)利要求8所述的密封基板的方法，其中有多個所述下擠壓構(gòu)件和多個所述上擠壓構(gòu)件，從而多個第一密封圖案和多個第二密封圖案形成在所述預備密封基板上，并使所述多個第一密封圖案與所述多個第二密封圖案部分重疊。
12.如權(quán)利要求8所述的密封基板的方法，其中所述預備密封基板通過將基板插入密封膜和施主膜之間并層壓所述密封膜和所述施主膜而形成，并且多個第一密封圖案和多個第二密封圖案中的每一個被形成，所述多個第一密封圖案和所述多個第二密封圖案中的每一個被形成在所述預備密封基板上，所述多個第一密封圖案和所述多個第二密封圖案中的每一個的形成使所述密封膜與所述施主膜結(jié)合。
13.如權(quán)利要求12所述的密封基板的方法，其中所述多個第一密封圖案形成為與沿所述預備密封基板的第一方向延伸的兩側(cè)分別對應，所述多個第二密封圖案形成為與沿所述預備密封基板的第二方向延伸的兩側(cè)分別對應，并且所述多個第一密封圖案與所述多個第二密封圖案在平面上部分重疊。
14.如權(quán)利要求8所述的密封基板的方法，進一步包括向所述上擠壓構(gòu)件和所述下擠壓構(gòu)件中的每一個供給電流以加熱所述上擠壓構(gòu)件和所述下擠壓構(gòu)件。
15.如權(quán)利要求8所述的密封基板的方法，其中所述室的內(nèi)部為真空。
全文摘要
本發(fā)明涉及基板密封裝置和使用該基板密封裝置密封基板的方法。具體地，一種基板密封裝置，包括室、至少一個下擠壓構(gòu)件和至少一個上擠壓構(gòu)件。所述下擠壓構(gòu)件包括用于輻射熱的擠壓表面，被配置為在相對于所述擠壓表面的豎直方向上被上升和下降，并且繞豎直方向旋轉(zhuǎn)。所述上擠壓構(gòu)件包括用于輻射熱的擠壓表面，并被配置為在所述豎直方向上被上升和下降。
文檔編號H01L51/52GK102856512SQ20121019904
公開日2013年1月2日 申請日期2012年6月14日 優(yōu)先權(quán)日2011年6月29日
發(fā)明者金東述 申請人:三星顯示有限公司