專利名稱：裝料管機(jī)的旋轉(zhuǎn)盤的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體封裝設(shè)備制造技術(shù)領(lǐng)域，更具體地說(shuō)，涉及一種裝料管機(jī)的旋轉(zhuǎn)盤。
背景技術(shù)：
裝料管機(jī)是將UV TAP (藍(lán)膜)上切割好的半導(dǎo)體晶體管從片環(huán)框盒中推入到UV TAP上料臺(tái)上，并通過(guò)旋轉(zhuǎn)盤上的真空吸嘴將半導(dǎo)體晶體管吸起，旋轉(zhuǎn)盤的旋轉(zhuǎn)實(shí)現(xiàn)將真空吸嘴上的半導(dǎo)體晶體管運(yùn)輸?shù)讲煌恼緞e工序進(jìn)行光檢，最后定位分選后編入料管。在上述裝料管機(jī)的工作過(guò)程中，旋轉(zhuǎn)盤是實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體晶體管進(jìn)行光檢的輸送部件，其包括氣缸、設(shè)置氣缸頂部的真空連接口和設(shè)置在氣缸底部邊緣的多個(gè)真空吸嘴組成， 在工作的過(guò)程中，每個(gè)真空連接口通過(guò)管道與多個(gè)真空吸嘴相連通，從而實(shí)現(xiàn)真空吸嘴將上料臺(tái)上的半導(dǎo)體晶體管吸起，進(jìn)而在整個(gè)旋轉(zhuǎn)盤的旋轉(zhuǎn)過(guò)程中，輸送半導(dǎo)體晶體管進(jìn)行光檢等操作。上述的旋轉(zhuǎn)盤上的真空連接口設(shè)置在氣缸的頂部，真空吸嘴設(shè)置在氣缸的底部， 每個(gè)真空吸嘴上設(shè)置有馬達(dá)，通過(guò)馬達(dá)的驅(qū)動(dòng)實(shí)現(xiàn)真空吸嘴下降，并將半導(dǎo)體晶體管吸起， 該種旋轉(zhuǎn)盤需要管道從氣缸的頂端的真空連接口一直連接到氣缸的底部的真空吸嘴上，真空運(yùn)送的路線比較長(zhǎng)，在運(yùn)送的過(guò)程中泄露、丟失的真空越多，使得真空吸嘴的真空吸起壓力不夠，甚至不能將半導(dǎo)體晶體管完全地吸起。

實(shí)用新型內(nèi)容有鑒于此，本實(shí)用新型提供了一種裝料管機(jī)的旋轉(zhuǎn)盤，以降低現(xiàn)有的裝料管機(jī)的旋轉(zhuǎn)盤的管道的真空損失。為了達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型實(shí)施例提供如下技術(shù)方案一種裝料管機(jī)的旋轉(zhuǎn)盤，包括氣缸，其底部的端面上設(shè)置有真空連接口 ；設(shè)置在所述氣缸底部的邊緣上的多個(gè)真空吸嘴，所述真空吸嘴上設(shè)置有馬達(dá)；管道，所述管道的一端與所述真空連接口相連通，另一端與所述真空吸嘴相連通。優(yōu)選的，上述裝料管機(jī)的旋轉(zhuǎn)盤中，所述氣缸為圓筒狀氣缸。優(yōu)選的，上述裝料管機(jī)的旋轉(zhuǎn)盤中，所述真空連接口為多個(gè)，且均勻地設(shè)置在所述氣缸的底部的端面上。優(yōu)選的，上述裝料管機(jī)的旋轉(zhuǎn)盤中，所述真空連接口的數(shù)量為4個(gè)。本實(shí)用新型實(shí)施例提供的裝料管機(jī)的旋轉(zhuǎn)盤中，將真空連接口設(shè)置在氣缸的底部的端面上，管道的一端與真空連接口相連接，另一端與設(shè)置在氣缸底部的邊緣上的真空吸嘴相連接，由于真空連接口與真空吸嘴均設(shè)置在氣缸的底部，與現(xiàn)有技術(shù)相比，避免了管道的一端與氣缸的頂部的真空連接口相連接，另一端與氣缸的底部的真空吸嘴相連通而導(dǎo)致的管道過(guò)長(zhǎng)造成的真空損失，本實(shí)用新型實(shí)施例提供的裝料管機(jī)的旋轉(zhuǎn)盤上的真空連接口
3和真空吸嘴均設(shè)置在氣缸的底部，必然縮短了連接兩者之間的管道的距離，降低了管道的真空損失，提高了真空吸嘴對(duì)半導(dǎo)體晶體管的吸附力，同時(shí)管路的縮短也節(jié)約了管路的耗材，節(jié)約了成本。

為了更清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的裝料管機(jī)的部分結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型的一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。本實(shí)用新型提供了一種裝料管機(jī)的旋轉(zhuǎn)盤，降低了現(xiàn)有的裝料管機(jī)在工作過(guò)程中的真空損失。請(qǐng)參考附圖1，圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的裝料管機(jī)的旋轉(zhuǎn)盤的部分結(jié)構(gòu)示意圖。本實(shí)用新型實(shí)施例提供的裝料管機(jī)的旋轉(zhuǎn)盤，包括氣缸、多個(gè)真空吸嘴2和管道 (如中未示出)，其中氣缸的頂部設(shè)置在機(jī)架1上，氣缸的底部的端面上設(shè)置有真空連接口 3 ；多個(gè)真空吸嘴2均勻地設(shè)置在氣缸底部的邊緣上，每一個(gè)真空吸嘴2上設(shè)置有馬達(dá)，馬達(dá)實(shí)現(xiàn)真空吸嘴的上下震動(dòng)，真空吸嘴2處于最低位置時(shí)，將上料臺(tái)上的半導(dǎo)體晶體管吸起；管道的一端與真空連接口 3相連通，另一端與真空吸嘴2相連通。本實(shí)用新型實(shí)施例中提供的裝料管機(jī)的旋轉(zhuǎn)盤中，旋轉(zhuǎn)盤在旋轉(zhuǎn)的過(guò)程中，馬達(dá)使得真空吸嘴處于最低位置時(shí)，將上料臺(tái)上的半導(dǎo)體晶體管吸起，隨著旋轉(zhuǎn)盤的旋轉(zhuǎn)將半導(dǎo)體晶體管輸送到各個(gè)位置進(jìn)行光檢，本實(shí)用新型實(shí)施例提供的旋轉(zhuǎn)盤中，將真空連接口設(shè)置在氣缸的底部的端面上，管道的一端與真空連接口相連接，另一端與設(shè)置在氣缸底部的邊緣上的真空吸嘴相連接，由于真空連接口與真空吸嘴均設(shè)置在氣缸的底部，與現(xiàn)有技術(shù)相比，避免了管道的一端與氣缸的頂部的真空連接口相連接，另一端與氣缸的底部的真空吸嘴相連通而導(dǎo)致的管道過(guò)長(zhǎng)造成的真空損失，本實(shí)用新型實(shí)施例提供的裝料管機(jī)的旋轉(zhuǎn)盤上的真空連接口和真空吸嘴均設(shè)置在氣缸的底部，必然縮短了連接兩者之間的管道的距離，降低了管道的真空損失，提高了真空吸嘴對(duì)半導(dǎo)體晶體管的吸附力。同時(shí)，上述裝料管機(jī)的旋轉(zhuǎn)盤中，縮短了管路的長(zhǎng)度，進(jìn)而節(jié)約了旋轉(zhuǎn)盤的成本。為了進(jìn)一步優(yōu)化上述的技術(shù)方案，本實(shí)用新型實(shí)施例中提供的裝料管機(jī)的旋轉(zhuǎn)盤中，氣缸優(yōu)選的為圓筒狀氣缸。[0027]上述實(shí)施例中提供的裝料管機(jī)的旋轉(zhuǎn)盤中，真空連接口可以為多個(gè)，也可以為一個(gè)，管道將真空連接口與真空吸嘴連通，從而實(shí)現(xiàn)真空吸嘴的真空吸附，為了進(jìn)一步優(yōu)化上述技術(shù)方案，上述真空連接口為多個(gè)，且均勻地設(shè)置在氣缸的底部的端面上。請(qǐng)參考附圖2，本實(shí)施例中提供的裝料管機(jī)的旋轉(zhuǎn)盤中，真空連接口的數(shù)量為4 個(gè)。對(duì)所公開(kāi)的實(shí)施例的上述說(shuō)明，使本領(lǐng)域?qū)I(yè)技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)或使用本實(shí)用新型。對(duì)這些實(shí)施例的多種修改對(duì)本領(lǐng)域的專業(yè)技術(shù)人員來(lái)說(shuō)將是顯而易見(jiàn)的，本文中所定義的一般原理可以在不脫離本實(shí)用新型的精神或范圍的情況下，在其它實(shí)施例中實(shí)現(xiàn)。因此，本實(shí)用新型將不會(huì)被限制于本文所示的這些實(shí)施例，而是要符合與本文所公開(kāi)的原理和新穎特點(diǎn)相一致的最寬的范圍。
權(quán)利要求1.一種裝料管機(jī)的旋轉(zhuǎn)盤，其特征在于，包括 氣缸，其底部的端面上設(shè)置有真空連接口；設(shè)置在所述氣缸底部的邊緣上的多個(gè)真空吸嘴，所述真空吸嘴上設(shè)置有馬達(dá)； 管道，所述管道的一端與所述真空連接口相連通，另一端與所述真空吸嘴相連通。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝料管機(jī)的旋轉(zhuǎn)盤，其特征在于，所述氣缸為圓筒狀氣缸。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝料管機(jī)的旋轉(zhuǎn)盤，其特征在于，所述真空連接口為多個(gè)，且均勻地設(shè)置在所述氣缸的底部的端面上。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝料管機(jī)的旋轉(zhuǎn)盤，其特征在于，所述真空連接口的數(shù)量為4個(gè)。
專利摘要本實(shí)用新型實(shí)施例公開(kāi)了一種裝料管機(jī)的旋轉(zhuǎn)盤，包括氣缸，其底部的端面上設(shè)置有真空連接口；設(shè)置在所述氣缸底部的邊緣上的多個(gè)真空吸嘴，所述真空吸嘴上設(shè)置有馬達(dá)；管道，所述管道的一端與所述真空連接口相連通，另一端與所述真空吸嘴相連通。本實(shí)用新型實(shí)施例提供的裝料管機(jī)的旋轉(zhuǎn)盤上的真空連接口和真空吸嘴均設(shè)置在氣缸的底部，必然縮短了連接兩者之間的管道的距離，降低了管道的真空損失，提高了真空吸嘴對(duì)半導(dǎo)體晶體管的吸附力。
文檔編號(hào)H01L21/67GK202025728SQ20112002993
公開(kāi)日2011年11月2日 申請(qǐng)日期2011年1月28日 優(yōu)先權(quán)日2011年1月28日
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