專利名稱：一種復合氣浮裝置及使用復合氣浮裝置的硅片臺移動裝置的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及集成電路制造領域，尤其涉及一種復合氣浮裝置及使用復合氣浮 裝置的硅片臺移動裝置。
背景技術：
微電子技術的發(fā)展促進了計算機技術、通信技術和其它電子信息技術的更新?lián)Q 代，在信息產(chǎn)業(yè)革命中起著重要的先導和基礎作用。生產(chǎn)設備在整個微電子行業(yè)中扮演著 舉足輕重的角色，而在微電子器件的制造設備中，投資最大、作用最關鍵的是光刻設備。在光刻機整機系統(tǒng)集成過程中或者由于硅片臺的故障維修或定期維修維護工作， 按照裝配流程的要求，需要頻繁地將硅片臺移至光刻機主體以外或恢復原來的位置。整個 硅片臺在與整機重新裝配時，需要保證一定的重復定位精度，從而保證其在整機中的相對 位置精度。整個硅片臺的移動結構大多采用非導向性的滾輪結構，這種滾輪結構定位精度 差、調(diào)整煩瑣，并且伴隨著抖動。因此，提供一種低摩擦力、高穩(wěn)定性及高位移定位精度的硅片臺移動裝置已成為 業(yè)界亟需解決的一個問題。

實用新型內(nèi)容本實用新型的目的在于提供一種復合氣浮裝置，以解決目前非導向性的滾輪結構 定位精度差、調(diào)整煩瑣、伴隨著抖動的問題。本實用新型的另一目的在于提供一種使用復合氣浮裝置的硅片臺移動裝置，以解 決目前硅片臺的移動結構采用非導向性的滾輪結構，定位精度差、調(diào)整煩瑣、伴隨著抖動的 問題。為解決上述問題，本實用新型提出一種復合氣浮裝置，所述復合氣浮裝置包括氣缸缸體，所述氣缸缸體的缸徑端開有一缸體型腔，所述缸體型腔的底部開有透 空環(huán)槽，所述氣缸缸體外接氣缸氣源；氣浮柱塞桿，所述氣浮柱塞桿位于所述氣缸缸體內(nèi)，并在所述氣缸缸體內(nèi)移動，所 述氣浮柱塞桿為一包括底部圓柱體及頂部圓柱體的截面呈“凸”形的圓臺體結構，所述氣浮 柱塞桿底部圓柱體的外部開有第一環(huán)槽及第二環(huán)槽，所述頂部圓柱體的外部沿直徑方向開 有多個第一通孔，所述多個第一通孔在所述頂部圓柱體的中心位置處相通，所述第一通孔 外接氣浮柱塞桿氣源，所述頂部圓柱體的頂部圓面的外圍開有多個氣浮孔，所述氣浮孔與 所述第一通孔相連；密封圈，所述密封圈套在所述氣浮柱塞桿的第一環(huán)槽上；導向環(huán)，所述導向環(huán)套在所述氣浮柱塞桿的第二環(huán)槽上；以及多個螺旋彈簧，所述螺旋彈簧的第一端與所述氣浮柱塞桿相連，第二端與所述氣 缸缸體相連?？蛇x的，所述氣缸缸體外部的豎直方向開有兩個對稱的第二扁勢面，所述兩個對
4稱的第二扁勢面上分別開有一第二通孔，所述第二通孔連接所述第二扁勢面與所述透空環(huán) 槽，所述氣缸氣源接在所述第二通孔處。可選的，所述氣缸氣源通過雙向速度控制閥接在所述第二通孔處?？蛇x的，所述氣缸缸體的頂部開有一缺口。可選的，所述多個第一通孔中的一個第一通孔與所述氣缸缸體頂部的缺口相對?？蛇x的，還包括一壓環(huán)，所述壓環(huán)為一片狀的圓環(huán)柱體結構，所述壓環(huán)上開有一開 口，所述壓環(huán)固定到所述氣缸缸體，使得所述壓環(huán)上的開口與所述氣缸缸體頂部的缺口在 同一豎直方向上?？蛇x的，所述螺旋彈簧的第二端通過所述壓環(huán)與所述氣缸缸體相連?？蛇x的，所述氣浮柱塞桿頂部圓柱體的外部開有多個均勻分布的第一扁勢面，所 述第一通孔開在所述第一扁勢面上?？蛇x的，所述每個第一通孔連接兩個氣浮孔，所述第一通孔的深度小于所述頂部 圓柱體的直徑?？蛇x的，所述第一扁勢面的數(shù)量為三個，所述第一通孔的數(shù)量為三個，所述氣浮孔 的數(shù)量為六個。可選的，所述第一通孔通過不銹鋼快換接頭外接所述氣浮柱塞桿氣源?？蛇x的，所述氣浮柱塞桿的底部設有一減輕孔。可選的，所述導向環(huán)為一薄壁圓環(huán)?？蛇x的，所述密封圈為一圓環(huán)結構，其內(nèi)圈的橫截面為多半圓面，外圈的橫截面為 矩形面，圓環(huán)的上端面和下端面由圓弧凹槽面組成。為解決上述問題，本實用新型還提出一種使用復合氣浮裝置的硅片臺移動裝置， 所述使用復合氣浮裝置的硅片臺移動裝置包括承重平臺，所述承重平臺上設有三個等高柱、兩條導軌以及一連桿副推力結構；硅片臺，所述硅片臺的底部設有滾輪副，所述滾輪副在所述導軌上滾動；以及多個復合氣浮裝置，所述復合氣浮裝置固定在所述硅片臺的底部，所述復合氣浮 裝置的氣浮孔與所述承重平臺相對?？蛇x的，所述等高柱塊的高度比所述復合氣浮裝置的厚度大1. 5mm。與現(xiàn)有技術相比，本實用新型所提供的復合氣浮裝置包括氣缸缸體及在所述氣缸 缸體內(nèi)移動的氣浮柱塞桿，所述氣浮柱塞桿的頂面均勻設置了多個氣浮孔，所述氣缸缸體 外接氣缸氣源，所述氣浮柱塞桿外接氣浮柱塞桿氣源，使得所述氣浮柱塞桿在所述氣缸缸 體內(nèi)移動的同時，所述氣浮柱塞桿的頂面形成氣浮面，從而減小了摩擦，提高了穩(wěn)定性和定 位精度。與現(xiàn)有技術相比，本實用新型所提供的使用復合氣浮裝置的硅片臺移動裝置包括 承重平臺、硅片臺以及多個復合氣浮裝置，接通氣源時，所述氣浮柱塞桿的頂面與承重平臺 的表面形成氣浮面，支撐所述硅片臺在所述承重平臺上移動，從而減小了摩擦，提高了穩(wěn)定 性和定位精度。

圖1為本實用新型實施例提供的復合氣浮裝置的三維示意圖；[0034]圖2為本實用新型實施例提供的復合氣浮裝置中的氣缸缸體的三維示意圖；圖3為本實用新型實施例提供的復合氣浮裝置中的氣浮柱塞桿的三維示意圖；圖4為本實用新型實施例提供的復合氣浮裝置中的氣浮柱塞桿的剖面圖；圖5為本實用新型實施例提供的復合氣浮裝置中嵌裝了導向環(huán)和密封圈的氣浮 柱塞桿的三維示意圖；圖6為本實用新型實施例提供的使用復合氣浮裝置的硅片臺移動裝置的三維示 意圖；圖7為本實用新型實施例提供的使用復合氣浮裝置的硅片臺移動裝置中的承重 平臺的三維示意圖。
具體實施方式
以下結合附圖和具體實施例對本實用新型提出的復合氣浮裝置以及使用復合氣 浮裝置的硅片臺移動裝置作進一步詳細說明。根據(jù)下面說明和權利要求書，本實用新型的 優(yōu)點和特征將更清楚。需說明的是，附圖均采用非常簡化的形式且均使用非精準的比率，僅 用于方便、明晰地輔助說明本實用新型實施例的目的。本實用新型的核心思想在于，提供一種復合氣浮裝置，該復合氣浮裝置包括氣缸 缸體及在所述氣缸缸體內(nèi)移動的氣浮柱塞桿，所述氣浮柱塞桿的頂面均勻設置了多個氣浮 孔，所述氣缸缸體外接氣缸氣源，所述氣浮柱塞桿外接氣浮柱塞桿氣源，使得所述氣浮柱塞 桿在所述氣缸缸體內(nèi)移動的同時，所述氣浮柱塞桿的頂面形成氣浮面，從而減小了摩擦，提 高了穩(wěn)定性和定位精度。同時還提供一種使用復合氣浮裝置的硅片臺移動裝置，該使用復 合氣浮裝置的硅片臺移動裝置包括承重平臺、硅片臺以及多個復合氣浮裝置，接通氣源時， 所述氣浮柱塞桿的頂面與承重平臺的表面形成氣浮面，支撐所述硅片臺在所述承重平臺上 移動，從而減小了摩擦，提高了穩(wěn)定性和定位精度。請參考圖1，圖1為本實用新型實施例提供的復合氣浮裝置的三維示意圖，如圖1 所示，所述復合氣浮裝置10包括氣缸缸體100、氣浮柱塞桿200、密封圈、導向環(huán)以及螺旋彈 簧，所述密封圈及所述導向環(huán)套在所述氣浮柱塞桿200上，所述螺旋彈簧的第一端與所述 氣浮柱塞桿200相連，第二端與所述氣缸缸體100相連，所述氣浮柱塞桿200在所述氣缸缸 體100內(nèi)移動，所述氣缸缸體100外接接氣缸氣源，所述氣浮柱塞桿200外接氣浮柱塞桿氣 源。請繼續(xù)參考圖2，圖2為本實用新型實施例提供的復合氣浮裝置中的氣缸缸體的 三維示意圖，如圖2所示，所述氣缸缸體100的缸徑端開有一缸體型腔，所述缸體型腔的底 部開有透空環(huán)槽105，所述氣缸缸體100外部的豎直方向開有兩個對稱的第二扁勢面101， 所述兩個對稱的第二扁勢面101上分別開有一第二通孔104，所述第二通孔104連接所述第 二扁勢面101與所述透空環(huán)槽105，所述氣缸氣源通過雙向速度控制閥103接在所述第二 通孔104處，所述雙向速度控制閥103請參考圖1。所述透空環(huán)槽105的作用為一方面， 使所述氣浮柱塞桿200在不工作時更好的收到所述氣缸缸體100的底部；另一方面，當所述 氣缸缸體100接通氣源時，所述氣源的氣體首先進入所述透空環(huán)槽105，隨后再分布到所述 氣浮柱塞桿200的底部，從而使所述氣浮柱塞桿200的受力更均勻，防止其在所述氣缸缸體 200內(nèi)晃動。[0044]并且，所述氣缸缸體100的頂部開有一缺口 102。請繼續(xù)參考圖3至圖4，其中，圖3為本實用新型實施例提供的復合氣浮裝置中的 氣浮柱塞桿的三維示意圖，圖4為本實用新型實施例提供的復合氣浮裝置中的氣浮柱塞桿 的剖面圖，如圖3至圖4所示，所述氣浮柱塞桿200為一包括底部圓柱體及頂部圓柱體的截 面呈“凸”形的圓臺體結構，所述氣浮柱塞桿200底部圓柱體的外部開有第一環(huán)槽206及第 二環(huán)槽205，所述氣浮柱塞桿200頂部圓柱體的外部開有3個均勻分布的第一扁勢面202， 并且所述每個第一扁勢面202沿直徑方向開有1個第一通孔203，所述3個第一通孔203在 所述頂部圓柱體的中心位置處相通，所述第一通孔203通過不銹鋼快換接頭201外接所述 氣浮柱塞桿氣源，所述不銹鋼快換接頭201請參考圖1 ；所述頂部圓柱體的頂部圓面的外圍 開有多個氣浮孔204，所述氣浮孔204與所述第一通孔203相連，使得所述氣浮柱塞桿氣源 進入所述第一通孔203后可從所述氣浮孔204出去，從而在所述氣浮柱塞桿200的頂部形 成氣浮面。其中，所述第一通孔203為超長螺紋孔，所述每個第一通孔203連接兩個氣浮孔 204，并且所述第一通孔203的深度小于所述頂部圓柱體的直徑。并且，所述氣浮柱塞桿200的底部設有一減輕孔210，所述減輕孔一方面能減輕所 述氣浮柱塞桿200的重量，使其更好的移動，另一方面，當所述復合氣浮裝置10處于工作狀 態(tài)時，所述減輕孔210內(nèi)注入氣體，從而保持所述氣浮柱塞桿200運行的穩(wěn)定性。所述氣浮柱塞桿200在所述氣缸缸體100內(nèi)移動的有效行程為2mm。本實用新型所提供的復合氣浮裝置10的安裝使用方法為(1)將所述密封圈209套在所述氣浮柱塞桿200的第一環(huán)槽206上，所述導向環(huán) 208套在所述氣浮柱塞桿200的第二環(huán)槽205上；(2)將裝了所述密封圈209及導向環(huán)208的氣浮柱塞桿200裝入所述氣缸缸體100 內(nèi)，使所述氣浮柱塞桿200的一個第一通孔203對準所述氣缸缸體100頂部的缺口 102 ；(3)將所述螺旋彈簧的第一端嵌裝到所述氣浮柱塞桿200的彈簧定位孔207內(nèi)，第 二端嵌裝到壓環(huán)300內(nèi)，并施壓利用開槽沉頭螺釘將所述壓環(huán)300固定到所述氣缸缸體100 的頂部，同時使所述壓環(huán)300上的開口 301與所述氣缸缸體100頂部的缺口 102在同一豎 直方向上；(4)將所述雙向速度控制閥103安裝到所述氣缸缸體100上，將所述不銹鋼快換接 頭201透過壓環(huán)300的開口 301安裝到氣浮柱塞桿200上，所述雙向速度控制閥103與氣 缸氣源相連，所述氣缸氣源通過第二通孔104進入到所述氣缸缸體內(nèi)，所述不銹鋼快換接 頭201與氣浮柱塞桿氣源相連，所述氣浮柱塞桿氣源通過第一通孔203進入到所述氣浮柱 塞桿200內(nèi)；(5)接通氣缸氣源，所述氣缸氣源進入到所述透空環(huán)槽105，隨后在氣體的作用 下，所述氣浮柱塞缸200緩緩推出，接著接通氣浮柱塞桿氣源，使氣浮柱塞桿200的頂面形 成氣浮面；(6)使用結束時，先切斷所述氣浮柱塞桿氣源，再切斷所述氣缸氣源，所述氣浮柱 塞桿200在所述螺旋彈簧的作用下緩緩回縮。請繼續(xù)參考圖5，圖5為本實用新型實施例提供的復合氣浮裝置中嵌裝了導向環(huán) 和密封圈的氣浮柱塞桿的三維示意圖，如圖5所示，所述密封圈209套在所述氣浮柱塞桿200的第一環(huán)槽206上，所述導向環(huán)208套在所述氣浮柱塞桿200的第二環(huán)槽205上。所述 導向環(huán)208為一薄壁圓環(huán)。所述密封圈209為一圓環(huán)結構，其內(nèi)圈的橫截面為多半圓面，外 圈的橫截面為矩形面，圓環(huán)的上端面和下端面由圓弧凹槽面組成。并且，所述復合氣浮裝置10還包括一壓環(huán)300，如圖1所示。所述壓環(huán)300為一 片狀的圓環(huán)柱體結構，所述壓環(huán)300上開有一開口 301，所述壓環(huán)300固定到所述氣缸缸體 100的頂部，使得所述壓環(huán)300上的開口 301與所述氣缸缸體100頂部的缺口 102在同一豎 直方向上。同時，所述氣浮柱塞桿200上的一個第一通孔203與所述氣缸缸體200頂部的 缺口 201相對，以使所述第一通孔203能方便地連接所述不銹鋼快換接頭201。并且，所述氣浮柱塞桿200上開有6個彈簧定位孔207，如圖3所示。所述螺旋彈 簧的第一端通過所述彈簧定位孔207與所述氣浮柱塞桿200相連，所述螺旋彈簧的第二端 嵌裝到所述壓環(huán)300內(nèi)。所述螺旋彈簧的數(shù)量為6個。請繼續(xù)參考圖6至圖7，其中，圖6為本實用新型實施例提供的使用復合氣浮裝置 的硅片臺移動裝置的三維示意圖，圖7為本實用新型實施例提供的使用復合氣浮裝置的硅 片臺移動裝置中的承重平臺的三維示意圖，如圖6至圖7所示，所述使用復合氣浮裝置的硅 片臺移動裝置包括承重平臺20、硅片臺30以及多個復合氣浮裝置10，所述多個復合氣浮裝 置10均勻地分布在所述硅片臺30的底面，所述復合氣浮裝置10的氣浮孔204與所述承重 平臺20相對，所述硅片臺30的底部還設有滾輪副31。所述承重平臺20上設有三個等高柱 23、兩條導軌21以及一連桿副推力結構22，所述滾輪副31在所述導軌21上滾動。并且，所述等高柱塊23的高度比所述復合氣浮裝置10的厚度大1. 5mm。本實用新型所提供的使用復合氣浮裝置的硅片臺移動裝置的使用原理為當所述硅片臺30處于工作狀態(tài)時，所述復合氣浮裝置10處于收縮狀態(tài)，由于所述 等高柱塊23的高度比所述復合氣浮裝置10的厚度大1. 5mm,因此，所述硅片臺擱置于所述 三個等高駐塊23上；當光刻機整機系統(tǒng)處于集成過程中或硅片臺的故障維修或定期維修維護工作時， 打開氣缸氣源使所述復合氣浮裝置10的氣浮柱塞桿200頂出(有效行程2mm)，接著打開 氣浮柱塞桿氣源，在所述氣浮柱塞桿的頂部形成氣浮面，使所述硅片臺30處于氣浮狀態(tài)， 滾輪副31嵌于導軌21上起導向作用，由連桿副推力結構22的進給推力將硅片臺向外推出 250mm。完成系統(tǒng)集成、硅片臺的故障維修或定期維修維護工作后，再通過連桿副推力結構 22的收縮將硅片臺30拉回至原位。綜上所述，本實用新型提供了一種復合氣浮裝置，該復合氣浮裝置包括氣缸缸體 及在所述氣缸缸體內(nèi)移動的氣浮柱塞桿，所述氣浮柱塞桿的頂面均勻設置了多個氣浮孔， 所述氣缸缸體外接氣缸氣源，所述氣浮柱塞桿外接氣浮柱塞桿氣源，使得所述氣浮柱塞桿 在所述氣缸缸體內(nèi)移動的同時，所述氣浮柱塞桿的頂面形成氣浮面，從而減小了摩擦，提高 了穩(wěn)定性和定位精度。同時本實用新型還提供了一種使用復合氣浮裝置的硅片臺移動裝置，該硅片臺移 動裝置包括承重平臺、硅片臺以及多個復合氣浮裝置，接通氣源時，所述氣浮柱塞桿的頂面 與承重平臺的表面形成氣浮面，支撐所述硅片臺在所述承重平臺上移動，從而減小了摩擦， 提高了穩(wěn)定性和定位精度。顯然，本領域的技術人員可以對實用新型進行各種改動和變型而不脫離本實用新
8型的精神和范圍。這樣，倘若本實用新型的這些修改和變型屬于本實用新型權利要求及其 等同技術的范圍之內(nèi)，則本實用新型也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。
權利要求一種復合氣浮裝置，其特征在于，包括氣缸缸體，所述氣缸缸體的缸徑端開有一缸體型腔，所述缸體型腔的底部開有透空環(huán)槽，所述氣缸缸體外接氣缸氣源；氣浮柱塞桿，所述氣浮柱塞桿位于所述氣缸缸體內(nèi)，并在所述氣缸缸體內(nèi)移動，所述氣浮柱塞桿為一包括底部圓柱體及頂部圓柱體的截面呈“凸”形的圓臺體結構，所述氣浮柱塞桿底部圓柱體的外部開有第一環(huán)槽及第二環(huán)槽，所述頂部圓柱體的外部沿直徑方向開有多個第一通孔，所述多個第一通孔在所述頂部圓柱體的中心位置處相通，所述第一通孔外接氣浮柱塞桿氣源，所述頂部圓柱體的頂部圓面的外圍開有多個氣浮孔，所述氣浮孔與所述第一通孔相連；密封圈，所述密封圈套在所述氣浮柱塞桿的第一環(huán)槽上；導向環(huán)，所述導向環(huán)套在所述氣浮柱塞桿的第二環(huán)槽上；以及多個螺旋彈簧，所述螺旋彈簧的第一端與所述氣浮柱塞桿相連，第二端與所述氣缸缸體相連。
2.如權利要求1所述的復合氣浮裝置，其特征在于，所述氣缸缸體外部的豎直方向開 有兩個對稱的第二扁勢面，所述兩個對稱的第二扁勢面上分別開有一第二通孔，所述第二 通孔連接所述第二扁勢面與所述透空環(huán)槽，所述氣缸氣源接在所述第二通孔處。
3.如權利要求2所述的復合氣浮裝置，其特征在于，所述氣缸氣源通過雙向速度控制 閥接在所述第二通孔處。
4.如權利要求1所述的復合氣浮裝置，其特征在于，所述氣缸缸體的頂部開有一缺口。
5.如權利要求4所述的復合氣浮裝置，其特征在于，所述多個第一通孔中的一個第一 通孔與所述氣缸缸體頂部的缺口相對。
6.如權利要求5所述的復合氣浮裝置，其特征在于，還包括一壓環(huán)，所述壓環(huán)為一片狀 的圓環(huán)柱體結構，所述壓環(huán)上開有一開口，所述壓環(huán)固定到所述氣缸缸體，使得所述壓環(huán)上 的開口與所述氣缸缸體頂部的缺口在同一豎直方向上。
7.如權利要求6所述的復合氣浮裝置，其特征在于，所述螺旋彈簧的第二端通過所述 壓環(huán)與所述氣缸缸體相連。
8.如權利要求1所述的復合氣浮裝置，其特征在于，所述氣浮柱塞桿頂部圓柱體的外 部開有多個均勻分布的第一扁勢面，所述第一通孔開在所述第一扁勢面上。
9.如權利要求8所述的復合氣浮裝置，其特征在于，所述每個第一通孔連接兩個氣浮 孔，所述第一通孔的深度小于所述頂部圓柱體的直徑。
10.如權利要求9所述的復合氣浮裝置，其特征在于，所述第一扁勢面的數(shù)量為三個， 所述第一通孔的數(shù)量為三個，所述氣浮孔的數(shù)量為六個。
11.如權利要求1所述的復合氣浮裝置，其特征在于，所述第一通孔通過不銹鋼快換接 頭外接所述氣浮柱塞桿氣源。
12.如權利要求1所述的復合氣浮裝置，其特征在于，所述氣浮柱塞桿的底部設有一減 輕孔。
13.如權利要求1所述的復合氣浮裝置，其特征在于，所述導向環(huán)為一薄壁圓環(huán)。
14.如權利要求1所述的復合氣浮裝置，其特征在于，所述密封圈為一圓環(huán)結構，其內(nèi) 圈的橫截面為多半圓面，外圈的橫截面為矩形面，圓環(huán)的上端面和下端面由圓弧凹槽面組成。
15.一種利用權利要求1至14中任一項所述的復合氣浮裝置的硅片臺移動裝置，其特 征在于，包括承重平臺，所述承重平臺上設有三個等高柱、兩條導軌以及一連桿副推力結構； 硅片臺，所述硅片臺的底部設有滾輪副，所述滾輪副在所述導軌上滾動；以及 多個復合氣浮裝置，所述復合氣浮裝置固定在所述硅片臺的底部，所述復合氣浮裝置 的氣浮孔與所述承重平臺相對。
16.如權利要求15所述的硅片臺移動裝置，其特征在于，所述等高柱塊的高度比所述 復合氣浮裝置的厚度大1. 5mm。
專利摘要本實用新型公開了一種復合氣浮裝置，該復合氣浮裝置包括氣缸缸體及在所述氣缸缸體內(nèi)移動的氣浮柱塞桿，所述氣浮柱塞桿的頂面均勻設置了多個氣浮孔，所述氣缸缸體外接氣缸氣源，所述氣浮柱塞桿外接氣浮柱塞桿氣源，使得所述氣浮柱塞桿在所述氣缸缸體內(nèi)移動的同時，所述氣浮柱塞桿的頂面形成氣浮面，從而減小了摩擦，提高了穩(wěn)定性和定位精度。同時本實用新型還公開了一種使用復合氣浮裝置的硅片臺移動裝置，該硅片臺移動裝置包括承重平臺、硅片臺以及多個復合氣浮裝置，接通氣源時，所述氣浮柱塞桿的頂面與承重平臺的表面形成氣浮面，支撐所述硅片臺在所述承重平臺上移動，從而減小了摩擦，提高了穩(wěn)定性和定位精度。
文檔編號H01L21/68GK201732777SQ20102020110
公開日2011年2月2日 申請日期2010年5月21日 優(yōu)先權日2010年5月21日
發(fā)明者朱岳彬, 趙正龍 申請人:上海微電子裝備有限公司