專利名稱：激光感應(yīng)熱成像裝置和使用其制造有機(jī)發(fā)光二極管的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種激光感應(yīng)熱成像裝置和使用該裝置制造有機(jī)發(fā)光二極管的方法，更具體地，涉及一種激光感應(yīng)熱成像裝置和使用該裝置制造有機(jī)發(fā)光二極管的方法，在其中，使用磁力來層疊受主襯底與施主膜。
背景技術(shù)：
有機(jī)發(fā)光設(shè)備包括形成在第一和第二電極之間的發(fā)光層，當(dāng)在電極之間施加電壓時(shí)，該層將發(fā)出光。可以用激光感應(yīng)熱成像(LITI)工藝來制造有機(jī)發(fā)光設(shè)備。
在激光感應(yīng)熱成像方法中，激光被發(fā)射到包括基礎(chǔ)襯底、光-熱轉(zhuǎn)換層(LTHC)和轉(zhuǎn)移層(或成像層)的施主襯底，以在光-熱轉(zhuǎn)換層將通過基礎(chǔ)襯底的激光轉(zhuǎn)換為熱，使得光-熱轉(zhuǎn)換層發(fā)生變形和膨脹。這樣，鄰近光-熱轉(zhuǎn)換層的轉(zhuǎn)移層也發(fā)生變形和膨脹，從而被轉(zhuǎn)移(或成像)到受主襯底上。
當(dāng)進(jìn)行激光感應(yīng)熱成像方法時(shí)，進(jìn)行轉(zhuǎn)移的室內(nèi)通常變成真空狀態(tài)。然而，在現(xiàn)有技術(shù)中，所存在的問題是當(dāng)在真空狀態(tài)下進(jìn)行激光-熱轉(zhuǎn)換時(shí)，由于施主襯底和受主襯底之間出現(xiàn)間隙(或縫隙)或雜質(zhì)而使轉(zhuǎn)移層沒有得到很好的轉(zhuǎn)移。因此，在激光感應(yīng)熱成像方法中，將施主和受主襯底進(jìn)行層疊的方法很重要，并且，為解決孔隙或雜質(zhì)的問題，已研究了各種方法。
圖1的截面圖示出了用于解決上述問題的現(xiàn)有技術(shù)的激光感應(yīng)熱成像裝置10。根據(jù)圖1，激光感應(yīng)熱成像裝置10包括設(shè)置在室11內(nèi)的襯底臺(tái)(substrate stage)12和設(shè)置在室11的上部的激光發(fā)射裝置13。襯底臺(tái)12是用于依次在室11中設(shè)置受主襯底14和施主膜15的平臺(tái)。
在施主膜15的轉(zhuǎn)移層轉(zhuǎn)移到受主襯底14以前，將受主襯底14和施主膜15彼此層疊在一起。在進(jìn)行層疊時(shí)，室11通常未保持在真空狀態(tài)，但使用真空泵P來吸收雜質(zhì)。由于在進(jìn)行層疊時(shí)室11不處于真空狀態(tài)，因此，因室11內(nèi)的氧、水份等的緣故，降低了所得的有機(jī)發(fā)光設(shè)備的可靠性或使用壽命。
另一方面，如果室11在層疊時(shí)保持真空狀態(tài)，則難以絕對(duì)地防止在受主襯底14和施主膜15之間出現(xiàn)雜質(zhì)1和間隙。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的一個(gè)方面是提供一種激光感應(yīng)熱成像裝置和使用該裝置制造有機(jī)發(fā)光二極管的方法，它能在真空狀態(tài)下進(jìn)行激光感應(yīng)熱成像時(shí)防止在受主襯底和施主膜之間產(chǎn)生雜質(zhì)或孔隙。
在一個(gè)實(shí)施例中，通過提供一種激光感應(yīng)熱成像施主膜，實(shí)現(xiàn)了本發(fā)明的前述和/或其他方面，該膜包括設(shè)置在基礎(chǔ)襯底和成像層之間的光-熱轉(zhuǎn)換層，其中，在激光感應(yīng)熱成像施主膜中形成了永磁體。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了一種激光感應(yīng)熱成像裝置，該裝置包括適于接收受主襯底(用于接收成像層)的襯底臺(tái)，該襯底臺(tái)具有電磁體，并適于接收具有成像層和永磁體的施主膜，該電磁體用于與施主膜的永磁體形成磁力；用于向施主膜發(fā)射激光的激光振蕩器；以及適于至少容納上述襯底臺(tái)的室。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了一種用于把激光發(fā)射到具有成像層的施主膜來將成像層轉(zhuǎn)移到受主襯底的激光感應(yīng)熱成像方法，該方法包括將受主襯底設(shè)置在具有至少一個(gè)電磁體的襯底臺(tái)上；將具有永磁體的激光感應(yīng)熱成像施主膜設(shè)置在受主襯底上；向襯底臺(tái)的電磁體供電，以便將施主膜與受主襯底層疊；以及發(fā)射激光到施主膜來將成像層轉(zhuǎn)移到受主襯底。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了一種通過激光感應(yīng)熱成像方法來制造具有在第一電極和第二電極之間形成的發(fā)光層的有機(jī)發(fā)光二極管的方法，該方法包括將具有像素區(qū)的受主襯底設(shè)置在具有至少一個(gè)電磁體的襯底臺(tái)上；將具有永磁體和發(fā)光層的施主膜設(shè)置在受主襯底上；向襯底臺(tái)的電磁體供電，以便將施主膜與受主襯底層疊；以及發(fā)射激光到施主膜來將有機(jī)發(fā)光層轉(zhuǎn)移到受主襯底的像素區(qū)。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了一種激光感應(yīng)熱成像施主膜，該膜包括設(shè)置在基礎(chǔ)襯底和成像層之間的光-熱轉(zhuǎn)換層，其中，在激光感應(yīng)熱成像施主膜中形成了第一電磁體。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了一種激光感應(yīng)熱成像裝置，該裝置包括適于接收受主襯底(用于接收成像層)的襯底臺(tái)，該襯底臺(tái)具有第二電磁體，并適于接收具有成像層和第一電磁體的施主膜，第二電磁體用于與施主膜中的第一電磁體形成電磁力；用于將激光發(fā)射到施主膜的激光振蕩器；以及適于至少容納襯底臺(tái)的室。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了一種用于把激光發(fā)射到具有成像層的施主膜來將成像層轉(zhuǎn)移到受主襯底的激光感應(yīng)熱成像方法，該方法包括將受主襯底設(shè)置在具有至少一個(gè)第二電磁體的襯底臺(tái)上；將具有至少一個(gè)第一電磁體的激光感應(yīng)熱成像施主膜設(shè)置在受主襯底上；向施主膜的第一電磁體和襯底臺(tái)的第二電磁體供電，以便將施主膜與受主襯底層疊；以及將激光發(fā)射到施主膜，以便將成像層轉(zhuǎn)移到受主襯底。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了一種通過激光感應(yīng)熱成像方法來制造具有在第一電極和第二電極之間形成的發(fā)射層的有機(jī)發(fā)光二極管的方法，該方法包括將具有像素區(qū)的受主襯底設(shè)置在具有至少一個(gè)第二電磁體的襯底臺(tái)上；將具有第一電磁體和發(fā)光層的施主膜設(shè)置在受主襯底上；向施主膜的第一電磁體和襯底臺(tái)的第二電磁體供電，以便將施主膜與受主襯底層疊；以及將激光到施主膜，以便將有機(jī)發(fā)光層轉(zhuǎn)移到受主襯底的像素區(qū)。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了一種激光感應(yīng)熱成像裝置，該裝置包括適于接收受主襯底(用于接收成像層)的襯底臺(tái)，該襯底臺(tái)具有永磁體，并適于接收具有成像層和電磁體的施主膜，永磁體用于與施主膜中的電磁體形成電磁力；用于將激光發(fā)射到施主膜的激光振蕩器；以及適于至少容納襯底臺(tái)的室。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了一種用于把激光發(fā)射到具有成像層的施主膜來將成像層轉(zhuǎn)移到受主襯底的激光感應(yīng)熱成像方法，該方法包括將受主襯底設(shè)置在具有至少一個(gè)永磁體的襯底臺(tái)上；將具有電磁體的激光感應(yīng)熱成像施主膜設(shè)置在受主襯底上；向施主膜的電磁體供電，以便將施主膜與受主襯底層疊；以及將激光發(fā)射到施主膜，以便將成像層轉(zhuǎn)移到受主襯底。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了一種使用激光感應(yīng)熱成像方法制造具有在第一電極和第二電極之間形成的發(fā)射層的有機(jī)發(fā)光二極管的方法，該方法包括將具有像素區(qū)域的受主襯底設(shè)置在具有至少一個(gè)永磁體的襯底臺(tái)上；將具有電磁體和發(fā)光層的施主膜設(shè)置在受主襯底上；向施主膜的電磁體供電，以便將施主膜與受主襯底層疊；以及將激光發(fā)射到施主膜，以便將有機(jī)發(fā)光層轉(zhuǎn)移到受主襯底的像素區(qū)域。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了一種激光感應(yīng)熱成像裝置，該裝置包括適于接收受主襯底(用于接收成像層)的襯底臺(tái)，該襯底臺(tái)包括第二永磁體，并適于接收具有成像層和第一永磁體的施主膜，第二永磁體用于與施主膜的第一永磁體形成電磁力；用于將激光發(fā)射到施主膜的激光振蕩器；以及適于至少容納襯底臺(tái)的室。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了一種用于把激光發(fā)射到具有成像層的施主膜來將成像層轉(zhuǎn)移到受主襯底的激光感應(yīng)熱成像方法，該方法包括將受主襯底設(shè)置在具有至少一個(gè)第二永磁體的襯底臺(tái)上；將具有第一永磁體的激光感應(yīng)熱成像施主膜設(shè)置在受主襯底上；通過施主膜的第一永磁體與襯底臺(tái)的第二永磁體形成的電磁力來層疊受主襯底；以及將激光發(fā)射到施主膜，以便將成像層轉(zhuǎn)移到受主襯底。


通過閱讀結(jié)合附圖的以下具體實(shí)施例描述，可以更為清楚和容易地理解本發(fā)明的上述和其他方面、特征 圖1的局部截面圖示出了傳統(tǒng)的激光感應(yīng)熱成像裝置； 圖2A至2D的截面圖示出了根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面的激光感應(yīng)熱成像施主膜； 圖3的截面圖示出了根據(jù)本發(fā)明的另一方面的激光感應(yīng)熱成像裝置的結(jié)構(gòu)； 圖4A至4B的平面圖示出了根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的襯底臺(tái)； 圖5的示意圖示出了根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的激光感應(yīng)熱成像裝置的激光振蕩器； 圖6A至6H的截面圖示出了根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例的制造有機(jī)發(fā)光二極管的方法； 圖7的截面圖示出了根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例的激光感應(yīng)熱成像裝置的結(jié)構(gòu)； 圖8的截面圖示出了根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例的激光感應(yīng)熱成像裝置的結(jié)構(gòu)； 圖9的截面圖示出了根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例的激光感應(yīng)熱成像裝置的結(jié)構(gòu)。
具體實(shí)施例 在下文中，將結(jié)合附圖對(duì)根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)描述。在本申請(qǐng)中，當(dāng)一個(gè)部件被描述為與另一部件連接時(shí)，該部件可以是直接與另一部件連接，或是經(jīng)過第三部件間接地與另一部件連接。為清楚起見，將省略對(duì)理解本發(fā)明而言不必要的部分。另外，各幅圖中類似的附圖標(biāo)記表示類似的部件。
圖2A至2D的截面圖示出了根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面的激光感應(yīng)熱成像施主膜。
首先，將描述根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面的具有永磁體的激光感應(yīng)熱成像施主膜。該施主膜具有將被轉(zhuǎn)移到受主襯底的成像層。該施主膜包括基礎(chǔ)襯底、光-熱轉(zhuǎn)換層(即將光變?yōu)闊岬霓D(zhuǎn)換層)和轉(zhuǎn)移層(或成像層)，它們是依次層疊的。為提高性能，可以在光-熱轉(zhuǎn)換層和成像層之間進(jìn)一步形成緩沖層和/或中間層。
此處，激光感應(yīng)熱成像施主膜可包括永磁體。在這種情況下，可以在施主膜的多個(gè)層之間形成至少一個(gè)永磁體層，或者，可以在所述多個(gè)層的至少一個(gè)層中引入由微粒(如納米微粒)制成的永磁體。
圖2A的截面圖示出了根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的激光感應(yīng)熱成像施主膜200。如圖2A所示，施主膜200包括依次層疊在基礎(chǔ)襯底210上的光-熱轉(zhuǎn)換層(或?qū)⒓す庾優(yōu)闊岬霓D(zhuǎn)換層)220、永磁體層230、緩沖層240、中間層250和成像層(或轉(zhuǎn)移層)260。
基礎(chǔ)襯底210是用于支撐施主膜的襯底。在一個(gè)實(shí)施例中，基礎(chǔ)襯底210由透明的高分子材料形成，其厚度為10至500μm?？墒褂弥T如聚乙烯，聚酯，聚丙烯，聚環(huán)氧化物，或聚苯乙烯等透明高分子材料，但不限于這些材料。
光-熱轉(zhuǎn)換層220由光吸收材料形成，該材料吸收激光束并將其轉(zhuǎn)換成熱?？筛鶕?jù)所使用的光吸收材料和形成方法來改變光-熱轉(zhuǎn)換層220的厚度。當(dāng)用金屬或金屬氧化物形成光-熱轉(zhuǎn)換層220時(shí)，可以使用真空沉積、電子束沉積或噴鍍來形成該層，使其具有100至5000(或0.01至0.5μm)的厚度。當(dāng)用有機(jī)薄膜形成光-熱轉(zhuǎn)換層220時(shí)，可使用擠壓、凹版印刷、旋涂、刀涂布等方法來形成該層，使其具有0.1至2μm的厚度。
當(dāng)光-熱轉(zhuǎn)換層220的厚度小于上述范圍時(shí)，由于能量吸收率較低，因而經(jīng)過光-熱轉(zhuǎn)換得來的能量較少，由此降低了膨脹壓力。當(dāng)光-熱轉(zhuǎn)換層220的厚度大于上述范圍時(shí)，由于施主膜和受主襯底之間的偏差，將產(chǎn)生邊緣開口缺陷。
鋁、銀、鉻、鎢、錫、鎳、鈦、鈷、鋅、金、銅、鉬、鉛中的一種或多種金屬以及它們的氧化物可用作由金屬或金屬氧化物形成的光吸收材料，它們具有0.1至0.4的光密度。
另外，可將碳黑、石墨、或具有紅外染料的高分子材料用作由有機(jī)薄膜形成的光吸收材料。另外，可將(間)丙烯酸酯低聚物，如丙烯?；?間)丙烯酸酯低聚物、酯(間)丙烯酸酯低聚物、環(huán)氧(間)丙烯酸酯低聚物、氨基甲酸酯(間)丙烯酸酯低聚物以及這些低聚物與(間)丙烯酸酯單體的混合物用作高分子粘合樹脂的構(gòu)成材料，但不限于這些材料。
插入永磁體層230，以使其與安裝在激光感應(yīng)熱成像裝置的襯底臺(tái)上的電磁體形成磁力。可以將鋁鎳鈷磁體、鐵氧體磁鐵、稀土磁體、橡膠磁體或塑料磁體用作永磁體230，但不限于這些材料。
緩沖層240用于提高成像層的轉(zhuǎn)移性能和延長轉(zhuǎn)移后的設(shè)備的使用壽命?？梢詫⒔饘傺趸铩⒔饘倭蚧锘蚍墙饘贌o機(jī)化合物、高或低分子有機(jī)材料用作緩沖層240。在一個(gè)實(shí)施例中，緩沖層具有0.01至2μm的厚度。
中間層250用于保護(hù)光-熱轉(zhuǎn)換層。在一個(gè)實(shí)施例中，中間層250具有高熱阻。中間層250可以由有機(jī)或無機(jī)膜構(gòu)成。
成像層260與施主膜分離，并被轉(zhuǎn)移到受主襯底。當(dāng)用成像層260制造有機(jī)發(fā)光二極管來形成發(fā)光層時(shí)，可以用高或低分子有機(jī)發(fā)光材料來形成成像層。為形成電子傳送層(ETL)、電子注入層(EIL)、空穴傳送層(HTL)和空穴注入層(HIL)，成像層260可以由本領(lǐng)域技術(shù)人員公知的任何合適材料形成。此處，對(duì)未限制成像層260的材料。本領(lǐng)域技術(shù)人員公知的材料都是允許的。可以用擠壓、凹版印刷、旋涂、刀涂布、真空沉積或CVD等方法來形成成像層260。
如上所述，通過將永磁體層230插入施主膜200，使施主膜200具有磁性。因此，當(dāng)施主膜200設(shè)置在受主襯底上或其上方時(shí)，它與具有電磁體的激光感應(yīng)熱成像裝置的襯底臺(tái)一起形成了磁的相互吸引。結(jié)果，通過使用磁力，使施主膜與受主襯底彼此緊密吸附在一起。
圖2B的截面圖示出了根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例的激光感應(yīng)熱成像施主膜300。與在光-熱轉(zhuǎn)換層220和緩沖層240之間形成的永磁體層230不同，永磁體層320在光-熱轉(zhuǎn)換層330和基礎(chǔ)襯底310之間形成。除此之外，圖2B所示的激光感應(yīng)熱成像施主膜300與圖2A所示的施主膜基本相同，它包括緩沖層340、中間層350和成像層360。因此，省略了對(duì)它的詳細(xì)描述。
圖2C的截面圖示出了根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例的激光感應(yīng)熱成像施主膜400。在圖2A和2B中，一個(gè)層形成了永磁體。與此相反，此處永磁體以微粒的形式散布在基礎(chǔ)襯底410中。
也就是說，使用微粒在構(gòu)成基礎(chǔ)襯底410的透明的高分子材料中形成永磁體，以具有散布在施主膜400中的磁性。此處，可以用納米微粒形成永磁體。施主膜400包括光-熱轉(zhuǎn)換層420、緩沖層430、中間層440和成像層450。
圖2D的截面圖示出了根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例的激光感應(yīng)熱成像施主膜500。與圖2C中散布在基礎(chǔ)襯底410中的永磁體微粒不同，在圖2D中，永磁體微粒散布在緩沖層530中。因此，本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)懂得，圖2D的施主膜500具有與圖2C的施主膜基本相同的效果(如，磁性)。施主膜500包括基礎(chǔ)襯底510、設(shè)置或形成于該基礎(chǔ)襯底上的光-熱轉(zhuǎn)換層520、緩沖層530、中間層540和成像層550。
接下來，將結(jié)合附圖描述根據(jù)本發(fā)明底另一方面的激光感應(yīng)熱成像裝置。激光感應(yīng)熱成像裝置是使用前述的激光感應(yīng)熱成像施主膜的裝置。然而，激光感應(yīng)熱成像施主膜不限于這些用途。
圖3的截面圖示出了根據(jù)本發(fā)明的另一方面的激光感應(yīng)熱成像裝置600的結(jié)構(gòu)。如圖3所示，激光感應(yīng)熱成像裝置600包括室610、襯底臺(tái)620和激光振蕩器630。
可將用于典型的激光感應(yīng)熱成像裝置的室用作室610。傳送機(jī)構(gòu)(或進(jìn)給或輸送機(jī)構(gòu))如機(jī)械手(如圖6A所示)安裝在室610外部，并傳送具有永磁體(未在圖3中示出)的施主膜和受主襯底(未在圖3中示出)。
襯底臺(tái)620設(shè)置在室610的下表面或其附近，且至少一個(gè)電磁體625安裝在襯底臺(tái)620上?？梢杂奢^大的平面磁體或多個(gè)磁體來形成電磁體625。此處對(duì)電磁體層625的排列模式?jīng)]有限制。在一個(gè)實(shí)施例中，用同心方式或多個(gè)橫行與縱行的方式來形成電磁體，以進(jìn)行上述層疊。
圖4A和4B的平面圖示出了在以同心方式或多個(gè)橫行與縱行的方式在襯底臺(tái)620中形成電磁體625所得的圖案。盡管在圖中未示出，但可以在各電磁體上形成線路和向它們供電。
回到圖3，襯底臺(tái)620還可包括用于移動(dòng)襯底臺(tái)的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(未示出)。例如，當(dāng)沿縱向發(fā)射激光時(shí)，可以提供沿橫向移動(dòng)襯底臺(tái)的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。
而且，襯底臺(tái)620也可以包括分別用于將受主襯底和施主膜設(shè)置在襯底臺(tái)上的受主襯底安裝機(jī)構(gòu)與施主膜安裝機(jī)構(gòu)。在所述的實(shí)施例中，受主襯底安裝機(jī)構(gòu)和施主膜安裝機(jī)構(gòu)將受主襯底傳送(或輸送或移動(dòng))到室中，以將其精確地安裝到襯底臺(tái)上的所希望的位置(如預(yù)定位置)。
在所述實(shí)施例中，安裝機(jī)構(gòu)包括通孔641和651，導(dǎo)桿643和653，移動(dòng)板645和655，支撐件647和657，安裝槽621和623。導(dǎo)桿643和653分別隨移動(dòng)板645和655以及支撐件647和657進(jìn)行上升和下降。導(dǎo)桿643和653分別沿通孔641和651上升，并分別接納受主襯底和施主膜。然后，導(dǎo)桿643和653下降，并將受主襯底和施主膜分別插入安裝槽621和623。為精確地安裝受主襯底和施主膜，在一個(gè)實(shí)施例中，將安裝槽的壁表面傾斜。
激光振蕩器630可安裝在室610的外部或內(nèi)部。激光振蕩器630應(yīng)安裝為使得激光在室的上部出現(xiàn)。參考圖5，它示出了激光振蕩器的示意圖，在所述實(shí)施例中，將CW DN:YAG激光器(1604nm)用作激光振蕩器。激光振蕩器包括兩個(gè)檢流計(jì)掃描器631和633、掃描透鏡635和圓柱透鏡636。然而，本發(fā)明不限于這種配置。
在下文中，將結(jié)合圖6A至6H來說明根據(jù)本發(fā)明的另一方面而使用前述的施主膜和激光感應(yīng)熱成像裝置將施主膜的成像層轉(zhuǎn)移到受主襯底的激光感應(yīng)熱成像方法。制造有機(jī)發(fā)光二極管中所用的該實(shí)施例的激光感應(yīng)熱成像方法包括受主襯底移動(dòng)步驟、施主膜移動(dòng)步驟、層疊步驟和轉(zhuǎn)移步驟。
在受主襯底傳送(或輸送)步驟中，將受主襯底670傳送(或輸送)到激光感應(yīng)熱成像裝置的室610中的步驟。此處，可以通過機(jī)械手690(如圖6A所示)的進(jìn)給機(jī)構(gòu)將受主襯底670傳送到室610中。傳送到室610中的受主襯底670由通過通孔641上升的導(dǎo)桿643(見圖6B)進(jìn)行支撐。然后，支撐受主襯底670的導(dǎo)桿642下降，以便將受主襯底670精確定位在襯底臺(tái)620的安裝槽621中(見圖6C)。
如受主襯底傳送步驟一樣，在施主膜傳送(或輸送)步驟中，使用進(jìn)給機(jī)構(gòu)(如機(jī)械手690)將施主膜680移動(dòng)到室610中(見圖6D)。在所述實(shí)施例中，施主膜680安裝在膜盤(film tray)681上，以移入室610。傳送到室610中的施主膜680由通過通孔651上升的導(dǎo)桿653進(jìn)行支撐(見圖6E)。然后，支撐施主膜680的導(dǎo)桿653下降，以便將施主膜680精確定位在襯底臺(tái)620的安裝槽623中(見圖6F)。
在層疊步驟中，向襯底臺(tái)620的電磁體625施加適當(dāng)功率，使包括在施主膜680中的永磁體與襯底臺(tái)620的電磁體形成磁的相互吸引。這使得施主膜680與受主襯底670緊密地吸附在一起。此時(shí)，由于室610處于真空狀態(tài)，因而減少或最小化了受主襯底670和施主膜680之間的雜質(zhì)和孔隙(間隙或縫隙)的出現(xiàn)概率，從而增大了轉(zhuǎn)移效率(見圖6G)。
可根據(jù)包括在襯底臺(tái)620中的電磁體的形狀通過各種方法實(shí)現(xiàn)施主膜680和受主襯底670的層疊。例如，如圖4A所示，當(dāng)襯底臺(tái)的電磁體以同心方式設(shè)置時(shí)，首先將功率施加給定義最內(nèi)部的同心圓的第一電磁體。在這種情況下，將功率施加給定義最內(nèi)部的同心圓之外的第二內(nèi)部同心圓的第二電磁體。接下來，將功率施加給定義第二內(nèi)部同心圓外部的同心圓的電磁體，結(jié)果，在減少或最小化受主襯底670與施主膜680之間的雜質(zhì)或孔隙的出現(xiàn)概率的同時(shí)，實(shí)現(xiàn)了上述層疊。
而且，如圖4B所示，當(dāng)襯底臺(tái)的多個(gè)電磁體以橫行和縱行方式設(shè)置時(shí)，僅將功率施加給激光照射的電磁體或設(shè)置在相應(yīng)線中的電磁體，使得本地層疊在激光照射的部分中持續(xù)進(jìn)行。結(jié)果，在減少或最小化受主襯底670和施主膜680之間的雜質(zhì)或孔隙的出現(xiàn)概率的同時(shí)，實(shí)現(xiàn)了上述層疊。
在轉(zhuǎn)移步驟中，激光發(fā)射裝置將激光發(fā)射到與受主襯底670層疊的施主膜680上，以便將在施主膜680上形成的有機(jī)發(fā)光層轉(zhuǎn)移到受主襯底670的像素定義區(qū)(或像素區(qū))。當(dāng)被激光照射時(shí)，施主膜680的光-熱轉(zhuǎn)換層發(fā)生膨脹。因此，鄰近的有機(jī)發(fā)光層在受主襯底的方向上發(fā)生膨脹，以便使有機(jī)發(fā)光層與受主襯底發(fā)生接觸或吸附，結(jié)果便完成了轉(zhuǎn)移(見圖6H)。
圖7的截面圖示出了根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例的激光感應(yīng)熱成像裝置。參考圖7，激光感應(yīng)熱成像裝置包括室710、襯底臺(tái)720和激光振蕩器730。
此處，襯底臺(tái)720設(shè)有至少一個(gè)第二電磁體725。第二電磁體725可以由較大的平面磁體或多個(gè)磁體形成。此處對(duì)電磁體725或第二電磁體的排列方式?jīng)]有限制。然而，在所述實(shí)施例中，電磁體725以同心方式或多個(gè)橫行與縱行的方式形成，以執(zhí)行上述層疊。
而且，具有第一電磁體782的施主膜780被設(shè)置在受主襯底770上。接下來，將合適的功率施加給第二電磁體725和施主膜780的第一電磁體782，以使得施主膜780的第一電磁體與襯底臺(tái)的電磁體形成磁的相互吸引，結(jié)果，施主膜780與受主襯底770被彼此緊密吸附在一起。
如前所述，通過將第一電磁體782插入施主膜780來使施主膜780具有磁性。當(dāng)?shù)谝浑姶朋w782設(shè)置在受主襯底上或其上方時(shí)，它與具有第二電磁體725的激光感應(yīng)熱成像裝置的襯底臺(tái)720形成磁的相互吸引。結(jié)果，施主膜780與受主襯底770通過磁力而緊密地吸附在一起。
對(duì)圖7中的部件和方法的詳細(xì)描述與對(duì)圖3和圖6A-6H的描述基本相同，因此，為簡明起見，在此處省略了這部分內(nèi)容。
圖8的截面圖示出了根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例的激光感應(yīng)熱成像裝置。參考圖8，激光感應(yīng)熱成像裝置包括室810、襯底臺(tái)820和激光振蕩器830。
此處，襯底臺(tái)820設(shè)有至少一個(gè)永磁體825。永磁體825可以由較大的平面磁體或多個(gè)磁體形成。此處對(duì)永磁體825的排列方式?jīng)]有限制。然而，在所述實(shí)施例中，以同心方式或多個(gè)橫行和縱行的方式形成永磁體825，以執(zhí)行上述層疊。
而且，具有電磁體882的施主膜880設(shè)置在受主襯底870上。接下來，將適當(dāng)?shù)墓β适┘咏o施主膜880的電磁體882，以使得施主膜880的電磁體與襯底臺(tái)的永磁體825形成磁的相互吸引，從而使施主膜880與受主襯底870緊密地相互吸附在一起。
如前所述，通過將電磁體882插入施主膜880來使施主膜880具有磁性。當(dāng)將電磁體882定設(shè)置在受主襯底上或其上方時(shí)，它與具有永磁體825的激光感應(yīng)熱成像裝置的襯底臺(tái)820形成磁的相互吸引。因此，施主膜880與受主襯底870通過磁力緊密地相互吸附在一起。
對(duì)圖8的部件和方法的詳細(xì)描述與圖3和圖6A-6H的基本相同，因而，為簡明起見，省略了這部分內(nèi)容。
圖9的截面圖示出了根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例的激光感應(yīng)熱成像裝置。參考圖9，激光感應(yīng)熱成像裝置包括室910、襯底臺(tái)920和激光振蕩器930。
此處，襯底臺(tái)920設(shè)有至少一個(gè)永磁體925。永磁體925可以由較大的平面磁體或多個(gè)磁體形成。此處對(duì)永磁體925的排列方式?jīng)]有限制。然而，在所述實(shí)施例中，以同心方式或多個(gè)橫行與縱行的方式來形成永磁體925，以執(zhí)行上述層疊。
此外，將具有第一永磁體982的施主膜980設(shè)置在受主襯底970上。將第一永磁體982插入施主膜980，以便與安裝在激光感應(yīng)熱成像裝置的襯底臺(tái)920處的永磁體925形成磁力。在所述實(shí)施例中，可以將鋁鎳鈷磁體、鐵氧體磁鐵、稀土磁體、橡膠磁體或塑料磁體用作第一永磁體982。
如上所述，通過將第一永磁體982插入施主膜980，當(dāng)?shù)谝挥来朋w982設(shè)置在受主襯底970上或其上方時(shí)，它與具有永磁體925的激光感應(yīng)熱成像裝置的襯底臺(tái)920形成磁的相互吸引。因此，施主膜980與受主襯底970通過磁力緊密地相互吸附在一起。
對(duì)圖9中的部件和方法的詳細(xì)描述與對(duì)圖3和圖6A-6H的描述基本相同，因此，為簡明起見，省略了這部分內(nèi)容。
盡管示出和描述了本發(fā)明的某些實(shí)施例，但本領(lǐng)域技術(shù)人員將理解，可以對(duì)這些實(shí)施例進(jìn)行一些變更，而不至于背離本發(fā)明的原則和精神，且本發(fā)明的范圍由權(quán)利要求及其等價(jià)物確定。例如，作為將永磁體包括在施主膜中的方法，可以進(jìn)一步形成附加的有機(jī)層或無機(jī)層，且永磁體可設(shè)置在附加的有機(jī)層或無機(jī)層之間，或者，可改變具有電磁體的襯底板(或?qū)?的形狀，而不至于背離本發(fā)明的原則和精神。
根據(jù)本發(fā)明的激光感應(yīng)熱成像施主膜和激光感應(yīng)熱成像裝置及其方法，允許將受主襯底和施主膜進(jìn)行層疊，且在這兩者之間基本上不出現(xiàn)雜質(zhì)或孔隙。而且，由于受主襯底和施主膜之間的層疊是在真空狀態(tài)下實(shí)現(xiàn)的，因而當(dāng)前述的工藝需要真空狀態(tài)時(shí)，所有的前述工藝均可在真空狀態(tài)下進(jìn)行。
權(quán)利要求
1.一種激光感應(yīng)熱成像施主膜，包括基礎(chǔ)襯底；成像層；設(shè)置在所述基礎(chǔ)襯底和所述成像層之間的光-熱轉(zhuǎn)換層；以及用于使所述激光感應(yīng)熱成像施主膜具有磁性的磁體。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光感應(yīng)熱成像施主膜，還包括設(shè)置在所述光-熱轉(zhuǎn)換層和所述成像層之間的緩沖層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光感應(yīng)熱成像施主膜，還包括設(shè)置在所述光-熱轉(zhuǎn)換層和所述成像層之間的中間層。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的激光感應(yīng)熱成像施主膜，其中，所述磁體包括設(shè)置在所述基礎(chǔ)襯底和所述成像層之間的永磁體層。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的激光感應(yīng)熱成像施主膜，其中，所述永磁體層被設(shè)置在所述基礎(chǔ)襯底和所述光-熱轉(zhuǎn)換層之間。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的激光感應(yīng)熱成像施主膜，其中，所述磁體包括設(shè)置在所述基礎(chǔ)襯底和所述成像層之間的電磁體層。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的激光感應(yīng)熱成像施主膜，其中，所述電磁體層設(shè)置在所述基礎(chǔ)襯底和所述光-熱轉(zhuǎn)換層之間。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光感應(yīng)熱成像施主膜，其中，所述磁體以微粒的形式在構(gòu)成所述施主膜的至少一個(gè)層中形成永磁體。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的激光感應(yīng)熱成像施主膜，其中，所述微粒被包括在所述基礎(chǔ)襯底或所述光-熱轉(zhuǎn)換層與所述成像層之間的緩沖層中。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的激光感應(yīng)熱成像施主膜，其中，所述微粒包括納米微粒。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光感應(yīng)熱成像施主膜，其中，所述激光感應(yīng)熱成像施主膜的成像層適于用作有機(jī)發(fā)光二極管的發(fā)光層。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光感應(yīng)熱成像施主膜，其中，所述磁體包括永磁體或電磁體。
13.一種激光感應(yīng)熱成像裝置，包括適于接收用于接收成像層的受主襯底的襯底臺(tái)，所述襯底臺(tái)具有至少一個(gè)第一磁體并適于接收具有成像層和第二磁體的施主膜，所述第一磁體用于與所述施主膜的所述第二磁體形成磁力；用于將激光發(fā)射到所述施主膜的激光振蕩器；以及適于至少容納所述襯底臺(tái)的室。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的激光感應(yīng)熱成像裝置，其中，所述至少一個(gè)第一磁體包括多個(gè)以同心方式安裝在所述襯底臺(tái)中的磁體。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的激光感應(yīng)熱成像裝置，其中所述至少一個(gè)第一磁體包括多個(gè)以行和列的方式安裝在所述襯底臺(tái)處的磁體。
16.根據(jù)權(quán)利要求13所述的激光感應(yīng)熱成像裝置，還包括用于分別將所述受主襯底和所述施主膜設(shè)置在所述襯底臺(tái)上的受主襯底安裝機(jī)構(gòu)和施主膜安裝機(jī)構(gòu)。
17.根據(jù)權(quán)利要求13所述的激光感應(yīng)熱成像裝置，其中，所述室處于真空狀態(tài)。
18.根據(jù)權(quán)利要求13所述的激光感應(yīng)熱成像裝置，其中，所述第一磁體包括永磁體或電磁體，且所述第二磁體包括永磁體或電磁體。
19.一種激光感應(yīng)熱成像方法，包括將受主襯底設(shè)置在具有第一磁體的襯底臺(tái)上；將具有第二磁體和成像層的激光感應(yīng)熱成像施主膜設(shè)置在所述受主襯底上，所述第一磁體和第二磁體中的至少其中之一包括至少一個(gè)電磁體；向所述至少一個(gè)電磁體供電，以層疊所述施主膜和所述受主襯底；以及將激光發(fā)射到所述施主膜，以將所述成像層轉(zhuǎn)移到所述受主襯底。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的方法，其中，所述至少一個(gè)電磁體包括多個(gè)電磁體，且所述供電包括以從內(nèi)部電磁體到外部電磁體的方式將功率施加到以同心方式設(shè)置在所述襯底臺(tái)或所述施主膜上的所述電磁體，以從內(nèi)部到外部層疊所述施主膜和所述受主襯底。
21.根據(jù)權(quán)利要求19所述的方法，其中，至少一個(gè)所述電磁體包括多個(gè)電磁體，且所述供電包括根據(jù)所述激光的路徑將所述功率施加到以橫行和縱行方式設(shè)置在所述襯底臺(tái)或所述施主膜上的所述電磁體，以層疊所述施主膜和所述受主襯底。
22.根據(jù)權(quán)利要求19所述的方法，其中，設(shè)置所述激光感應(yīng)熱成像施主膜包括將所述施主膜設(shè)置在膜盤上。
23.根據(jù)權(quán)利要求19所述的方法，其中，所述第一磁體包括所述至少一個(gè)電磁體，且所述第二磁體包括電磁體，所述方法還包括向所述施主膜的所述電磁體供電，以層疊所述施主膜和所述受主襯底。
24.根據(jù)權(quán)利要求19所述的方法，其中，所述第一磁體包括至少一個(gè)永磁體，且所述第二磁體包括所述至少一個(gè)電磁體。
25.一種用于通過激光感應(yīng)熱成像方法制造具有在第一電極和第二電極之間形成的發(fā)光層的有機(jī)發(fā)光二極管的方法，所述方法包括將具有像素區(qū)的受主襯底設(shè)置在具有第一磁體的襯底臺(tái)上；將具有第二磁體和發(fā)射層的施主膜設(shè)置在所述受主襯底上，所述第一磁體和第二磁體的至少其中之一包括至少一個(gè)電磁體；向所述至少一個(gè)電磁體供電，以層疊所述施主膜和所述受主襯底；以及將激光發(fā)射到所述施主膜，以將有機(jī)發(fā)光層轉(zhuǎn)移到所述受主襯底的所述像素區(qū)。
26.根據(jù)權(quán)利要求25所述的方法，其中，所述第一磁體或第二磁體的至少其中之一包括永磁體。
27.一種用于將激光發(fā)射到具有成像層的施主膜來將所述成像層轉(zhuǎn)移到受主襯底的激光感應(yīng)熱成像方法，所述方法包括將所述受主襯底設(shè)置在具有至少一個(gè)第一永磁體的襯底臺(tái)上；將具有第二永磁體的激光感應(yīng)熱成像施主膜設(shè)置在所述受主襯底上；通過所述施主膜的所述第一永磁體和具有所述至少一個(gè)第二永磁體的所述襯底臺(tái)的磁力來層疊所述受主襯底；以及將激光發(fā)射到所述施主膜，以將所述成像層轉(zhuǎn)移到所述受主襯底。
28.根據(jù)權(quán)利要求27所述的方法，其中，設(shè)置所述激光感應(yīng)熱成像施主膜包括將所述施主膜設(shè)置在膜盤上。
全文摘要
一種激光感應(yīng)熱成像裝置和使用該裝置制造有機(jī)發(fā)光二極管的方法，它能在真空狀態(tài)下進(jìn)行激光感應(yīng)熱成像時(shí)減少或防止受主襯底和施主膜之間雜質(zhì)或孔隙的出現(xiàn)。一種激光感應(yīng)熱成像裝置，包括包含用于接收成像層的受主襯底的襯底臺(tái)，該成像層在受主襯底上形成；電磁體；具有永磁體的、設(shè)置和層疊在襯底臺(tái)上的施主膜，且電磁體與施主膜的永磁體形成磁力；用于將激光發(fā)射到施主膜的激光振蕩器；以及至少在其中設(shè)有襯底臺(tái)的室。
文檔編號(hào)H01L51/50GK1923531SQ20061014221
公開日2007年3月7日 申請(qǐng)日期2006年8月29日 優(yōu)先權(quán)日2005年8月30日
發(fā)明者魯碩原, 李城宅, 金茂顯, 金善浩, 宋明原, 成鎮(zhèn)旭, 李在濠, 姜泰旻, 金鎮(zhèn)洙, 郭魯敏 申請(qǐng)人:三星Sdi株式會(huì)社