專(zhuān)利名稱(chēng):殼體結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本實(shí)用新型涉及一種殼體結(jié)構(gòu),特別是涉及一種受力不產(chǎn)生側(cè)移且不生厚薄影的殼體結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù):
圖1是表示一般公知技術(shù)中的殼體結(jié)構(gòu)B(B1、B2、B3)的立體圖。該殼體結(jié)構(gòu)B是由一下半殼H1、一上半殼H2所相互疊接而成的一中空構(gòu)件,如此以對(duì)于一對(duì)象E(例如磁盤(pán)驅(qū)動(dòng)器、光驅(qū)等電子裝置)進(jìn)行包覆。于組合后的下、上半殼H1、H2之間的交界位置上是形成有一接合區(qū)域J。
以下將通過(guò)圖1中的該殼體結(jié)構(gòu)B做為基礎(chǔ)以說(shuō)明下列3種常見(jiàn)的公知?dú)んw結(jié)構(gòu)B1、B2、B3。
請(qǐng)參閱圖2A-圖2C。
圖2A是表示根據(jù)圖1中的平面T1-T1對(duì)于該殼體結(jié)構(gòu)B進(jìn)行剖切的局部立體圖,借此以說(shuō)明第一種公知?dú)んw結(jié)構(gòu)B1的相關(guān)結(jié)構(gòu),圖2B是表示圖2A的局部側(cè)視圖,圖2C是表示沿著圖2B中的線段X-X所進(jìn)的剖面圖。
于圖2A中,該下半殼H1包括有一側(cè)壁W1-1及至少一個(gè)定位凸塊C-1,其中,這些定位凸塊C-1是以間隔方式設(shè)置于該側(cè)壁W1-1的內(nèi)側(cè)壁面上。該上半殼H2包括有一側(cè)壁W1-2及至少一個(gè)定位片C-2,其中,這些定位片C-2是以間隔方式設(shè)置于該側(cè)壁W1-2的內(nèi)側(cè)壁面上,并且于各定位片C-2上是具有一定位孔C-3。
當(dāng)將該上半殼H2的各定位片C-2的定位孔C-3分別被導(dǎo)入于該下半殼H1的各定位凸塊C-1上時(shí),則可完成了該下、上半殼H1、H2之間的組合,而相互組合的該下、上半殼H1、H2的兩側(cè)壁W1-1、W1-2是將該殼體結(jié)構(gòu)B1區(qū)分為內(nèi)/外部空間IS/OS,其中,內(nèi)部空間IS是用以收容該對(duì)象E(如圖1所示)。
于圖2B的局部放大圖中,兩側(cè)壁W1-1、W1-2之間的該接合區(qū)域J1是呈現(xiàn)出一縫隙,經(jīng)由該接合區(qū)域J1是可看到該殼體結(jié)構(gòu)B1內(nèi)部的結(jié)構(gòu),此并非理想的設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)。
圖2D是表示根據(jù)圖2C的結(jié)構(gòu)在受一力量F作用下的狀態(tài)圖。當(dāng)該力量F作用于該上半殼H2時(shí),由于部分的該定位片C-2會(huì)與其所結(jié)合的定位凸塊C-1之間分開(kāi),如此將可能造成該下半殼H1、該上半殼H2之間的不當(dāng)?shù)拿撾x。
請(qǐng)參閱于圖3A、3B。
圖3A是表示根據(jù)圖1中的平面T1-T1對(duì)于該殼體結(jié)構(gòu)B進(jìn)行剖切的局部立體圖,借此以說(shuō)明第二種公知?dú)んw結(jié)構(gòu)B2的相關(guān)結(jié)構(gòu),圖3B是表示圖3A的局部側(cè)視圖。
于圖3A中,該殼體結(jié)構(gòu)B2包括有相互鄰接的兩側(cè)壁W2-1、W2-2,各側(cè)壁W2-1、W2-2的自由端上的兩階梯端部M21、M22是彼此相互鄰接,并且于兩側(cè)壁W2-1、W2-2之間具有一接合區(qū)域J2。
與第一公知技術(shù)的殼體結(jié)構(gòu)B1(該殼體結(jié)構(gòu)B1的兩側(cè)壁W1-2、W1-2的自由端上是呈現(xiàn)出平直端部M11、M12)所不同的是,該殼體結(jié)構(gòu)B2是借由其兩側(cè)壁W2-1、W2-2上的兩階梯端部M21、M22之間而相互卡合,其它相關(guān)于該定位凸塊C-1、該定位片C-2等的結(jié)構(gòu)、功能及其所對(duì)應(yīng)的符號(hào)均未改變,于此便不再加以綴述。
請(qǐng)參閱圖3C、3D。
圖3C是表示沿著圖3B中的線段Y-Y進(jìn)行切割后的剖面圖,圖3D是表示根據(jù)圖3C的結(jié)構(gòu)于受一力量F作用下的狀態(tài)圖。
如圖3D所示,在該殼體結(jié)構(gòu)B2的兩側(cè)壁W2-1、W2-2上的兩階梯端部M21、M22之間的卡合作用下,自外部空間OS經(jīng)由接合區(qū)域J2是無(wú)法看到該殼體結(jié)構(gòu)B2的內(nèi)部空間IS的相關(guān)結(jié)構(gòu),但當(dāng)該力量F作用于該側(cè)壁W2-2時(shí),由于此時(shí)該側(cè)壁W2-1的階梯端部M21無(wú)法有效地對(duì)于偏移的該側(cè)壁W2-2進(jìn)行阻擋,部分的該定位片C-2會(huì)與其所結(jié)合的定位凸塊C-1之間分開(kāi),如此將可能造成該兩側(cè)壁W2-1、W2-2之間的不當(dāng)脫離。
另外,由于該側(cè)壁W2-1的階梯端部M21是采用不等均勻的截面結(jié)構(gòu),在射出成型的過(guò)程中便會(huì)于其外側(cè)面上形成厚薄影K等不良現(xiàn)象(如圖3E所示),亦即,在成品設(shè)計(jì)上有肉厚斷差時(shí)(如圖3F所示),則于斷差的背后容易產(chǎn)生厚薄影K,對(duì)于產(chǎn)品外觀有相當(dāng)不良的影響。
請(qǐng)參閱于圖4A、4B。
圖4A是表示根據(jù)圖1中的平面T1-T1對(duì)于該殼體結(jié)構(gòu)B進(jìn)行剖切的局部立體圖,借此以說(shuō)明第三種公知?dú)んw結(jié)構(gòu)B3的相關(guān)結(jié)構(gòu),圖4B是表示圖4A的局部側(cè)視圖。
于圖4A中,該殼體結(jié)構(gòu)B3包括有相互鄰接的兩側(cè)壁W3-1、W3-2,各側(cè)壁W3-1、W3-2的自由端上的兩階梯端部M31、M32是彼此相互鄰接,并且于兩側(cè)壁W3-1、W3-2之間具有一接合區(qū)域J3。
與第二公知技術(shù)的殼體結(jié)構(gòu)B2(兩階梯端部M21、M22)))所不同的是,此兩階梯端部M31、M32的間卡接的幾何結(jié)構(gòu)恰與第二公知技術(shù)的兩階梯端部M21、M22的間卡接的幾何結(jié)構(gòu)完全相反。其它相關(guān)于該定位凸塊C-1、該定位片C-2等的結(jié)構(gòu)、功能及其所對(duì)應(yīng)的符號(hào)均未改變,于此便不再加以綴述。
請(qǐng)參閱圖4C、4D。
圖4C是表示沿著圖4B中的線段Z-Z進(jìn)行切割后的剖面圖,圖4D是表示根據(jù)圖4C的結(jié)構(gòu)于受一力量F作用下的狀態(tài)圖。
如圖4C所示,在該殼體結(jié)構(gòu)B3的兩側(cè)壁W3-1、W3-2上的兩階梯端部M31、M32之間的卡合作用下,自外部空間OS經(jīng)由接合區(qū)域J3是無(wú)法看到該殼體結(jié)構(gòu)B3的內(nèi)部空間IS的相關(guān)結(jié)構(gòu),并且在兩階梯端部M31、M32之間的卡接作用下及該定位凸塊C-1、該定位片C-2之間的扣接作用下,該側(cè)壁W3-1、W3-2的間是不會(huì)因?yàn)橥獠苛α孔饔枚a(chǎn)生偏移或不當(dāng)脫離。
然而,由于該側(cè)壁W3-2的階梯端部M32是采用不等均勻截面結(jié)構(gòu),因而在射出成型后便會(huì)于其外側(cè)面上形成厚薄影K等不良現(xiàn)象,對(duì)于產(chǎn)品外觀有相當(dāng)不良的影響。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本實(shí)用新型的目的在于解決上述殼體側(cè)壁間是因?yàn)橥獠苛α孔饔枚a(chǎn)生偏移或不當(dāng)脫離,由接合區(qū)域可看到殼體結(jié)構(gòu)內(nèi)部的相關(guān)結(jié)構(gòu),以及由于側(cè)壁的階梯端部采用不等均勻截面結(jié)構(gòu),而在射出成型后便會(huì)于其外側(cè)面上形成厚薄影K等不良現(xiàn)象的問(wèn)題而提出一種殼體結(jié)構(gòu),該殼體結(jié)構(gòu)在第二半殼的第二止推部的阻擋作用下,由接合區(qū)域便無(wú)法看到該殼體結(jié)構(gòu)內(nèi)部的相關(guān)結(jié)構(gòu),且第一壁、第二壁是等均勻截面,而第二止推部?jī)H為形成于端面且較為靠近該第二內(nèi)壁的一連續(xù)凸塊,因而在第一壁、第二壁的射出成型過(guò)程中是不會(huì)于第一外側(cè)面、第二外側(cè)面上形成厚薄影等不良現(xiàn)象,由第二半殼的第二止推部、各相互扣合的第一連接部及第二連接部的共同作用下是可防止第一壁及第二壁朝向內(nèi)部空間不當(dāng)?shù)钠?,進(jìn)而避免第一半殼與第二半殼脫離。
本實(shí)用新型可通過(guò)如下措施實(shí)現(xiàn)一種殼體結(jié)構(gòu),具有一內(nèi)部空間,該殼體結(jié)構(gòu)包括一第一半殼,具有一第一壁、至少一第一連接部及至少一第一止推部,該第一壁具有一第一內(nèi)壁;以及一第二半殼,鄰接于該第一半殼,該第二半殼是具有一第二壁、至少一第二連接部及至少一第二止推部,該第二壁是具有一第二內(nèi)壁,該第二內(nèi)壁是與該第一內(nèi)壁共同朝向于該內(nèi)部空間,并且該第二連接部是以可分離方式結(jié)合于該第一連接部,其中該第一止推部是設(shè)置于該第一壁且朝向于該第二半殼,該第一半殼的該第一止推部具有鄰接于該第一內(nèi)壁的一缺口,當(dāng)該第一連接部與該第二連接部之間相互結(jié)合時(shí),該第二止推部是與該第一止推部以相互抵觸地形成止推作用的形式置于該缺口中。
所述的殼體結(jié)構(gòu),該第二止推部是由該第二內(nèi)壁延伸凸出于該第二壁側(cè)邊。
所述的殼體結(jié)構(gòu),該第一連接部、該第一止推部是一體成型于該第一壁上。
所述的殼體結(jié)構(gòu),該第二連接部、該第二止推部是一體成型于該第二壁上。
所述的殼體結(jié)構(gòu),該第一止推部是由至少一凸塊所構(gòu)成。
所述的殼體結(jié)構(gòu),該第二止推部是凸出方式設(shè)置于該第二壁側(cè)邊。
所述的殼體結(jié)構(gòu),該第一壁具有等均勻截面。
所述的殼體結(jié)構(gòu),該第二壁具有等均勻截面。
所述的殼體結(jié)構(gòu),該第一連接部是為一定位凸塊,該第二連接部是為—定位孔。
所述的殼體結(jié)構(gòu),該第二壁具有一L型截面,該第二壁鄰接于該第一止推部,該第二止推部鄰接于該第一壁。
所述的殼體結(jié)構(gòu),該第一連接部、該第一止推部是一體成型于該第一壁之上。
所述的殼體結(jié)構(gòu),該第二連接部、該第二止推部是一體成型于該第二壁之上。
所述的殼體結(jié)構(gòu),該第一止推部是由至少一凸塊所構(gòu)成。
所述的殼體結(jié)構(gòu),該第二止推部是以凸出方式設(shè)置于該第二壁側(cè)邊。
所述的殼體結(jié)構(gòu),該第一壁具有等均勻截面。
所述的殼體結(jié)構(gòu),該第二壁具有等均勻截面。
所述的殼體結(jié)構(gòu),該第一連接部是為一定位凸塊,該第二連接部是為一定位孔。
所述的殼體結(jié)構(gòu),該第二壁是包括有一主板及一翼板,該主板是具有等均勻截面,該翼板是具有等均勻截面。
所述的殼體結(jié)構(gòu),該第二內(nèi)壁的第二止推部為延伸板,該第一內(nèi)壁的第一止推部設(shè)于該內(nèi)壁的肋部,該肋部鄰接于該第二內(nèi)壁處且具有與該延伸板等長(zhǎng)的缺口;其中當(dāng)該第一半殼與該第二半殼結(jié)合時(shí),該延伸板是嵌入于該缺口中。
所述的殼體結(jié)構(gòu),該延伸板是由該第二內(nèi)壁的末端延伸出一片狀物。
所述的殼體結(jié)構(gòu),該第二內(nèi)壁具有一Z形端面,該Z形端面具有一第二止推部,該第二止推部為延伸板;及該第一內(nèi)壁的該第一止推部為設(shè)于該內(nèi)壁的肋部,該肋部鄰接于該第二內(nèi)壁處具有一深度與該延伸板長(zhǎng)度相等的缺口;其中當(dāng)該第一半殼與該第二半殼結(jié)合時(shí),該延伸板是嵌入于該缺口中。
本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于本實(shí)用新型的殼體結(jié)構(gòu)在第二半殼的第二止推部的阻擋作用下,由接合區(qū)域便無(wú)法看到該殼體結(jié)構(gòu)內(nèi)部的相關(guān)結(jié)構(gòu),且第一壁、第二壁是等均勻截面,而第二止推部?jī)H為形成于端面且較為靠近該第二內(nèi)壁的一連續(xù)凸塊,因而在第一壁、第二壁的射出成型過(guò)程中是不會(huì)于第一外側(cè)面、第二外側(cè)面上形成厚薄影等不良現(xiàn)象,又由于第二半殼的第二止推部、第一止推部的兩端部,各相互扣合的第一連接部及第二連接部的共同作用下是可防止第一壁及第二壁朝向內(nèi)部空間不當(dāng)?shù)钠?,進(jìn)而避免第一半殼與第二半殼脫離。
為了讓本實(shí)用新型的上述和其它目的、特征、和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂,下文特舉一較佳實(shí)施例,并配合所附圖標(biāo),作詳細(xì)說(shuō)明如下。
圖1是表示根據(jù)公知技術(shù)中的殼體結(jié)構(gòu)(B)的立體圖;圖2A是表示根據(jù)圖1中的平面T1對(duì)于該殼體結(jié)構(gòu)(B)進(jìn)行剖切的局部立體圖,借此以說(shuō)明第一種公知?dú)んw結(jié)構(gòu)(B1)的相關(guān)結(jié)構(gòu);圖2B則表示圖2A的局部側(cè)視圖;圖2C是表示沿著圖2B中的線段(X-X)所進(jìn)的剖面圖;圖2D是表示根據(jù)圖2C的結(jié)構(gòu)于受一力量(F)作用下的狀態(tài)圖;圖3A是表示根據(jù)圖1中的平面T1對(duì)于該殼體結(jié)構(gòu)(B)進(jìn)行剖切的局部立體圖,借此以說(shuō)明第二種公知?dú)んw結(jié)構(gòu)(B2)的相關(guān)結(jié)構(gòu);圖3B是表示圖3A的局部側(cè)視圖;圖3C是表示沿著圖3B中的線段(Y-Y)所進(jìn)的剖面圖;圖3D是表示根據(jù)圖3C的結(jié)構(gòu)于受一力量(F)作用下的狀態(tài)圖;圖3E是表示厚薄影可能出現(xiàn)在圖3C所示結(jié)構(gòu)中的所在位置圖;圖3F是表示產(chǎn)品在射出成型技術(shù)后的可能產(chǎn)生厚薄影的相關(guān)結(jié)構(gòu)示意圖;圖4A是表示根據(jù)圖1中的兩平面(T1、T2)對(duì)于該殼體結(jié)構(gòu)(B)進(jìn)行剖切的局部立體圖,借此以說(shuō)明第三種公知?dú)んw結(jié)構(gòu)(B3)的相關(guān)結(jié)構(gòu);圖4B是表示圖4A的局部側(cè)視圖;圖4C是表示沿著圖4B中的線段(Z-Z)所進(jìn)的剖面圖;圖4D是表示根據(jù)圖4C的結(jié)構(gòu)于受一力量F作用下的狀態(tài)圖;圖5是表示根據(jù)本實(shí)用新型第一實(shí)施例的殼體結(jié)構(gòu)(P1)的立體圖;圖6A是表示根據(jù)圖5中的平面I-I對(duì)于該殼體結(jié)構(gòu)(P1)進(jìn)行剖切的局部立體圖;
圖6B則表示圖6A的分解立體圖;圖6C則表示圖6B的區(qū)域(R1)的局部放大圖;圖6D是表示圖6A的局部側(cè)視圖;圖6E是沿著圖6D中的線段(A-A)所進(jìn)行切剖的剖面圖;圖7是表示根據(jù)本實(shí)用新型第二實(shí)施例的殼體結(jié)構(gòu)(P2)的立體圖;圖8A是表示根據(jù)圖7中的平面III對(duì)于該殼體結(jié)構(gòu)(P2)進(jìn)行剖切的局部立體圖;圖8B則表示圖8A的分解立體圖;圖8C是表示根據(jù)圖8B的區(qū)域(R2)的局部放大圖;圖8D是表示根據(jù)圖8C中的局部側(cè)視圖;以及圖8E是表示沿著圖8D中的線段(B-B)所進(jìn)行的剖面圖。
其中,附圖標(biāo)記說(shuō)明如下1~第一半殼10~第一壁100~端面10S1、10S2~第一外、內(nèi)壁11~第一連接部12~第一止推部121、122~擋片121E、122E~端部I、III平面2~第二半殼2’~第二半殼20~第二壁20’~第二壁20’-1~主板20’-2、20’-3~翼板20’S1、20’S2~第二外、內(nèi)壁200’~端面
20-1~主板20-2~翼板20S1、20S2~第二外、內(nèi)壁21~第二連接部21’~第二連接部210~定位片22~第二止推部22’~第二止推部50~缺口A-A、B-B~線段B、B 1、B2、B3~殼體結(jié)構(gòu)C-1~定位凸塊C-2~定位片C-3~定位孔E~對(duì)象F、F’~力量h、h’~距離H1~下半殼H2~上半殼IS~內(nèi)部空間J、J1、J2、J3~接合區(qū)域K~厚薄影L1、L2~接合區(qū)域M11、M12~平直端部M21、M22~階梯端部M31、M32~階梯端部OS~外部空間P1~殼體結(jié)構(gòu)P2~殼體結(jié)構(gòu)R1、R2~區(qū)域
T1、T2~平面W1-1、W1-2~側(cè)壁W2-1、W2-2~側(cè)壁W3-1、W3-2~側(cè)壁X-X、Y-Y、Z-Z~線段具體實(shí)施方式
第一實(shí)施例請(qǐng)參閱圖5,圖5是表示根據(jù)本實(shí)用新型殼體結(jié)構(gòu)P1的立體圖,該殼體結(jié)構(gòu)P1是用以對(duì)于一對(duì)象E(例如磁盤(pán)驅(qū)動(dòng)器、光驅(qū)等電子裝置)進(jìn)行包覆。
該殼體結(jié)構(gòu)P1是包括一第一半殼1及一第二半殼2,其中,該第一半殼1與該第二半殼2之間是相互疊接而形成一中空構(gòu)件,并且于相互結(jié)合的該第一半殼1與該第二半殼2之間形成有一接合區(qū)域L1。符號(hào)I是虛擬平面,借由此平面I以對(duì)于該殼體結(jié)構(gòu)P1進(jìn)行局部位置的剖切,并且在圖6A-6E中將針對(duì)此一剖切部位提出詳細(xì)說(shuō)明。
請(qǐng)參閱圖6A、6B,圖6A是表示根據(jù)圖5中的平面I對(duì)于該殼體結(jié)構(gòu)P1進(jìn)行剖切的局部立體圖,而圖6B則表示圖6A的分解立體圖,圖6C則表示圖6B的局部放大圖。
如圖6B所示,該第一半殼1包括有一第一壁10、至少一個(gè)第一連接部11(例如一卡勾)及至少一個(gè)第一止推部12(例如一肋部)。該第一壁10是為具有第一內(nèi)壁外/內(nèi)壁10S1/10S2的等均勻截面板件,并且在相對(duì)于該第二半殼2的該第一壁10的位置上具有一端面100。至少一個(gè)第一連接部11及至少一個(gè)第一止推部12是以間隔方式設(shè)置于該第一壁10的第一內(nèi)壁10S2上。
于本實(shí)施例中,至少一個(gè)第一連接部11、至少一個(gè)第一止推部12是以一體成型方式設(shè)置于該第一壁10之上,各第一止推部12是由設(shè)置于該第一內(nèi)壁10S2的兩擋片121、122所構(gòu)成,其中,兩擋片121、122是為相互平行的凸塊,并且該第一連接部11是設(shè)置于該擋片121、該擋片122之間。
該第二半殼2包括有一第二壁20、至少一個(gè)第二連接部21及一第二止推部22。該第二壁20是由一主板20-1及一翼板20-2所構(gòu)成的具有第二內(nèi)壁外/內(nèi)壁20S1/20S2的等均勻截面板件,并且在相對(duì)于該第一半殼1的該第二壁20的位置上是具有一端面200。至少一個(gè)第二連接部21是以間隔方式設(shè)置于該第二壁20的第二內(nèi)壁20S2上,該第二止推部22是由該第二內(nèi)壁20S2延伸凸出于第二壁20的端面200上的一延伸板。
于本實(shí)施例中,各第二連接部21是為設(shè)置于一定位片210上的孔洞,并且該第二止推部22是由第二內(nèi)壁20S2凸出于端面200上的一連續(xù)片狀凸緣,第二連接部21、第二止推部22是以一體成型方式設(shè)置于第二壁20之上。
當(dāng)進(jìn)行第一半殼1與第二半殼2之間的組合時(shí),第二半殼2的各定位片210是首先被導(dǎo)入于第一半殼1的各第一止推部12(各兩平行擋片121、122之間),并且當(dāng)?shù)诙霘?的端面200即將抵接于該第一半殼1的端面100時(shí),各第二連接部21便隨即與各第一連接部11之間產(chǎn)生扣合,如此便完成了該殼體結(jié)構(gòu)P1的組裝程序,亦即,當(dāng)?shù)谝贿B接部11與第二連接部21之間相互結(jié)合時(shí),第二止推部22是相鄰于第一內(nèi)壁10S2。
如圖6C的局部放大圖所示,第二止推部22是自端面200及第二內(nèi)壁20S2所延伸出一長(zhǎng)度為h的片狀物,且第一止推部12的端部121E、122E分別具有一長(zhǎng)度為h并鄰接于第一內(nèi)壁10S2的缺口(notch)50。當(dāng)?shù)谝话霘づc第二半殼結(jié)合時(shí),此第二止推部22可置于此缺口50中,如此一來(lái)缺口50可與第二止推部22相互抵觸地配合以形成止推作用,亦即可以抵銷(xiāo)如圖6E所示由外殼向內(nèi)殼的力F。
請(qǐng)參閱圖6D、6E。
圖6D是表示根據(jù)圖6A中的局部側(cè)視圖,圖6E是表示沿著圖6D中的線段A-A所作的剖面圖。
于圖6E中,完成組合后的殼體結(jié)構(gòu)P1中的第二半殼2的端面200是抵接于第一半殼1的端面100上,并且借由第一半殼1的第一壁10、第二半殼2的第二壁20共同將殼體結(jié)構(gòu)P1區(qū)分為內(nèi)/外部空間IS/OS,其中,內(nèi)部空間IS是用以收容對(duì)象E(如圖5所示)。
在第二半殼2的第二止推部22的阻擋作用下,由接合區(qū)域L1(圖5)便無(wú)法看到該殼體結(jié)構(gòu)P1內(nèi)部的相關(guān)結(jié)構(gòu)。再者,當(dāng)?shù)谝话霘?的第一壁10承受來(lái)自外側(cè)的一力量F作用時(shí),借由第二半殼2的第二止推部22、各相互扣合的第一連接部11和第二連接部21的共同作用下是可防止第一壁10朝向內(nèi)部空間不當(dāng)?shù)钠?,進(jìn)而避免第一半殼1與第二半殼2脫離;當(dāng)?shù)诙霘?的第二壁20承受來(lái)自外側(cè)的一力量F’作用時(shí),借由第一半殼1的各第一止推部12的兩端部121E/122E、各相互扣合的第一連接部11和第二連接部21的共同作用下是可防止第二壁20朝向內(nèi)部空間不當(dāng)?shù)钠啤?br>
此外,由圖6E可清楚看出,本實(shí)施例中的第一壁10、第二壁20于實(shí)質(zhì)上是呈現(xiàn)出等均勻截面,而第二止推部22僅為形成于端面200且較為靠近該第二內(nèi)壁20S2的一連續(xù)凸塊,因而在第一壁10、第二壁20的射出成型過(guò)程中是不會(huì)于第一外側(cè)面10S1、第二外側(cè)面20S1上形成厚薄影等不良現(xiàn)象。
第二實(shí)施例請(qǐng)參閱圖7,圖7是表示根據(jù)本實(shí)用新型殼體結(jié)構(gòu)P2的立體圖,該殼體結(jié)構(gòu)P2是借由相互組合的一第一半殼1與一第二半殼2’對(duì)于該對(duì)象E進(jìn)行包覆。
與第一實(shí)施例所不同的處是在于殼體結(jié)構(gòu)P2采用另一改良型的第二半殼2’,其它相關(guān)于該第一半殼1的結(jié)構(gòu)、符號(hào)均未改變,于此便不再加以綴述。
請(qǐng)參閱圖8A、8B,圖8A是表示根據(jù)圖7中的平面III對(duì)于該殼體結(jié)構(gòu)P2進(jìn)行剖切的局部立體圖,而圖8B則表示圖8A的分解立體圖。
于圖8B中,該第二半殼2’包括有一第二壁20’、至少一個(gè)第二連接部21’及一第二止推部22’。該第二壁20’是由一主板20’-1及第一翼板20’-2、第二翼板20’-3所構(gòu)成的具有第二內(nèi)壁外/內(nèi)壁20’S1/20’S2的等均勻截面板件,其中,主板20’-1的末端還彎折形成一厚度較薄的第一翼板20’-2,且第一翼板20’-2、第二翼板20’-3是分別以垂直于主板20’-1的縱長(zhǎng)方向上而延伸(亦即,主板20’-1、該兩翼板20’-2、20’-3是共同呈現(xiàn)一U型截面結(jié)構(gòu),其中,主板20’-1與第一翼板20’-2及第二止推部22’呈現(xiàn)一類(lèi)似Z型的截面結(jié)構(gòu),主板20’-1與第二翼板20’-3呈現(xiàn)一L型的截面結(jié)構(gòu)),并且在相對(duì)于該第一半殼1的該第二壁20’的位置上是具有一端面200’,該第二止推部22’是凸設(shè)于該端面200’上。各第二連接部21’是以間隔方式且相對(duì)于該第一半殼1的各第一連接部11的方式而設(shè)置在該第二壁20’的第二內(nèi)壁20’S2上。
請(qǐng)參閱圖8C、8D。
圖8C是表示根據(jù)圖8B的區(qū)域(R2)的局部放大圖,圖8E是表示沿著圖8D中的線段B-B所進(jìn)的剖面圖。
于圖8E中,完成組合后的該殼體結(jié)構(gòu)P2中的該第二半殼2’的端面200’是抵接于該第一半殼1的端面100上,并且借由該第一半殼1的第一壁10、該第二半殼2’的第二壁20’共同將該殼體結(jié)構(gòu)P2區(qū)分為內(nèi)/外部空間IS/OS。
在該第二半殼2’的第二止推部22’的阻擋作用下,由該接合區(qū)域L2(圖7)便無(wú)法看到該殼體結(jié)構(gòu)P2內(nèi)部的相關(guān)結(jié)構(gòu)。再者,當(dāng)該第一半殼1的第一壁10承受來(lái)自外側(cè)的一力量F作用時(shí),借由該第二半殼2’的第二止推部22’、各相互扣合的第一連接部11/第二連接部21’的共同作用下是可防止該第一壁10朝向內(nèi)部空間不當(dāng)?shù)钠疲M(jìn)而避免第一半殼1與第二半殼2的脫離;當(dāng)該第二半殼2的第二壁20承受來(lái)自外側(cè)的一力量F’作用時(shí),借由該第一半殼1的各第一止推部12的兩端部121E/122E、各相互扣合的第一連接部11/第二連接部21的共同作用下是可防止該第二壁20朝向內(nèi)部空間不當(dāng)?shù)钠啤?br>
由圖8C可清楚看出,本實(shí)施例中的該第二壁20’于實(shí)質(zhì)上是呈現(xiàn)出等均勻U型截面,而該第二止推部22’僅為形成于該端面200’且較為靠近該第二內(nèi)壁20’S2的一延伸板或是凸塊,因而在該第一壁10、該第二壁20’進(jìn)行射出成型過(guò)程中是不會(huì)于其第一外側(cè)面10S1、第二外側(cè)面20’S1上形成厚薄影等不良現(xiàn)象。
雖然本實(shí)用新型已以較佳實(shí)施例揭示如上,但其并非用以限制本實(shí)用新型,任何熟悉此項(xiàng)技術(shù)的人員,在不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍內(nèi),當(dāng)然可做更動(dòng)與潤(rùn)飾,因此本實(shí)用新型的保護(hù)范圍當(dāng)以后附的權(quán)利要求所界定的范圍為準(zhǔn)。
權(quán)利要求1.一種殼體結(jié)構(gòu),具有一內(nèi)部空間,該殼體結(jié)構(gòu)包括一第一半殼,具有一第一壁、至少一第一連接部及至少一第一止推部,該第一壁具有一第一內(nèi)壁;以及一第二半殼,鄰接于該第一半殼,該第二半殼是具有一第二壁、至少一第二連接部及至少一第二止推部,該第二壁是具有一第二內(nèi)壁,該第二內(nèi)壁是與該第一內(nèi)壁共同朝向于該內(nèi)部空間,并且該第二連接部是以可分離方式結(jié)合于該第一連接部,其特征在于該第一止推部是設(shè)置于該第一壁且朝向于該第二半殼,該第一半殼的該第一止推部具有鄰接于該第一內(nèi)壁的一缺口,當(dāng)該第一連接部與該第二連接部之間相互結(jié)合時(shí),該第二止推部是與該第一止推部以相互抵觸地形成止推作用的形式置于該缺口中。
2.如權(quán)利要求1所述的殼體結(jié)構(gòu),其特征在于,該第二止推部是由該第二內(nèi)壁延伸凸出于該第二壁側(cè)邊。
3.如權(quán)利要求1所述的殼體結(jié)構(gòu),其特征在于,該第一連接部、該第一止推部是一體成型于該第一壁上。
4.如權(quán)利要求1所述的殼體結(jié)構(gòu),其特征在于,該第二連接部、該第二止推部是一體成型于該第二壁上。
5.如權(quán)利要求1所述的殼體結(jié)構(gòu),其特征在于,該第一止推部是由至少一凸塊所構(gòu)成。
6.如權(quán)利要求1所述的殼體結(jié)構(gòu),其特征在于,該第二止推部是凸出方式設(shè)置于該第二壁側(cè)邊。
7.如權(quán)利要求1所述的殼體結(jié)構(gòu),其特征在于,該第一壁具有等均勻截面。
8.如權(quán)利要求1所述的殼體結(jié)構(gòu),其特征在于,該第二壁具有等均勻截面。
9.如權(quán)利要求1所述的殼體結(jié)構(gòu),其特征在于,該第一連接部是為一定位凸塊,該第二連接部是為一定位孔。
10.如權(quán)利要求1所述的殼體結(jié)構(gòu),其特征在于,該第二壁具有一L型截面,該第二壁鄰接于該第一止推部,該第二止推部鄰接于該第一壁。
11.如權(quán)利要求10所述的殼體結(jié)構(gòu),其特征在于,該第一連接部、該第一止推部是一體成型于該第一壁之上。
12.如權(quán)利要求10所述的殼體結(jié)構(gòu),其特征在于,該第二連接部、該第二止推部是一體成型于該第二壁之上。
13.如權(quán)利要求10所述的殼體結(jié)構(gòu),其特征在于,該第一止推部是由至少一凸塊所構(gòu)成。
14.如權(quán)利要求10所述的殼體結(jié)構(gòu),其特征在于,該第二止推部是以凸出方式設(shè)置于該第二壁側(cè)邊。
15.如權(quán)利要求10所述的殼體結(jié)構(gòu),其特征在于,該第一壁具有等均勻截面。
16.如權(quán)利要求10所述的殼體結(jié)構(gòu),其特征在于,該第二壁具有等均勻截面。
17.如權(quán)利要求10所述的殼體結(jié)構(gòu),其特征在于,該第一連接部是為一定位凸塊,該第二連接部是為一定位孔。
18.如權(quán)利要求10所述的殼體結(jié)構(gòu),其特征在于,該第二壁是包括有一主板及一翼板,該主板是具有等均勻截面,該翼板是具有等均勻截面。
19.如權(quán)利要求1所述的殼體結(jié)構(gòu),其特征在于,該第二內(nèi)壁的第二止推部為延伸板,該第一內(nèi)壁的第一止推部設(shè)于該內(nèi)壁的肋部,該肋部鄰接于該第二內(nèi)壁處且具有與該延伸板等長(zhǎng)的缺口;其中當(dāng)該第一半殼與該第二半殼結(jié)合時(shí),該延伸板是嵌入于該缺口中。
20.如權(quán)利要求19所述的殼體結(jié)構(gòu),其特征在于,該延伸板是由該第二內(nèi)壁的末端延伸出一片狀物。
21.如權(quán)利要求1所述的殼體結(jié)構(gòu),其特征在于,該第二內(nèi)壁具有一Z形端面,該Z形端面具有一第二止推部,該第二止推部為延伸板;及該第一內(nèi)壁的該第一止推部為設(shè)于該內(nèi)壁的肋部,該肋部鄰接于該第二內(nèi)壁處具有一深度與該延伸板長(zhǎng)度相等的缺口;其中當(dāng)該第一半殼與該第二半殼結(jié)合時(shí),該延伸板是嵌入于該缺口中。
專(zhuān)利摘要本實(shí)用新型涉及一種殼體結(jié)構(gòu),包括一第一半殼及一第二半殼;其中此第一半殼的內(nèi)壁具有至少一第一連接部及至少一第一止推部;第二半殼的內(nèi)壁具有至少一第二連接部及至少一第二止推部,每一第二止推部還具有一缺口,當(dāng)?shù)谝话霘づc該第二半殼結(jié)合時(shí),第一止推部可置于此缺口中以相互抵觸地形成止推作用;此外,此第一半殼及一第二半殼是呈現(xiàn)等均勻截面,以避免形成厚薄影。
文檔編號(hào)G11B33/00GK2621386SQ0326598
公開(kāi)日2004年6月23日 申請(qǐng)日期2003年6月9日 優(yōu)先權(quán)日2003年6月9日
發(fā)明者林志成 申請(qǐng)人:華碩電腦股份有限公司