專利名稱：光信息記錄介質(zhì)的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種能夠利用特定波長的激光進(jìn)行記錄和再生的可寫入型光信息記錄介質(zhì)的制造方法。
近年來，需求記錄密度更高的光信息記錄介質(zhì)。響應(yīng)于這種需求，提出的是可寫入型數(shù)字通用·光盤(所謂DVD-R)(例如[日經(jīng)new media]附刊[DVD]、1995年發(fā)行)。上述DVD-R通常具有，將在用于引導(dǎo)激光照射的導(dǎo)向槽(預(yù)刻槽)的寬度(0.74～0.8μm)小于CD-R導(dǎo)向槽寬1/2的透明圓盤狀襯底上，依次將含有有機(jī)色素的記錄層、光反射層以及保護(hù)層疊層后得到的2張盤，以記錄層為內(nèi)側(cè)貼合在一起，或者將該盤和具有同樣形狀的圓盤狀保護(hù)襯底，將記錄層作為內(nèi)側(cè)貼合在一起的結(jié)構(gòu)。并且，通過照射可視激光(通常是630nm～680nm范圍波長的激光)而向上述DVD-R記錄信息和再生信息，從而能夠?qū)崿F(xiàn)比CD-R更高密度的記錄。
最近，因特網(wǎng)等的網(wǎng)絡(luò)系統(tǒng)或高清晰度電視迅速地普及起來。另外，也即將實(shí)現(xiàn)HDTV(High Definition Television)的放映。在這種形式下，需要的是能夠便宜簡便地記錄圖象信息的大容量記錄介質(zhì)。目前DVD-R，作為大容量記錄介質(zhì)發(fā)揮著非常重要的作用，但是大容量化、高密度化要求是其一方面，而另一方面，能夠適應(yīng)上述要求的記錄介質(zhì)的開發(fā)也是必須的。因此，正在進(jìn)行能夠在比DVD-R更短波長的光下進(jìn)行高密度記錄的容量更大的記錄介質(zhì)的開發(fā)。
例如，在特開平4-74690號公報(bào)、特開平7-304256號公報(bào)、特開平7-304257號公報(bào)、特開平8-127174號公報(bào)、、特開平11-53758號公報(bào)、特開平11-334204號公報(bào)、特開平11-334205號公報(bào)、特開平11-334206號公報(bào)、特開平11-334207號公報(bào)、特開2000-43423號公報(bào)、特開2000-108513號公報(bào)、特開2000-113504號公報(bào)、特開2000-149320號公報(bào)、特開2000-158818號公報(bào)以及特開2000-228028號公報(bào)中提出，在記錄層中含有有機(jī)色素的光信息記錄介質(zhì)中，通過從記錄層側(cè)向金屬反射層側(cè)，照射波長小于530nm的激光，而進(jìn)行信息的記錄和再生的記錄再生方法。上述這些方法中，通過向在記錄層中含有卟啉化合物、偶氮系色素、金屬偶氮系色素、奎酞酮系色素、三次甲基花青苷色素、二氰乙烯基苯基骨架色素、香豆素化合物、萘酚花青苷色素等的光盤，照射藍(lán)色(波長430nm、488nm)或者是藍(lán)綠色(波長515nm)的激光，進(jìn)行信息記錄和再生。
另一方面，作為DVD，相變型光盤已被人們所知，它是采用GeSbTe等合金層作為記錄層，通過用激光瞬時(shí)間加熱記錄層，而使其從結(jié)晶狀態(tài)相變至非晶形狀態(tài)，并利用由相變產(chǎn)生的反射率變化，記錄再生的方式。最近發(fā)表了利用上述相變化型的DVD，通過藍(lán)紫激光，進(jìn)行記錄再生的DVR系統(tǒng)([ISOM2000]210～211頁)。上述體系，一定程度上解決了高密度化課題，并得到了一定效果。
在利用如上述的藍(lán)紫色激光和高NA數(shù)據(jù)讀取頭(pick up)的光記錄體系中使用的光信息記錄介質(zhì)是，當(dāng)向記錄層照射藍(lán)紫色激光時(shí)，為了對準(zhǔn)高NA的物鏡的焦點(diǎn)，理想的是薄化激光入射的被覆層。上述被覆層例如可以使用薄膜，通過粘接劑或粘附劑，粘接于記錄層上。保護(hù)層的厚度是包括粘接劑固化而形成的粘接層通常約100μm，根據(jù)照射激光的波長或NA而適宜選擇。
上述光盤在圓盤狀襯底上至少具有記錄層和被覆層。制造時(shí)，需要進(jìn)行通過使用UV固化型粘接劑或粘附劑等粘接劑而在圓盤狀襯底的至少形成有記錄層的面上貼合被覆膜，從而形成被覆層的貼合工序。但是，因?yàn)樵谏鲜鲑N合工序中，將上述記錄層形成面和上述保護(hù)膜貼合在一起而形成的粘接層很容易受灰塵的污染而形成缺陷部，所以丟失光盤信息，即成品率下降。
另外，在特開2000-67468號公報(bào)中記載了設(shè)置保護(hù)層的以下方法，即連續(xù)形成透明薄膜和粘接膜的層疊體被夾持于脫模膜兩側(cè)的薄膜層疊體，然后加工成圓盤形狀的薄膜層疊體，接著，剝離與粘接膜相接側(cè)的脫模膜的同時(shí)在形成記錄面的光盤襯底表面上對位貼合。
根據(jù)上述方法，如果連續(xù)形成薄膜疊層體后螺旋狀卷繞上述薄膜疊層體，則加工成圓盤形狀的薄膜疊層體帶有卷邊或打折，結(jié)果形成表面有污點(diǎn)或厚度不均的保護(hù)層。其結(jié)果，具有上述被覆層的光信息記錄介質(zhì)，不能夠得到充分的記錄特性和耐久性。
另外，制造上述光信息記錄介質(zhì)中的DVD-R，CD-R時(shí)，通常在襯底上形成記錄層，然后在之上形成金屬反射層。因此，記錄層側(cè)的金屬反射層面不會(huì)暴露于空氣中。另外，制造DVR時(shí)因?yàn)樵谝r底上形成金屬反射層，然后在之上形成記錄層，所以記錄層側(cè)的金屬反射層面暴露于空氣中，直至形成記錄層。金屬反射層通常是通過濺射法形成Ag、Al等金屬膜的方法形成，由于形成的層暴露于空氣中，其表面受到空氣中的水分或溫度的影響而被氧化，使金屬反射層表面的光潔度變差。
本發(fā)明的另一目的在于，制造大容量光信息記錄介質(zhì)時(shí)，在使用粘接劑貼合記錄層形成面和被覆膜粘接面的貼合工序中，通過防止在上述記錄層形成面和上述被覆模之間進(jìn)入灰塵，能夠防止丟失信息的光信息記錄介質(zhì)的制造方法。
另外，本發(fā)明的另一目的在于，在使用具有卷筒狀卷曲的工序的被覆層制造方法的光信息記錄介質(zhì)的制造方法中，提供具有優(yōu)良的記錄特性和耐久性的光信息記錄介質(zhì)的制造方法。另外，本發(fā)明的另一目的在于提供生產(chǎn)率優(yōu)異的光信息記錄介質(zhì)的制造方法。
上述課題通過以下的本發(fā)明而完成。即本發(fā)明提供一種光信息記錄介質(zhì)的制造方法，磁道間距為200至400nm，槽深為20至150nm，用波長小于450nm的光記錄再生，其特征在于，至少依次具有在襯底上形成金屬反射層的金屬反射層形成工序、在該金屬反射層上形成有機(jī)色素系的記錄層的記錄層形成工序、以及在記錄層上形成被覆層的被覆層形成工序。
另外，本發(fā)明之2提供的光信息記錄介質(zhì)的制造方法是，上述激光的波長小于450nm、上述被覆層的厚度是0.01至0.5mm，上述金屬反射層形成工序剛結(jié)束至上述被覆層形成工序開始為止的時(shí)間為12小時(shí)以下。
另外，本發(fā)明之3提供的光信息記錄介質(zhì)的制造方法是，在被覆層形成工序中，通過用粘接劑在上述記錄層上貼合被覆層粘接面的貼合工序而形成上述被覆層，上述貼合工序是將在上述被覆膜的粘接面的反面上預(yù)先貼合的保護(hù)膜，在形成上述記錄層的面和上述保護(hù)膜的粘接面貼合在一起后，從上述被覆層的表面剝離。
另外，本發(fā)明之4提供的光信息記錄介質(zhì)的制造方法是，上述被覆層形成工序包括在上述記錄層上貼合設(shè)有粘接層的由被覆膜組成的被覆層，使該粘接層與上述表面相接的工序，上述被覆層是依次經(jīng)過在滾筒狀卷曲的覆膜表面上，連續(xù)設(shè)置含有交聯(lián)劑的粘附層的工序；將設(shè)有粘附層的覆膜再次卷繞成螺旋狀的工序；保持粘接層的交聯(lián)反應(yīng)完全結(jié)束為止的工序；將設(shè)有粘附層的覆膜沖成盤狀的工序；將設(shè)有盤狀的粘附層的覆膜近似水平地層壓并保持的工序而制造。
另外，本發(fā)明之5提供的光信息記錄介質(zhì)的制造方法是，上述被覆層形成工序包括在上述記錄層上貼合設(shè)有粘接層的由被覆膜組成的被覆層，使該粘接層與上述表面相接的工序，上述被覆層是依次經(jīng)過在滾筒狀卷曲的覆膜表面上，連續(xù)設(shè)置含有交聯(lián)劑的粘附層的工序；將設(shè)有粘附層的覆膜再次卷繞成螺旋狀的工序；保持粘接層的交聯(lián)反應(yīng)完全結(jié)束為止的工序；將設(shè)有粘附層的沖成覆膜盤狀的工序；將設(shè)有盤狀的粘附層的覆膜近似垂直地層壓并保持的工序而制造。
另外，在上述2的制造方法中，理想的是從形成上述金屬反射層的工序剛結(jié)束至上述被覆層形成工序開始之前的保存溫度是20至40℃，保存濕度為30至80％。理想的是利用濺射法形成上述金屬反射層。另外，用涂布法形成上述有機(jī)色素系的記錄層是理想的。
另外，在上述4和5的制造方法中，在卷筒狀卷曲的保護(hù)膜表面上連續(xù)設(shè)置含有交聯(lián)劑的粘附層的工序是通過在卷筒狀卷曲的離型膜表面上連續(xù)涂布含有交聯(lián)劑的粘附劑而形成粘附劑涂布層的工序、干燥在上述離型膜表面上形成的粘附劑涂布層的工序以及使上述粘附劑涂布層和被覆膜表面接觸而貼合的工序進(jìn)行。
圖2是表示在支撐機(jī)構(gòu)上近似水平地層疊設(shè)有盤狀粘附層的被覆膜的狀態(tài)的示意圖。
圖3是表示在支撐機(jī)構(gòu)上近似垂直地層疊設(shè)有盤狀粘附層的被覆膜的狀態(tài)的示意圖。
首先說明作為本發(fā)明的光信息記錄介質(zhì)的制造方法的特征的保護(hù)層的制造方法。
在本發(fā)明之2的光信息記錄介質(zhì)的制造方法中，被覆層是，將構(gòu)成粘接層的光固化性樹脂溶解于適當(dāng)?shù)娜軇┲校苽渫坎家褐?，在一定溫度下將上述涂布液涂布在記錄層上形成涂布膜，接著在上述涂布膜上層壓由溶液流延制膜得到的三乙酸纖維素薄膜(TAC薄膜)，從層壓的TAC薄膜上方照射光，固化涂布膜而形成。理想的是上述TAC薄膜中不含紫外線吸收劑。被覆層的厚度是0.01至0.5mm的范圍，理想的是0.03至0.3mm的范圍，更理想的是0.05至0.15mm的范圍。
在本發(fā)明之2中，從形成上述金屬反射層的工序剛結(jié)束后經(jīng)過形成記錄層的工序，至形成上述被覆層的工序開始之前的時(shí)間(以下，有時(shí)稱為[經(jīng)過時(shí)間]是小于12小時(shí)。通過使經(jīng)過時(shí)間小于12小時(shí)，空氣中的水分或溫度對金屬反射層表面的影響小，能夠使金屬反射層的表面粗糙度小，使跳動(dòng)小，同時(shí)使噪音小。如果經(jīng)過時(shí)間超過12小時(shí)，則受空氣中的水分或溫度的影響，金屬反射層被氧化，使表面粗糙度大，所以不理想。
上述經(jīng)過時(shí)間更為理想的是6小時(shí)以下，更為理想的是3小時(shí)以下。
在上述經(jīng)過時(shí)間內(nèi)，理想的保存溫度是20至40℃，更為理想的是20至25℃。另外，經(jīng)過時(shí)間內(nèi)的保存濕度理想的是30至80％，更理想的是30至50％。通過在保存時(shí)間內(nèi)使保存溫度在20至40℃，并使保存濕度30至80％，能夠進(jìn)一步降低金屬反射層的表面粗糙度。
在本發(fā)明之3中，被覆層是指通過粘接劑在上述記錄層形成面上貼合的被覆膜。
在本發(fā)明之3中，在使記錄層形成面和被覆膜的粘接面用粘接劑貼合在一起的貼合工序中，需要貼合上述記錄層形成面和上述被覆膜的粘接面之后，將預(yù)先在上述被覆膜的粘接面的反面上貼合的保護(hù)膜，從被覆層的表面剝離。
將預(yù)先在被覆膜的粘接面的反面上貼合的保護(hù)膜，從上述被覆膜剝離之后，通過用粘接劑將記錄層形成面和被覆膜粘接面貼合在一起的貼合工序，形成被覆層而制作光信息記錄介質(zhì)的情況下，在上述光信息記錄介質(zhì)的記錄層形成面和被覆層之間進(jìn)入灰塵，丟失信息。這可能是因?yàn)?，將保護(hù)膜從覆膜剝離時(shí)，由產(chǎn)生的靜電而該覆膜帶電，使得漂浮在空中的灰塵等粘附于上述覆膜的粘接面的緣故。
本發(fā)明中使用的被覆膜，只要是對于向記錄層記錄信息時(shí)使用的波長在380nm至500nm范圍的激光至少具有透過性，能夠保護(hù)上述記錄層的物理、化學(xué)、機(jī)械性能以避免外部破壞的膜狀物，并且在被覆膜的粘接面反面上貼合有預(yù)保護(hù)膜的就可以，沒有特別的限制。另外，上述[具有透光性]是指具有透過上述激光(透過率80％以上)程度的透明度。另外，如上述的帶有保護(hù)膜的被覆膜是從保管或搬運(yùn)等的觀點(diǎn)，預(yù)先卷繞成為滾筒狀為理想。
作為覆膜所使用的材料，理想的是樹脂，更理想的是聚碳酸酯或三乙酸纖維素，特別理想的是在23℃ 50％的濕度下的吸濕率低于5％的材料。另外，為了防止將記錄層形成面和被覆膜的粘接面貼合時(shí)由上述粘接面的凹凸而在粘接層上產(chǎn)生氣泡，理想的是盡可能使上述粘接面平滑。具體地，在被覆膜的粘接面的反面上預(yù)先貼附有保護(hù)膜的帶有保護(hù)膜的被覆膜，例如可以例舉聚碳酸酯、三乙酸纖維素(TAC薄膜)。另外，被覆膜的厚度是能夠保護(hù)記錄層就可以，但因?yàn)镹A的關(guān)系，實(shí)用上理想的是50μm至100μm范圍，更為理想的是80μm至95μm范圍。
另外，作為保護(hù)膜，只要是能夠保護(hù)帶有保護(hù)膜的被覆膜的物理、化學(xué)、機(jī)械性能，并且形成被覆層后從被覆層表面剝離保護(hù)膜時(shí)，不破損被覆層或在被覆層表面上不殘留通過洗滌難以洗去的物質(zhì)，就沒有特別的限定。但是，理想的是由厚度為10μm至100μm范圍的聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚乙烯等樹脂組成。另外，理想的是保護(hù)膜和被覆膜在保管或運(yùn)輸帶有保護(hù)膜的被覆膜時(shí)不剝離，并且其貼合程度應(yīng)能夠容易剝離前者和后者。
用粘接劑貼合記錄層形成面和被覆膜粘接面的方法是，在通常推定的環(huán)境下處理光信息記錄介質(zhì)時(shí)，粘接強(qiáng)度達(dá)到被覆層不從上述記錄層形成面剝離程度的方法就可以，可以使用公知的任意一種方法。
另外，作為粘接劑理想的是通過UV照射的固化而產(chǎn)生粘接力的UV固化型粘接劑或象涂布在雙面膠帶或標(biāo)簽等的用非常小的壓力瞬間產(chǎn)生粘接力的粘接劑。
作為粘接劑使用UV固化型粘接劑時(shí)的貼合工序是例如按以下方法進(jìn)行。首先在圓盤狀襯底的記錄層形成面上通過旋轉(zhuǎn)涂法涂布預(yù)先真空脫氣泡的UV固化型粘接劑，使在圓盤狀襯底的內(nèi)周端和從內(nèi)周端沿半徑方向向外周側(cè)有Xmm的圓周之間的同心圓狀區(qū)域內(nèi)大致鋪開。另外，為了確保粘接層中不進(jìn)入氣泡而均勻地貼合在一起，將X值作為10mm至40mm左右的范圍，在記錄層形成面的一部分表面上涂布是合適的。
接著，將帶有保護(hù)膜的被覆膜的粘接面，重疊在涂有UV固化型粘接劑的記錄層形成面上，通過旋轉(zhuǎn)圓盤狀襯底，在被覆膜的粘接面和記錄層形成面之間的整面上鋪開。
在該狀態(tài)下，用UV照射燈，將紫外線向重疊被覆膜的記錄層形成面?zhèn)日丈?，通過粘接貼合帶有保護(hù)膜的被覆膜和中間層而形成被覆層，然后從該被覆層表面剝離保護(hù)膜。
向記錄層形成面涂布粘接劑的方法可以采用公知的方法，理想的是使用旋轉(zhuǎn)涂法。從控制粘接劑粘度的觀點(diǎn)出發(fā)，涂布溫度在23至50℃范圍是理想的，更理想的是24至40℃范圍。特別理想的是25至37℃范圍。
用粘接劑貼合記錄層形成面和被覆膜的粘接面之后，作為上述粘接劑使用UV固化型粘接劑的情況下，需要進(jìn)行UV照射。使用于UV照射的UV照射機(jī)，沒有特別的限定，理想的是使用脈沖型UV照射器。
使用脈沖型UV照射器時(shí)，理想的是在其脈沖間隔小于10sec的時(shí)標(biāo)下進(jìn)行。在小于1sec的時(shí)標(biāo)下進(jìn)行將更加理想。另外，1脈沖的照射瓦特沒有特別的限定，理想的是3kw/cm2以下，更理想的是2kw/cm2以下，照射次數(shù)沒有特別的限定，但理想的是20次以下，更理想的時(shí)10次以下。
上述UV固化型粘接劑是，能夠通過UV光的照射進(jìn)行固化而粘接貼合記錄層表面和被覆膜的粘接面的就可以，沒有特別的限定，但為了防止光信息記錄介質(zhì)的卷曲，理想的是固化時(shí)的收縮率小的。作為上述的UV固化型粘接劑，可以使用例如是SD661(日本油墨社制)、SD-640(日本油墨社制)、SD-347(日本油墨社制)、SD-694(日本油墨社制)、SKCD1051(SKC社制)等。理想的是將上述這些預(yù)先真空脫氣泡后使用。
另外，作為使用于貼合中的粘接劑，使用粘附劑時(shí)，只要能夠粘接記錄層形成面和被覆膜的粘接面的就可以，沒有特別的限制，在使用粘接劑時(shí)，將上述粘接劑調(diào)節(jié)為適當(dāng)?shù)拇笮?，向記錄層形成面貼附，剝離隔離物等之后貼合被覆膜進(jìn)行粘接，形成被覆層，然后可以從被覆層表面剝離保護(hù)膜。
作為粘接劑，使用雙面膠帶的情況下，對該雙面膠帶的基體材料沒有特別的限定，例如可以使用聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚丙烯、聚乙烯、氯乙烯等的塑料薄膜或牛皮紙、高級紙、灰的棉紙、日本紙等紙，人造絲、聚酯等無紡布，由聚酯、尼龍、丙烯酸等合成纖維組成的織布，鋁、銅、不銹鋼等的金屬箔，將脫模劑層條狀地均勻涂布在基體材料上的角度出發(fā)，理想的是塑料薄膜。
另外，用于雙面膠帶中的脫模劑，可以適當(dāng)選擇硅酮系脫模劑或長鏈烷系脫模劑等迄今使用的各種脫模劑。
另外，上述脫模劑可以使用例如是SD661(日本油墨社制)、SD-640(日本油墨社制)、SD-347(日本油墨社制)、SD-694(日本油墨社制)、SKCD1051(SKC社制)等。理想的是將上述這些預(yù)先真空脫氣泡后使用。
在本發(fā)明之4和5的光信息記錄介質(zhì)的制造方法中，被覆層是依次經(jīng)過(a)在滾筒狀卷曲的被覆膜表面上，連續(xù)設(shè)置含有交聯(lián)劑的粘附層的工序；(b)將設(shè)有粘附層的被覆膜再次卷繞成螺旋狀的工序；(c)粘接層的交聯(lián)反應(yīng)完全結(jié)束為止保持的工序；(d)將設(shè)有粘附層的被覆膜，沖壓成盤狀的工序；(e)將設(shè)有盤狀粘附層的被覆膜近似水平地層壓而保持的工序而制造。
下面，說明每個(gè)工序。
(a)在滾筒狀卷曲的被覆膜表面上，連續(xù)設(shè)置含有交聯(lián)劑的粘附層的工序在被覆膜表面上連續(xù)設(shè)置含有交聯(lián)劑的粘附層的方法，可以大致區(qū)分為在被覆膜表面上貼附預(yù)先形成的粘附層的方法(以下稱為適宜、間接法)和在被覆膜表面上直接涂布粘附劑，干燥而形成粘附層的方法(以下稱為適宜、直接法)。
使用間接法時(shí)，例如可以通過

圖1所示的粘附層設(shè)置裝置連續(xù)地在被覆膜表面上設(shè)置粘附層。圖1是用于在被覆膜表面連續(xù)地設(shè)置粘附層的方法之1的粘附層設(shè)置裝置的示意截面圖。另外，上述粘附層設(shè)置裝置是，可以在裝置內(nèi)進(jìn)行將設(shè)有后述的(b)粘附層的被覆膜再次卷筒狀卷繞的工序。
如在圖1中所示，粘附層設(shè)置裝置具有脫模薄膜f1被卷曲的卷筒1、涂布裝置2、干燥裝置3、脫模薄膜f2被卷繞的卷筒4、用于共同卷繞設(shè)有粘附層的脫模薄膜f1和脫模薄膜f2的卷筒5。
粘接層設(shè)置裝置的操作方法是，首先，從卷繞脫模薄膜f1的卷筒1，向箭頭方向送出脫模薄膜f1。如果未圖示的控制部確認(rèn)送出的脫模薄膜f1的前端已運(yùn)送至一定區(qū)域(涂布區(qū)域)，使用設(shè)置于上述區(qū)域的涂布部2，開始在脫模薄膜f1的表面上涂布預(yù)先配制的粘附劑涂布液(涂布工序)。通過上述的涂布工序，得到形成有粘附劑涂布層的脫模薄膜f1。另外，卷繞在卷筒1上的脫模薄膜f1搬送至末端為止繼續(xù)上述的粘附劑涂布工序。
未圖示的控制部如果確認(rèn)形成有粘附劑涂布層的脫模薄膜f1搬送至末端，通過設(shè)置于上述干燥區(qū)域中的干燥裝置3，干燥粘附劑涂布層(干燥工序)。由此，通過上述工序粘附劑涂布層的溶劑揮發(fā)，得到具有粘附層的脫模薄膜f1，然后搬送，在貼合區(qū)域a中，具有粘附層的脫模薄膜f1與從卷筒4送出的被覆膜f2進(jìn)行貼合，使被覆膜f2的表面和脫模薄膜f1的粘接層相接(貼合工序)。然后在卷筒5共同卷繞設(shè)有粘附層的脫模薄膜f1和被覆膜f2(卷繞工序)。在粘附層設(shè)置裝置中，1個(gè)卷筒狀的脫模薄膜f1從卷筒1送出，并卷繞于卷筒5為止連續(xù)進(jìn)行上述一系列工序。
在粘附層設(shè)置裝置中，作為涂布機(jī)構(gòu)2，可以使用以往公知的涂布機(jī)構(gòu)。具體地，可以例舉噴射法、滾涂法、板涂法、刮刀滾法、網(wǎng)板印刷等涂布機(jī)構(gòu)。
另外，作為干燥機(jī)構(gòu)3，可以使用加熱干燥、鼓風(fēng)干燥等以往公知的涂布機(jī)構(gòu)。
使用直接法時(shí)，送出滾筒狀被覆膜，從上述被覆膜的前端至末端，連續(xù)涂布粘附劑涂布液，形成粘附劑涂布層之后，依次干燥粘附劑涂布層，而在被覆膜的整個(gè)單面上形成粘附層。
另外，在直接法的涂布以及干燥工序中，可以使用在上述粘附層設(shè)置裝置中所使用的涂布機(jī)構(gòu)以及干燥機(jī)構(gòu)。
作為在上述(a)工序中使用的脫模薄膜f1，可以使用聚乙烯薄膜、聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚萘二甲酸乙二醇酯薄膜、聚碳酸酯薄膜、三醋酸鹽纖維素薄膜等。
在上述(a)工序中使用的被覆膜f2，只要是透明材料的薄膜就沒有特別的限制，理想的是使用聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸樹脂，聚氯乙烯、聚氯乙烯共聚物等的氯乙烯系樹脂，環(huán)氧樹脂，無定型聚烯烴，聚酯，三醋酸纖維素等，其中更理想的是使用聚碳酸酯或三醋酸纖維素。
另外，透明度是指對于使用于記錄以及再生中的光，透過率大于80％。
上述被覆膜f2，因?yàn)樵诤笫龅?b)工序中再次卷筒狀卷繞，所以為了更容易地進(jìn)行卷繞，理想的是對被覆膜f2的沒有設(shè)置粘附層的面進(jìn)行脫模處理。作為所使用的脫模處理，可以例舉使被覆膜f2的表面粗面化的方法、貼附具有脫模性的薄膜的方法以及用涂布法等形成脫模層的方法。上述脫模處理中，理想的是貼附具有脫模性的薄膜的方法。
另外，在不妨礙本發(fā)明效果的范圍內(nèi)，被覆膜f2可以含有各種添加劑。例如，用于截留波長小于400nm光的UV吸收劑和/或用于截留波長大于500nm的光的色素。
被覆膜f2的理想的表面物性是平面表面粗糙度以及空間表面粗糙度均小于5nm。另外，從用于記錄以及再生的光的聚光度考慮，被覆膜的雙折射小于10nm是理想的。
另外，作為卷筒狀的被覆膜，例如可以是在150mmφ的軸上卷繞寬度為150mm、長度為200mm的薄膜后的構(gòu)成物。
被覆膜f2的厚度理想的是0.03至0.15mm，更理想的是0.05至0.12mm的范圍。通過使被覆膜f2的厚度在上述范圍之內(nèi)，貼合被覆膜的工序操作變得容易，并且具有能夠抑制慧差的優(yōu)點(diǎn)。
用于上述(a)工序中的粘附劑，可以使用丙烯酸系、橡膠系、硅酮系的粘附劑，但從透明性、耐久性的觀點(diǎn)，理想的是丙烯酸系的粘附劑。上述丙烯酸系粘附劑，理想的是使用以2-乙基己基丙烯酸酯、正丁基丙烯酸酯等作為主要成分共聚為了提高凝聚力而加入的短鏈烷基丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯，例如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸甲酯以及可以與交聯(lián)劑成為交聯(lián)點(diǎn)的丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酰胺衍生物、馬來酸、丙烯酸羥乙酯、縮水甘油丙烯酸酯等后的物質(zhì)。通過適宜調(diào)整主要成分和短鏈成分以及用于增加交聯(lián)點(diǎn)的成分的混合比例、種類，能夠改變玻璃化轉(zhuǎn)變溫度(Tg)或交聯(lián)密度。
與上述粘附劑并用的交聯(lián)劑可以例舉異氰酸酯系交聯(lián)劑、環(huán)氧樹脂系交聯(lián)劑、三聚氰胺樹脂系交聯(lián)劑、尿素樹脂系交聯(lián)劑、螯合系交聯(lián)劑。其中理想的是異氰酸酯系交聯(lián)劑。上述異氰酸酯系交聯(lián)劑可以例舉亞芐基二異氰酸酯、二苯甲烷-4-4’-二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯、1，5-二異氰酸萘酯、o-甲苯胺異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、三苯甲烷三異氰酸酯等異氰酸酯類，上述異氰酸酯類和多元醇的生成物，通過異氰酸酯類的縮合而生成的聚異氰酸酯類。上述異氰酸酯類的市售商品可以例舉日本polyurethane社制的colonadoL、colonado HL、colonado 2030、colonado 2031、milionado MR、milionadoHTL、武田藥品社制的dakenadoD-102、dakenado D-110N、dakenadoD-200、dakenado D-202、住友baieil社制的deismogjul L、deismogjul IL、N、deismogju1 HL等。
(b)設(shè)有粘附層的被覆膜再次卷筒狀卷繞的工序通過該工序，卷筒狀卷繞的、設(shè)有粘附層的被覆膜，比同樣的板狀疊層體容易搬運(yùn)，具有搬運(yùn)性優(yōu)異的優(yōu)點(diǎn)。因此，通過上述粘附層設(shè)置裝置進(jìn)行了一系列的粘附層設(shè)置工序并卷筒狀卷繞的設(shè)有粘附層的被覆膜，容易從裝置剝離，能夠容易向后述(c)工序過渡。
(c)保持粘接層的交聯(lián)反應(yīng)完全結(jié)束為止的工序該工序是為了得到優(yōu)良的粘附層的粘附性以及粘附層和記錄層或中間層的貼合面之間的密合性，提高光信息記錄介質(zhì)的耐久性而設(shè)置的工序。
在該工序中，將通過上述(b)工序卷筒狀卷繞的設(shè)有粘附層的被覆膜，保持至粘接層的交聯(lián)反應(yīng)完全結(jié)束為止。上述的[粘接層的交聯(lián)反應(yīng)完全結(jié)束為止]是指[利用紫外分光吸收光譜儀測定粘接層，直至與使用的交聯(lián)劑的交聯(lián)相關(guān)的官能基團(tuán)產(chǎn)生的峰完全消失]，粘接層的厚度通過構(gòu)成粘接層的粘接劑、交聯(lián)劑的種類、或被保持的空間的環(huán)境(溫度和濕度)而適宜調(diào)節(jié)。
例如，使用丙烯酸系粘接劑作為粘接劑，使用異氰酸酯系交聯(lián)劑作為交聯(lián)劑而構(gòu)成的粘接層(X)，在23℃溫度、50％RH的濕度環(huán)境下，隔一定時(shí)間測定上述粘接層的紫外分光吸收光譜，通過測定在保持前(涂布剛結(jié)束后)由異氰酸酯產(chǎn)生的、出現(xiàn)在2275至2250cm-1附近的吸收峰完全消失為止所需要的時(shí)間，可以求出對應(yīng)[粘接層(X)的交聯(lián)反應(yīng)完全結(jié)束為止]的時(shí)間。
按照上述求出的[粘接層的交聯(lián)反應(yīng)完全結(jié)束為止]時(shí)間，具體在通常的室溫環(huán)境(溫度為21至30℃，濕度為30至80％Rh)下為72小時(shí)。因此，在上述環(huán)境下，設(shè)有粘接層的被覆膜需要保持72小時(shí)以上。
(d)將設(shè)有粘附層的覆膜沖壓成盤狀的工序在該工序中，將設(shè)有粘接層的卷筒狀被覆膜，沖壓為規(guī)定大小即與襯底相同大小的盤狀。
更詳細(xì)地說，送出設(shè)有粘接層的卷筒狀被覆膜，暫時(shí)地，在平面狀的狀態(tài)下，例如使用切斷沖模，連續(xù)地沖壓成為與襯底同樣的大小。
然后，通過再次卷筒狀卷繞在沒有被沖壓以外的部分上設(shè)有粘接層的被覆膜，能夠回收由沖壓所產(chǎn)生的廢料。
(e)將設(shè)有盤狀的粘附層的被覆膜近似水平或近似垂直地層壓并保持的工序該工序是，為了矯正設(shè)有粘接層的被覆膜所具有的卷邊、打折、各向異性等形變而進(jìn)行。參照圖2和圖3，詳細(xì)說明上述工序。上述圖2是表示在支撐機(jī)構(gòu)上近似水平地層疊設(shè)有粘接層的盤狀被覆膜的狀態(tài)的示意圖。圖3是表示在支撐機(jī)構(gòu)上近似垂直地層疊設(shè)有粘接層的盤狀被覆膜的狀態(tài)的示意圖。
另外，在本發(fā)明中[近似水平]包含以下狀態(tài)，即層疊設(shè)有粘接層的圓盤狀被覆膜而構(gòu)成的疊層體上面(最上層的表面)，由于設(shè)有粘接層的每個(gè)被覆膜的形狀和/或后述的保持機(jī)構(gòu)，可以在施加負(fù)荷之前稍微偏離水平而傾斜的狀態(tài)。另外，[近似垂直]是包含層疊設(shè)有粘接層的圓盤狀被覆膜而構(gòu)成的疊層體上面(最上層的表面)，由于設(shè)有粘接層的每個(gè)被覆膜的形狀和/或后述的保持機(jī)構(gòu)，可以在施加負(fù)荷之前稍微偏離垂直而傾斜的狀態(tài)。
如圖2中所示，近似水平地疊層而保持的工序中，保持機(jī)構(gòu)是由臺(tái)座10、外徑稍小于設(shè)有粘接層的圓盤狀被覆膜f3的中心孔的儲(chǔ)存導(dǎo)桿(stockjig)20構(gòu)成。
在臺(tái)座10上，將設(shè)有粘接層的圓盤狀被覆膜f3的中心孔，嵌入儲(chǔ)存導(dǎo)桿20中的狀態(tài)下，疊層規(guī)定張數(shù)例如50張。
另外，如圖3所示，近似垂直地疊層而保持的工序中，保持機(jī)構(gòu)是由臺(tái)座30、外徑稍小于設(shè)有粘接層的圓盤狀被覆膜f3的中心孔的儲(chǔ)存導(dǎo)桿40、用于垂直地保持設(shè)有粘接層的圓盤狀被覆膜f3的疊層體而設(shè)置的襯墊50構(gòu)成。
臺(tái)座30是通過未圖示的固定構(gòu)件固定在固定面F上。相對于該臺(tái)座30垂直設(shè)置的儲(chǔ)存導(dǎo)桿40中嵌入設(shè)有粘接層的圓盤狀被覆膜f4的中心孔的狀態(tài)下，疊層規(guī)定張數(shù)例如50張。襯墊50是考慮了疊層50張的設(shè)有粘接層的圓盤狀被覆膜f4的疊層體厚度，離臺(tái)座30的距離相同于疊層體厚度或稍微小于疊層體厚度地設(shè)置。由此，不用傾斜上述疊層體而能夠垂直保持。
另外，如果通過從箭頭方向施加負(fù)荷，而使從臺(tái)座30至襯墊50的距離小于設(shè)有粘接層的圓盤狀被覆膜f4的疊層體厚度，則能夠在短時(shí)間內(nèi)矯正形變。上述的理想的負(fù)荷是10至500g的范圍。
在該狀態(tài)下，通過保持一定的時(shí)間例如1小時(shí)，設(shè)有粘接層的圓盤狀被覆膜f3和f4，靠自身的重量矯正卷邊、打折、各向異性。上述保持時(shí)間是根據(jù)被覆膜的厚度、粘附層的厚度、構(gòu)成粘附層的粘附劑、交聯(lián)劑以及其它添加劑的種類或被保持的空間的環(huán)境(溫度和濕度)而適當(dāng)調(diào)節(jié)。
并且，通過從設(shè)有粘接層的圓盤狀被覆膜f3和f4疊層體的上方施加負(fù)荷，能夠在更短時(shí)間內(nèi)矯正形變。
由上述而制造的被覆層是因?yàn)檎辰訉拥慕宦?lián)反應(yīng)完全結(jié)束，對于記錄層或中間層的貼合面顯示出高粘合性，同時(shí)能夠矯正卷邊、打折、各向異性，所以具有表面污點(diǎn)或厚度不均少的優(yōu)良的效果。另外，被覆層的制造工序是完全連續(xù)地進(jìn)行，并且通過具有上述(b)和(d)工序，搬運(yùn)性優(yōu)異，容易回收垃圾，所以也具有生產(chǎn)率優(yōu)異的效果。
通過在設(shè)置于襯底上的記錄層的表面上貼合上述被覆層的粘附層，使它們相接而制造光信息記錄介質(zhì)。這樣制造的光信息記錄介質(zhì)具有優(yōu)異的記錄特性和耐久性。
上述本發(fā)明的光信息記錄介質(zhì)的制造方法中除了上述被覆層的制造工序以外還包括以在襯底上形成上述光反射層的光反射層形成工序、在上述光反射層上形成上述記錄層的記錄層形成工序?yàn)榇淼母鞣N公知的工序。
可以在襯底表面和記錄層之間設(shè)置反射層，或在記錄層和被覆層之間設(shè)置中間層。
另外，在記錄層和被覆層之間設(shè)置中間層而形成光信息記錄介質(zhì)的情況下，通過按照上述方法將中間層表面(記錄層形成面)和被覆層粘接面貼合在一起而實(shí)施本發(fā)明中進(jìn)行的貼合工序。
同樣，光信息記錄介質(zhì)在記錄層和被覆層之間設(shè)置任何中間層的情況下，通過按照上述方法將記錄層表面(記錄層形成面)和被覆層粘接面貼合在一起而實(shí)施本發(fā)明中進(jìn)行的貼合工序。
光反射層形成工序光反射層形成工序是在后述襯底的形成預(yù)刻槽的面上形成由反射性物質(zhì)構(gòu)成的光反射層的工序。
作為襯底可以任意地選擇使用，作為以往的光信息記錄介質(zhì)的襯底材料而使用的各種材料。
具體地可以例舉玻璃、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸樹脂；聚氯乙烯、氯乙烯共聚物等氯乙烯系樹脂；環(huán)氧樹脂；無定型聚烯烴；聚酯；鋁等金屬，根據(jù)需要，也可以組合使用。
上述材料中，從耐濕性、尺寸穩(wěn)定性以及價(jià)格低廉的角度出發(fā)，理想的是聚碳酸酯、無定型聚烯烴，特別理想的是聚碳酸酯。另外，襯底厚度以1.1±0.3mm為理想。
襯底上形成有引導(dǎo)用的導(dǎo)向槽或者是表達(dá)地址信號等信息的凹凸(預(yù)刻槽)。為了達(dá)到更高的記錄密度，需要比CD-R或DVD-R更窄的磁道間距的預(yù)刻槽。例如，使用DVR-blue等介質(zhì)時(shí)，預(yù)刻槽的磁道間距必須是200至400nm，更理想的是250至350nm。另外，預(yù)刻槽的深度(槽深)范圍必須是20至150nm，更理想的是30至100nm的范圍。
另外，理想的是在設(shè)置后述光反射層的襯底表面上，以改善平面性、提高粘接力為目的，形成底涂層。
作為該底涂層的材料，可以例舉聚甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸-甲基丙烯酸共聚物、苯乙烯-馬來酸酐共聚物、聚乙烯醇、N-羥甲基丙烯酰胺、苯乙烯-乙烯基甲苯共聚物、氯磺酰化聚乙烯、硝酸纖維素、聚氯乙烯、氯化聚烯烴、聚酯、聚亞胺、醋酸乙烯-氯乙烯共聚物、乙烯-醋酸乙烯共聚物、聚乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯等高分子物質(zhì)；有機(jī)硅烷偶合劑等表面改性劑等。
底涂層是可以通過，將上述材料溶解或分散到適當(dāng)?shù)娜軇┲兄苽渫坎家褐?，利用旋轉(zhuǎn)涂層、浸漬涂層、擠出涂層等涂布法，在基板表面上涂布涂布液而制造。底涂層的厚度通常為0.005至20μm，理想的是0.01至10μm。
光反射層可以通過將上述的光反射性物質(zhì)蒸鍍、濺射或者離子鍍(plating)而在襯底上形成。光反射層的厚度通常是10至300nm，理想的是50至200nm。
另外，理想的是上述反射率為70％以上。
反射率高的光反射性物質(zhì)可以例舉Mg、Se、Y、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、Ir、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Bi等金屬以及半金屬或者不銹鋼。這些光反射性物質(zhì)可以單獨(dú)使用，或者組合2種以上，或者作為合金使用。其中，理想的是，Cr、Ni、Pt、Cu、Ag、Au、Al以及不銹鋼。特別理想的是Au、Ag、Al或者是它們的合金，最理想的是Au、Ag或它們的合金。
中間層形成工序設(shè)置中間層時(shí)，構(gòu)成中間層的材料，只要是透過90％以上的波長在380nm至500nm區(qū)域的激光的材料就可以，沒有特別的限制，但是構(gòu)成中間層的理想材料是透過上述波長的玻璃、陶瓷等電介質(zhì)，其中ZnS-SiO2或者SiO2為更理想。
中間層是例如可以通過蒸鍍、濺射、或離子鍍，形成于襯底上。中間層的厚度受NA以及于中間層上形成的覆膜層厚度的限制，使用時(shí)理想的是1nm至300nm的范圍，更為理想的是2nm至200nm的范圍。記錄層形成工序記錄層形成工序是在上述光反射層上形成記錄層的工序。該記錄層是通過波長小于600nm、在本發(fā)明之1中特別是通過波長小于450nm的激光，而能夠記錄情報(bào)，理想的是記錄物質(zhì)中含有色素。上述記錄層中含有的色素可以例舉花青苷色素、氧雜菁色素、金屬配位系色素、偶氮基色素、酞菁系色素、苯并三唑色素、氨基丁二烯色素等。
理想的是，選自三唑系化合物、酞菁化合物、聚卟啉系化合物、氨基丁二烯系化合物、花青苷系化合物等中的至少一種，作為酞菁化合物，理想的是選自烷氧基取代物、磺酰胺取代物、磺?；〈铩⒒撬崛〈镏械闹辽僖环N。
另外，可以組合在特開平4-74690號公報(bào)、特開平8-127174號公報(bào)、特開平11-53758號公報(bào)、特開平11-334204號公報(bào)、特開平11-334205號公報(bào)、特開平11-334206號公報(bào)、特開平11-334207號公報(bào)、特開2000-43423號公報(bào)、特開2000-108513號公報(bào)以及特開2000-158818號公報(bào)等中所記載的色素一同使用。
另外，不限定于上述色素，可以適當(dāng)?shù)厥褂萌蚧衔?、三嗪化合物、花菁苷化合物、份菁化合物、氨基丁二烯化合物、酞菁衍生物、肉桂酸化合物、氧化還原化合物、偶氮化合物、氧雜菁苯并噁唑化合物、苯并三唑衍生物等有機(jī)化合物。上述化合物中，特別理想的是花菁苷化合物、氨基丁二烯化合物、苯并三唑衍生物和酞菁衍生物。
另外，本發(fā)明之2中，尤其理想的是能夠?qū)⒉ㄩL為380至500nm的激光通過透鏡加工率NA為0.7以上的物鏡進(jìn)行照射而記錄再生，上述記錄層中含有的色素除了上述以外，具體可以例舉在以下的化合物1或化合物2中所表示的記錄物質(zhì)。并且記錄層可以包含2種以上的色素。
化合物1 化合物2 記錄層是通過，將色素等記錄物質(zhì)，與粘合劑一同，溶解于適當(dāng)?shù)娜軇┲卸苽溆涗泴油坎家汉?，將該記錄層涂布液涂布在于襯底表面形成的反射層上，形成涂膜，進(jìn)行干燥而形成。涂布液中的記錄物質(zhì)濃度一般是0.01至15質(zhì)量％的范圍，理想為0.1至10質(zhì)量％，更理想為0.5至5質(zhì)量％范圍，最理想的是0.5至3質(zhì)量％范圍。
用于制備涂布液的溶劑，可以例舉乙酸丁酯、乳酸乙酯、乙酸溶纖劑等酯；甲乙酮、環(huán)己酮、甲基異丁酮等酮；二氯甲烷、1，2-二氯乙烷、三氯甲烷等的氯代烴；二甲基甲酰胺等酰胺、甲基環(huán)己烷等烴；四氫呋喃、乙醚、二噁烷等醚；乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇二丙酮醇等醇；2，2，3，3-四氟丙醇等氟系溶劑；乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、丙三醇單甲醚等醇醚類等。
上述溶劑是考慮所使用的記錄物質(zhì)的溶解性，可以單獨(dú)或者是組合2種以上使用。根據(jù)需要，在涂布液中還可以加入防氧化劑、紫外線吸收劑、增塑劑、潤滑劑等各種添加劑。
使用粘合劑的情況下，作為粘合劑可以例舉明膠、纖維素衍生物、葡萄糖、松脂、橡膠等天然有機(jī)高分子物質(zhì)；聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚異丁烯等烴系樹脂；聚氯乙烯、聚偏氯乙烯、聚氯乙烯-聚醋酸乙烯聚合物等乙烯系樹脂；聚丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸樹脂；聚乙烯醇、氯代聚乙烯、環(huán)氧樹脂、丁縮醛樹脂、橡膠衍生物、苯酚-木質(zhì)素-甲醛樹脂等熱固化性樹脂的初期縮合物等合成有機(jī)高分子等。將粘合劑作為記錄層材料一同使用時(shí)，粘合劑的使用量通常是相對記錄物質(zhì)的0.01倍量至50倍量(質(zhì)量比)，理想為0.1至5倍量(質(zhì)量比)。按上述制備的涂布液中的記錄物質(zhì)濃度通常是0.01至10質(zhì)量％范圍，理想的是0.1至5質(zhì)量％范圍。
作為涂布方法，可以例舉噴涂法、旋轉(zhuǎn)涂層法、浸漬法、輥涂法、板涂層法、括刀輥法、網(wǎng)板印刷法等。記錄層可以是單層，也可以是多層。另外，記錄層的厚度通常在20至500nm的范圍，理想的是30至300nm的范圍，更理想的是50至100nm的范圍。另外，作為涂布溫度，如果在23至50℃的范圍之內(nèi)就不會(huì)有很大的問題，理想的是24至40℃，更理想的是25至50℃。
為了防止盤的彎曲，理想的是用脈沖型光照射器(理想的是UV照射器)向涂布膜照射紫外線。脈沖間隔以msec以下為理想，μsec以下更為理想。1脈沖的照射光量，沒有特別的限制，但以3kW/cm2以下為理想，2kW/cm2以下更為理想。
另外，照射次數(shù)沒有特別的限制，以20次以下為理想，10次以下更為理想。
在記錄層中為了提高該記錄層的耐光性，可以加入各種防退色劑。
作為防退色劑，通常使用的是單態(tài)氧猝滅劑。作為單態(tài)氧猝滅劑，可以使用記載于已經(jīng)公知的專利說明書等刊物的。
其具體例，可以例舉在特開昭58-175693號公報(bào)、特開昭59-81194號公報(bào)、特開昭60-18387號公報(bào)、特開昭60-19586號公報(bào)、特開昭60-19587號公報(bào)、特開昭60-35054號公報(bào)、特開昭60-36190號公報(bào)、特開昭60-36191號公報(bào)、特開昭60-44554號公報(bào)、特開昭60-44555號公報(bào)、特開昭60-44389號公報(bào)、特開昭60-44390號公報(bào)、特開昭60-54892號公報(bào)、特開昭60-47069號公報(bào)、特開昭63-209995號公報(bào)、特開平4-25492號公報(bào)、特公平1-38680號公報(bào)以及特公平6-26028號公報(bào)等公報(bào)、德國專利350399號說明書及日本化學(xué)會(huì)志1992年10月號第1141頁中所記載的。
上述單態(tài)氧猝滅劑等防退色劑的使用量，相對于用于色素量，通常是0.1至50質(zhì)量％范圍，理想的是0.5至45質(zhì)量％范圍，更理想的是3至40質(zhì)量％范圍，特別理想的是5至25質(zhì)量％范圍。
中間層形成工序在本發(fā)明的光信息記錄介質(zhì)的制造方法中，可以在上述記錄層上設(shè)置中間層。中間層是為了提高記錄層的保存性，提高記錄層和被覆層的粘接性而設(shè)置的。構(gòu)成中間層的材料，只要是透過用于記錄和再生的光的材料就可以，沒有特別的限制，但通常以電介質(zhì)為理想，具體理想的是，由Zn、Si、Ti、Te、Sn、Mo、Ge等氮化物、氧化物、碳化物以及硫化物所構(gòu)成的材料，即ZnS、MoO2、GeO2、TeO、SiO2、TiO2、ZnO、ZnS-SiO2、SnO2，其中，更為理想的是ZnS-SiO2、SiO2。另外，中間層是可以通過蒸鍍、濺射等真空成膜的方法形成。
如上所述，通過將經(jīng)過光反射層形成工序、記錄層形成工序、根據(jù)需要還經(jīng)過中間層形成工序而形成的疊層體和由上述被覆層的制作工序而制得的被覆層貼合在一起，得到了光信息記錄介質(zhì)。
以上，本發(fā)明說明了記錄層中含有色素等有機(jī)化合物記錄物質(zhì)的光信息記錄介質(zhì)的制造方法的例子，記錄層可以是通過相變進(jìn)行記錄的相變記錄層、通過光磁性進(jìn)行記錄的光磁性記錄層。例如，是相變記錄層時(shí)，電介體層是由ZnS-SiO2等構(gòu)成，設(shè)置電介體層而替代光透過層。另外，相變記錄層中可以使用Sb、Te、Ag、In等的硫?qū)俚鹊慕饘倩衔镒鳛橛涗浳镔|(zhì)。
下面，通過實(shí)施例更詳細(xì)說明本發(fā)明，但本發(fā)明并不限于下述的實(shí)施例。
實(shí)施例1-1在具有厚度為1.1mm、直徑為120mm的螺旋狀槽(磁道間距300nm、槽深40nm、槽寬150nm)的射出成形聚碳酸酯樹脂(帝人社制聚碳酸酯、商品名panlaidoAD5503)襯底的具有槽的面上，在0.2kw的濺射功率、Ar流量50cm3/sec的濺射條件下濺射Ag，形成100nm膜厚的反射層。然后，將olasolv藍(lán)-GN(ciba fine chemical社制)與2，2，3，3-四氟丙醇進(jìn)行混合，照射超聲波2小時(shí)進(jìn)行溶解制備了色素涂布液。用旋轉(zhuǎn)涂層法，邊使轉(zhuǎn)速變化范圍在300至4000rpm，邊在23℃、50％RH的條件下涂敷上述色素涂布液形成記錄層。接著，在23℃、50％RH下，退火2小時(shí)，通過旋轉(zhuǎn)涂層法，在100至300rpm下，涂敷UV效果粘接劑(日本油墨化學(xué)工業(yè)(株)制SD347、在色素中的溶解性0.05質(zhì)量％)，疊合聚碳酸酯樹脂(bjuaeise帝人社制、膜厚70微米)，邊將轉(zhuǎn)速從300rpm變化至4000rpm，邊在整面上展開粘接劑，然后用UV照射燈照射紫外線，進(jìn)行固化，形成100μm的被覆層，得到了實(shí)施例1的光信息記錄介質(zhì)。另外，將反射層剛形成至開始形成被覆層為止所需的時(shí)間定為1小時(shí)，此時(shí)的保存溫度和保存濕度分別為23℃和50％。
實(shí)施例1-2除了使反射層剛形成至開始形成被覆層為止所需的時(shí)間為6小時(shí)，此時(shí)的保存溫度和保存濕度分別為23℃和50％以外，與實(shí)施例1-1相同地得到了實(shí)施例1-2的光信息記錄介質(zhì)。
實(shí)施例1-3除了使反射層剛形成至開始形成被覆層為止所需的時(shí)間為12小時(shí)，此時(shí)的保存溫度和保存濕度分別為23℃和50％以外，與實(shí)施例1-1相同地得到了實(shí)施例1-3的光信息記錄介質(zhì)。
實(shí)施例1-4除了使反射層剛形成至開始形成被覆層為止所需的時(shí)間為1小時(shí)，此時(shí)的保存溫度和保存濕度分別為40℃和50％以外，與實(shí)施例1-1相同地得到了實(shí)施例1-4的光信息記錄介質(zhì)。
實(shí)施例1-5除了使反射層剛形成至開始形成被覆層為止所需的時(shí)間為1小時(shí)，此時(shí)的保存溫度和保存濕度分別為40℃和80％以外，與實(shí)施例1-1相同地得到了實(shí)施例1-5的光信息記錄介質(zhì)。
實(shí)施例1-6形成反射層時(shí)不使用實(shí)施例1中使用的Ag而使用Al，在3.0kw的濺射功率、Ar流量50cm3/sec的濺射條件下濺射，形成100nm厚的反射層以外，與實(shí)施例1-1相同地得到了實(shí)施例1-6的光信息記錄介質(zhì)。
實(shí)施例1-7
除了使反射層剛形成至開始形成被覆層為止所需的時(shí)間為1小時(shí)，此時(shí)的保存溫度和保存濕度分別為45℃和50％以外，與實(shí)施例1-1相同地得到了實(shí)施例1-7的光信息記錄介質(zhì)。
實(shí)施例1-8除了使反射層剛形成至開始形成被覆層為止所需的時(shí)間為1小時(shí)，此時(shí)的保存溫度和保存濕度分別為40℃和90％以外，與實(shí)施例1-1相同地得到了實(shí)施例1-8的光信息記錄介質(zhì)。
比較例1-1除了使反射層剛形成至開始形成被覆層為止所需的時(shí)間為13小時(shí)以外，與實(shí)施例1-1相同地得到了比較例1-1的光信息記錄介質(zhì)。
比較例1-2除了在反射層剛形成至開始形成被覆層為止的時(shí)間內(nèi)，使保存溫度和保存濕度分別為40℃和50％以外，與實(shí)施例1-1相同地得到了比較例1-2的光信息記錄介質(zhì)。
比較例1-3除了在反射層剛形成至開始形成被覆層為止的時(shí)間內(nèi)，使保存溫度和保存濕度分別為40℃和80％以外，與實(shí)施例1-1相同地得到了比較例1-3的光信息記錄介質(zhì)。
比較例1-4除了在反射層剛形成至開始形成被覆層為止的時(shí)間內(nèi)，使保存溫度和保存濕度分別為45℃和50％以外，與實(shí)施例1-1相同地得到了比較例1-4的光信息記錄介質(zhì)。
比較例1-5除了在反射層剛形成至開始形成被覆層為止的時(shí)間內(nèi)，使保存溫度和保存濕度分別為40℃和90％以外，與實(shí)施例1-1相同地得到了比較例1-5的光信息記錄介質(zhì)。
評價(jià)對于以上的各實(shí)施例和比較例中得到的光信息記錄介質(zhì)，進(jìn)行以下的(1)至(3)的評價(jià)，將評價(jià)結(jié)果表示于表1中。
(1)離反射層表面的基準(zhǔn)面15nm處的平均突起直徑形成反射層后，在以下條件下用原子力顯微鏡(AFM)測定形成被覆層之前的光信息記錄介質(zhì)，求出平均表面粗糙度sRa，并將其作為基準(zhǔn)面，求出離該基準(zhǔn)面有15nm高度處的平均突起直徑Dv。平均突起直徑Dv是指將突起的截面看作圓時(shí)的直徑的平均值。該值越大，表面突起越大，表面粗糙。
測定條件裝置seiko instruments社制(商品名SPA500)方式AFM方式(接觸方式)測定用探針SI AF01(彈簧常數(shù)0.1N/m)測定范圍10μm角掃描輪廓512×512掃描速度2Hz(2)跳動(dòng)評價(jià)將形成被覆層的光信息記錄介質(zhì)，照射波長為405nm的激光，通過設(shè)有數(shù)值孔徑NA為0.85的數(shù)據(jù)讀取頭的記錄再生評價(jià)機(jī)，(pulsedake社制、商品名DDU1000)，在脈沖頻率66MHz/線速5.6m/sec下，記錄再生1-7PP調(diào)制信號，用時(shí)間間隔測定器測定跳動(dòng)。
(3)噪音評價(jià)將形成被覆層的光信息記錄介質(zhì)，通過在[(2)跳動(dòng)評價(jià)]中使用的記錄再生機(jī)，與(2)相同地記錄再生，用示波器測定未記錄部分的反射率，將[信號振幅/信號大小]作為未記錄噪音。
表1

另外，在表1中，具有特別良好的記錄再生特性的記為◎，具有良好的記錄再生特性的記為○，稍微差，但使用沒有問題的記為△，使用上有問題的記為×。
由表1可知，形成反射層后，形成被覆層為止的時(shí)間小于12小時(shí)的實(shí)施例1至6的光信息記錄介質(zhì)是其反射層的表面粗糙度、跳動(dòng)、以及噪音均小。特別是在上述時(shí)間內(nèi)的保存溫度和保存濕度分別為20至40℃，30至80％的實(shí)施例1至6中得到了更加良好的結(jié)果。
相對于此，上述時(shí)間超過12小時(shí)的比較例1-1至1-5的光信息記錄介質(zhì)中，其表面粗糙度、跳動(dòng)、以及噪音均大，效果不好。
實(shí)施例2-1利用在厚度為1.1mm、直徑為120mm的圓盤狀襯底表面上具有螺旋狀槽(磁道間距340nm、槽深20nm、槽寬160nm)的射出成形聚碳酸酯樹脂(帝人社制聚碳酸酯、商品名panlaidoAD5503)襯底，在圓盤狀襯底的形成槽的面上通過濺射，形成120nm厚的Ag膜反射層。
然后把將用化合物1表示的有機(jī)物色素溶解于乳酸乙酯溶液中照射超聲波2小時(shí)進(jìn)行攪拌，使其濃度為3質(zhì)量％而制備的色素涂布液，用旋轉(zhuǎn)涂層法，邊將轉(zhuǎn)速從300變化至4000rpm，邊在23℃、50％RH的環(huán)境下，在形成反射層的圓盤狀襯底的面上涂敷上述色素涂敷液，而形成記錄層，接著，在23℃、50％RH的環(huán)境下，進(jìn)行2小時(shí)的退火處理。然后通過濺射法，在按上述形成的記錄層表面上形成5nm厚的ZnS-SiO2膜作為中間層。
然后利用旋轉(zhuǎn)涂層法，以30至300rpm的轉(zhuǎn)速，在上述形成的中間層表面上涂布預(yù)先真空脫氣泡6小時(shí)的UV固化型粘接劑(日本油墨社制SD661)，使在圓盤狀襯底的內(nèi)周端和從內(nèi)周端沿半徑方向向外周側(cè)有30mm的圓周之間的同心圓狀區(qū)域內(nèi)大致鋪開。
接著，通過將帶有保護(hù)膜的被覆膜(保護(hù)膜厚度為85μm、被覆層材料是由聚碳酸酯組成的聚碳酸酯膜、bjuanise帝人社制)的粘接面與涂布有粘接劑的中間層表面疊合后，將轉(zhuǎn)速從30rpm變化至8000rpm的同時(shí)旋轉(zhuǎn)圓盤狀襯底，而在被覆層和中間層之間全面展開UV固化型粘接劑，將帶有保護(hù)膜的被覆膜和中間層粘接貼合在一起而形成被覆層，然后通過從上述被覆層剝離保護(hù)膜而制作了實(shí)施例2-1的光信息記錄介質(zhì)。
實(shí)施例2-2利用在厚度為1.1mm、直徑為120mm的圓盤狀襯底表面上具有螺旋狀槽(磁道間距340nm、槽深20nm、槽寬1 60nm)的射出成形聚碳酸酯樹脂(帝人社制、商品名panlaidoAD5503)襯底，在圓盤狀襯底的形成槽的面上通過濺射，形成120nm厚的Ag膜反射層。
然后把將用化合物2表示的有機(jī)物色素溶解于乳酸乙酯溶液中照射超聲波2小時(shí)進(jìn)行攪拌，使其濃度為3質(zhì)量％而制備的色素涂布液，用旋轉(zhuǎn)涂層法，邊將轉(zhuǎn)速從300變化至4000rpm，邊在23℃、50％RH的環(huán)境下，在形成反射層的圓盤狀襯底的面上涂敷上述色素涂敷液，而形成記錄層，接著，在23℃、50％RH環(huán)境下，進(jìn)行2小時(shí)的退火處理。然后在如上述形成的記錄層表面上通過濺射法形成5nm厚的ZnS-SiO2膜作為中間層。另外，用化合物2表示的有機(jī)物結(jié)構(gòu)式中n表示1至4的整數(shù)。
然后，在上述形成的中間層表面上利用旋轉(zhuǎn)涂層法，以30至300mm的轉(zhuǎn)速，涂布預(yù)先真空脫氣泡6小時(shí)的UV固化粘接劑(日本油墨社制SD661)，使在圓盤狀襯底的內(nèi)周端和從內(nèi)周端沿半徑方向向外周側(cè)有30mm的圓周之間的同心圓狀區(qū)域內(nèi)大致鋪開。
接著，將帶有保護(hù)膜的被覆膜(保護(hù)膜厚度為85μm、被覆層材料是由聚碳酸酯組成的聚碳酸酯膜、bjuanise帝人社制)的粘接面與涂布有粘接劑的中間層表面疊合后，邊將轉(zhuǎn)速從30rpm變化至8000rpm，邊旋轉(zhuǎn)圓盤狀襯底，在被覆層和中間層之間全面展開UV固化型粘接劑，粘接貼合帶有保護(hù)膜的被覆膜和中間層而形成被覆層，然后通過從上述被覆層剝離保護(hù)膜而制作了實(shí)施例2-2的光信息記錄介質(zhì)。
比較例2-1與實(shí)施例2-1同樣，在圓盤狀襯底的形成有槽的面上，依次形成反射層、記錄層以及中間層，在上述中間層表面上，利用旋轉(zhuǎn)涂層法，以30至300rpm的轉(zhuǎn)速，涂布預(yù)先真空脫氣泡6小時(shí)的UV固化粘接劑(日本油墨社制SD661)，使在圓盤狀襯底的內(nèi)周端和從內(nèi)周端沿半徑方向向外周側(cè)有30mm的圓周之間的同心圓狀區(qū)域內(nèi)大致鋪開。
接著，將在實(shí)施例2-1中使用的帶有保護(hù)膜的被覆膜完全分離為保護(hù)膜和被覆膜，將上述被覆膜的粘接面與涂布有粘接劑的中間層表面疊合后，邊將轉(zhuǎn)速從30rpm變化至8000rpm，邊旋轉(zhuǎn)圓盤狀襯底，而將UV固化型粘接劑，在被覆層和中間層之間全面展開，貼合被覆膜和中間層。在該狀態(tài)下用UV照射燈照射紫外線，將被覆膜和中間層粘接貼合在一起而形成被覆層，制作了比較例2-1的光信息記錄介質(zhì)。
比較例2-2與實(shí)施例2同樣，在圓盤狀襯底的形成有槽的面上，依次形成反射層、記錄層以及中間層，在上述中間層表面上，利用旋轉(zhuǎn)涂層法，以30至300rpm的轉(zhuǎn)速，涂布預(yù)先真空脫氣泡6小時(shí)的UV固化粘接劑(日本油墨社制商品名SD661)，使在圓盤狀襯底的內(nèi)周端和從內(nèi)周端沿半徑方向向外周側(cè)有30mm的圓周之間的同心圓狀區(qū)域內(nèi)大致鋪開。
接著，將在實(shí)施例2-2中使用的帶有保護(hù)膜的被覆膜完全分離為保護(hù)膜和被覆膜，將上述被覆膜的粘接面向涂布有粘接劑的中間層表面疊合后，邊將轉(zhuǎn)速從30rpm變化至8000rpm，邊旋轉(zhuǎn)圓盤狀襯底，而將UV固化型粘接劑，在被覆層和中間層之間全面展開，貼合被覆膜和中間層。在該狀態(tài)下用UV照射燈照射紫外線，將被覆膜和中間層粘接貼合在一起，而形成被覆層，制作了比較例2-2的光信息記錄介質(zhì)。
灰塵的評價(jià)方法進(jìn)入在實(shí)施例以及比較例中制得的光信息記錄介質(zhì)的記錄層和被覆膜之間的粘接層中的灰塵的評價(jià)是通過使用遠(yuǎn)心顯微鏡(商品名TL10、kowa社制)，在100倍的倍率下，觀察光信息記錄介質(zhì)表面，調(diào)查在粘接層產(chǎn)生的氣泡數(shù)而進(jìn)行。另外，將4視場的氣泡數(shù)的平均值作為產(chǎn)生的灰塵數(shù)。將在實(shí)施例以及比較例中得到的光信息記錄介質(zhì)產(chǎn)生的灰塵數(shù)的評價(jià)結(jié)果表示于表2中。
表2

實(shí)施例3-1光信息記錄介質(zhì)的制作射出成形具有螺旋狀槽(磁道間距320nm、槽深100nm、槽寬120nm)、厚度為1.1mm、直徑為120mm的聚碳酸酯樹脂(帝人社制聚碳酸酯、商品名panlaidoAD5503)襯底。在得到的襯底的具有槽的面上濺射Ag，形成100nm厚的光反射層(光反射層形成工序)。
然后將20g的酞菁系色素(商品名olasolv藍(lán)GN、cibaspecialideichemical社制)加入到1L的2，2，3，3-四氟丙醇中，進(jìn)行2小時(shí)超聲波處理進(jìn)行溶解，制備了記錄層形成用的涂布液。然后用旋轉(zhuǎn)涂層法，邊將轉(zhuǎn)速從300變化至4000rpm，邊在23℃、50％RH的條件下，在光反射層上涂敷上述制備的涂布液。然后在23℃、50％RH下保存1至4小時(shí)而形成的記錄層的膜厚是100nm(記錄層形成工序)。然后在記錄層上通過濺射法形成5nm厚的ZnS-SiO2作為中間層。被覆層的制作粘附劑涂布液的制作將丙烯酸系共聚物(溶劑醋酸乙酯/甲苯＝1/1)和異氰酸酯系交聯(lián)劑(溶劑醋酸乙酯/甲苯＝1/1)，以100∶1的比例(質(zhì)量比)進(jìn)行混合，制備了粘附劑涂布液A。(a)在滾筒狀卷曲的被覆膜表面上，連續(xù)設(shè)置含有交聯(lián)劑的粘附層的工序以及(b)將設(shè)有粘附層的覆膜再次卷繞成螺旋狀的工序首先使用圖1中所使示的粘附層設(shè)置裝置，在被覆膜的表面上設(shè)置粘附層。向箭頭方向送出卷繞于卷筒1上的聚乙烯材料脫模薄膜，使用設(shè)置的涂布部2，在脫模薄膜的表面上涂布粘附劑涂布液A(涂布工序)。然后將形成有粘附劑涂布層的脫模薄膜，通過設(shè)置于上述干燥區(qū)域中的干燥裝置3，在100℃進(jìn)行干燥(干燥工序)，得到具有粘附層的脫模薄膜。接著輸送具有粘接層的脫模薄膜，在貼合區(qū)域a中，與從卷筒4送出的被覆膜(聚碳酸酯薄膜、帝人buaeise、厚度80μm、單面帶脫模薄膜)，將被覆膜的聚碳酸酯面和粘接層相接地貼合在一起(貼合工序)。然后在卷筒5，共同卷繞設(shè)有粘附層的脫模薄膜和被覆膜(卷繞工序)。(c)粘接層的交聯(lián)反應(yīng)完全結(jié)束為止保持的工序然后，將設(shè)有粘附層的脫模薄膜和被覆膜共同卷繞的卷筒5，在23℃溫度、50％RH的濕度環(huán)境下保持72小時(shí)。上述[72小時(shí)]是指在上述環(huán)境下，用紫外分光吸收光譜，隔一定時(shí)間測定本實(shí)施例的粘附層，由異氰酸酯產(chǎn)生的、出現(xiàn)在2275至2250cm-1附近的吸收峰完全消失為止所需要的時(shí)間，是對應(yīng)本實(shí)施例中的[粘接層的交聯(lián)反應(yīng)完全結(jié)束為止]的時(shí)間。
另外，在本發(fā)明中，紫外分光吸收光譜是在以下條件下通過FT-IR1次反射法測定，
測定機(jī)器samo ukoliejiaban制，商品名Nexus670測定附件OMNI-Sampler 1次反射型水平ATR裝置累積次數(shù)4cm-132次檢測器MCT-A(高靈敏度檢測器)(d)將設(shè)有粘附層的覆膜沖壓成為盤狀的工序和(e)將設(shè)有盤狀的粘附層的覆膜近似水平地層壓而保持的工序?qū)⒐簿頎顟B(tài)的具有粘接層的脫模薄膜和被覆膜，從卷筒5送出，沖壓成為上述襯底的形狀。具有被沖壓的粘附層的脫模薄膜和被覆膜的疊層體是如圖2所示，嵌入到外徑稍小于中心孔的存儲(chǔ)導(dǎo)桿中，近似水平地層疊50個(gè)。這種狀態(tài)保持1小時(shí)。
然后，取出每一張，剝離粘接劑側(cè)的脫模薄膜，通過由滾子的擠壓機(jī)構(gòu)，貼合上述中間層和粘附層，制作光信息記錄介質(zhì)。
評價(jià)(1)C/N(載波對雜音比)將制作的光信息記錄介質(zhì)，使用波長為405nm的激光，設(shè)有NA為0.85的數(shù)據(jù)讀取頭的記錄再生評價(jià)機(jī)，(pulse社制、商品名DDU1000)在脈沖頻率66MHz/線速5.6m/sec條件下，記錄再生單頻信號(2T＝0.13μm)，用時(shí)間間隔測定器測定C/N。在表3中表示了其結(jié)果。
(2)被覆層的厚度均勻性的評價(jià)用kiens制激光變位計(jì)(商品名LT8020)，將制作的光信息記錄介質(zhì)，在光信息記錄介質(zhì)的圓周方向上取8個(gè)點(diǎn)(45°間距)，半徑方向上取8個(gè)點(diǎn)(5mm間距)，共64點(diǎn)上測定能夠以2點(diǎn)間薄膜間距測定的被覆層的厚度，求出由(最大值—平均值)值和(最小值—平均值)求出厚度的均勻性。在表3中表示出其結(jié)果。
(3)粘合力將制作的光信息記錄介質(zhì)，在80℃、85％RH的濕度環(huán)境下放置48小時(shí)。然后通過用手揭下光信息記錄介質(zhì)的被覆層而觀察能否被剝掉。出現(xiàn)剝離的記為×，沒有剝離但端部已剝離的記為△，沒有剝離的表示為○。
實(shí)施例3-2
在實(shí)施例3-1的(c)粘接層的交聯(lián)反應(yīng)完全結(jié)束為止保持的工序中，在23℃溫度、50％RH的濕度環(huán)境下保持168小時(shí)設(shè)有粘附層的脫模薄膜和被覆膜共同卷繞的卷筒5以外，與實(shí)施例1相同地制備實(shí)施例2的光信息記錄介質(zhì)。
對于制作的光信息記錄介質(zhì)，進(jìn)行與實(shí)施例3-1相同的評價(jià)。在表3中表示了其結(jié)果。
實(shí)施例3-3除了在實(shí)施例3-1的(e)將設(shè)有粘附層的盤狀覆膜近似水平地層壓而保持的工序中，層疊50張具有被沖壓的粘附層的脫模薄膜和被覆膜的疊層體，并在這種狀態(tài)下保持24小時(shí)以外，與實(shí)施例1相同地制備實(shí)施例3的光信息記錄介質(zhì)。
對于制作的光信息記錄介質(zhì)，進(jìn)行與實(shí)施例3-1相同的評價(jià)。在表3中表示了其結(jié)果。
比較例3-1除了在實(shí)施例3-1的(c)粘附層的交聯(lián)反應(yīng)完全結(jié)束為止保持的工序中，在23℃溫度、50％RH的濕度環(huán)境下保持48小時(shí)設(shè)有粘附層的脫模薄膜和被覆膜共同卷繞的卷筒5以外，與實(shí)施例1相同地制備比較例1的光信息記錄介質(zhì)。上述48小時(shí)的保持時(shí)間是脫離粘接層的交聯(lián)反應(yīng)完全結(jié)束的范圍的時(shí)間。
對于制作的光信息記錄介質(zhì)，進(jìn)行與實(shí)施例3-1相同的評價(jià)。在表3中表示了其結(jié)果。
比較例3-2除了實(shí)施例3-1的(e)將設(shè)有粘附層的盤狀的覆膜近似水平地層壓而保持的工序以外，與實(shí)施例3-1相同地制備比較例3-2的光信息記錄介質(zhì)。
對于制作的光信息記錄介質(zhì)，進(jìn)行與實(shí)施例3-1相同的評價(jià)。在表3中表示了其結(jié)果。
比較例3-3除了在實(shí)施例3-1的粘附劑涂布液的調(diào)整中沒有使用異氰酸酯交聯(lián)劑以外，與實(shí)施例3-1相同地制備比較例3-3的光信息記錄介質(zhì)。
對于制作的光信息記錄介質(zhì)，進(jìn)行與實(shí)施例3-1相同的評價(jià)。在表3中表示了其結(jié)果。
比較例3-4預(yù)先使用旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)，在沖壓成圓盤狀的脫模薄膜表面上涂布實(shí)施例中使用的粘附劑涂布液A。在由上述粘附劑涂布液A形成的粘附層上貼合同樣在圓盤上沖壓的聚碳酸酯薄膜。保持72小時(shí)。然后，如圖2所示，近似水平地疊層50張，保持1小時(shí)，而得到被覆層以外，與實(shí)施例3-1相同地制備比較例3-4的光信息記錄介質(zhì)。在上述使用的脫模薄膜和聚碳酸酯薄膜相同于實(shí)施例3-1。
對于制作的光信息記錄介質(zhì)，進(jìn)行與實(shí)施例3-1相同的評價(jià)。在表3中表示了其結(jié)果。
表3

實(shí)施例4-1實(shí)施例4-1與實(shí)施例3-1同樣，經(jīng)過工序(a)至(c)制作滾筒5。接著，作為(d)將設(shè)有粘附層的覆膜沖壓成為盤狀的工序和(e)將設(shè)有粘附層的盤狀覆膜近似垂直地層壓而保持的工序，將共卷的具有粘接層的脫模薄膜和被覆膜，從卷筒5送出，沖壓成為上述襯底的形狀。被沖壓的具有粘接層的脫模薄膜和被覆膜的疊層體是如圖3所示，近似垂直地嵌入相對于固定在固定面F上的臺(tái)座30而垂直設(shè)置的儲(chǔ)存導(dǎo)桿40中，疊層50張。這時(shí)，從臺(tái)座30至襯墊50的距離與上述層疊體的厚度相同。在該狀態(tài)下保持1小時(shí)。然后，取出每一張，剝離粘附劑側(cè)的脫模薄膜，通過由滾子的擠壓機(jī)構(gòu)，貼合上述中間層和粘附層，制作光信息記錄介質(zhì)。
與實(shí)施例3-1相同地評價(jià)了(1)C/N(載波對雜音比)(2)被覆層的厚度均勻性(3)粘合力。在表4中表示了結(jié)果。
除了將盤狀的設(shè)有粘附層的覆膜近似垂直地層壓而保持以外，經(jīng)過相同于實(shí)施例3-2至3-3以及比較例3-1至3-4的工序，制作實(shí)施例4-2至4-3以及比較例4-1至4-4，進(jìn)行與實(shí)施例4-1相同的評價(jià)。將結(jié)果表示在表4中。
(實(shí)施例8)在實(shí)施例8中，參照實(shí)施例4和圖4，制作了與上述信息記錄介質(zhì)28具有同樣結(jié)構(gòu)的信息記錄介質(zhì)。
本實(shí)施例的信息記錄介質(zhì)28制作方法如下。首先準(zhǔn)備一塊直徑120mm、厚1.1mm的圓形聚碳酸酯基板做基板101，在此基板的單側(cè)表面預(yù)設(shè)深21nm、磁道間距(平行于基板主面的面內(nèi)的槽表面和槽表面的中心間距)0.32μm的導(dǎo)光槽。
在此基板101上，用濺射法按以下順序成膜Ag-Pd-Cu和AlCr的雙層結(jié)構(gòu)的反射層8，厚度分別為80nm和10nm；(ZrSiO4)54(ZnS)46(摩爾％)的第2介電體層6，厚度16nm；Ge37.5Sb11Te51.5(原子％)的記錄層4，厚度11nm；(ZrSiO4)54(ZnS)46(摩爾％)的第1介電體層2，厚度68nm。
反射層8的成膜工序按如下方法實(shí)施。首先，形成Ag-Pd-Cu層，方法與實(shí)施例1的試樣編號1-1的信息記錄介質(zhì)的制作方法中反射層的成膜工序相同。其次，把由具有AlCr組成的材料構(gòu)成的濺射靶(直徑100mm、厚度6mm)安在成膜裝置上，導(dǎo)入氬氣(100％)，在約0.4Pa的壓力下，功率為200W，進(jìn)行直流濺射。由此在Ag-Pd-Cu層上形成AlCr層，形成雙層結(jié)構(gòu)的反射層8。
權(quán)利要求
1.一種光信息記錄介質(zhì)的制造方法，光信息記錄介質(zhì)的磁道間距為200至400nm，槽深為20至150nm，是用波長小于450nm的光記錄再生，其特征在于，至少依次具有在襯底上形成金屬反射層的金屬反射層形成工序、在該金屬反射層上形成有機(jī)色素系記錄層的記錄層形成工序、以及在記錄層上形成被覆層的被覆層形成工序。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光信息記錄介質(zhì)的制造方法，其特征在于，上述激光的波長小于450nm，上述被覆層的厚度是0.01至0.5mm，上述金屬反射層形成工序剛結(jié)束至上述被覆層形成工序開始為止的時(shí)間為12小時(shí)以下。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光信息記錄介質(zhì)的制造方法，其特征在于，在上述被覆層形成工序中，通過用粘接劑在上述記錄層上貼合被覆層粘接面的貼合工序而形成上述被覆層，上述貼合工序是在上述記錄層形成面貼合上述被覆膜的粘接面后，從上述被覆層的表面剝離預(yù)先在上述被覆膜的粘接面的反面上貼合的保護(hù)膜。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光信息記錄介質(zhì)的制造方法，其特征在于，上述被覆層形成工序包括在上述記錄層上貼合設(shè)有粘附層的由被覆膜構(gòu)成的被覆層，使該粘附層與上述表面相接的工序，上述被覆層是依次經(jīng)過在滾筒狀卷曲的被覆膜表面上，連續(xù)設(shè)置含有交聯(lián)劑的粘附層的工序；將設(shè)有粘附層的被覆膜再卷繞成為螺旋狀的工序；保持粘接層的交聯(lián)反應(yīng)完全結(jié)束為止的工序；將設(shè)有上粘附層的被覆膜沖壓成盤狀的工序；將盤狀的設(shè)有粘附層的被覆膜近似水平地層壓并保持的工序而制造。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光信息記錄介質(zhì)的制造方法，其特征在于，上述被覆層形成工序包括在上述記錄層上貼合設(shè)有粘附層的由被覆膜構(gòu)成的被覆層，使該粘接層與上述表面相接的工序，上述被覆層是依次經(jīng)過在滾筒狀卷曲的被覆膜表面上，連續(xù)設(shè)置含有交聯(lián)劑的粘附層的工序；將設(shè)有上述粘附層的上述被覆膜再卷繞成螺旋狀的工序；保持上述粘附層的交聯(lián)反應(yīng)完全結(jié)束為止的工序；將設(shè)有上述粘附層的被覆膜沖壓成為盤狀的工序；將盤狀的設(shè)有上述粘附層的被覆膜近似垂直地層壓并保持的工序而制造。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光信息記錄介質(zhì)的制造方法，其特征在于，從上述金屬反射層形成工序剛結(jié)束至上述被覆層形成工序開始之前的保存溫度是20至40℃，保存濕度為30至80％。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光信息記錄介質(zhì)的制造方法，其特征在于，上述被覆層的厚度是50μm至100μm的范圍。
8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光信息記錄介質(zhì)的制造方法，其特征在于，上述保護(hù)膜厚度在10μm至100μm的范圍，是由聚對苯二甲酸乙二醇酯或聚乙烯等樹脂構(gòu)成。
9.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光信息記錄介質(zhì)的制造方法，其特征在于，上述粘接劑是UV固化型粘接劑或粘附劑。
10.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光信息記錄介質(zhì)的制造方法，其特征在于，在上述卷筒狀卷繞的被覆膜表面上連續(xù)設(shè)置含有交聯(lián)劑的粘附層的工序包括；在卷筒狀卷繞的脫模薄膜表面上連續(xù)涂布含有交聯(lián)劑的粘附劑而形成粘附劑涂布層的工序、干燥在上述脫模薄膜表面上形成的粘附劑涂布層的工序和貼合上述粘接劑涂布層和被覆膜表面使它們相接的工序。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的光信息記錄介質(zhì)的制造方法，其特征在于，上述粘接劑為丙烯酸粘接劑。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的光信息記錄介質(zhì)的制造方法，其特征在于，上述交聯(lián)劑為異氰酸酯系交聯(lián)劑。
13.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光信息記錄介質(zhì)的制造方法，其特征在于，在上述卷筒狀卷繞的被覆膜表面上連續(xù)設(shè)置含有交聯(lián)劑的粘附層的工序包括；在卷筒狀卷繞的脫模薄膜表面上連續(xù)涂布含有交聯(lián)劑的粘附劑而形成粘接劑涂布層的工序、干燥在上述脫模薄膜表面上形成的粘附劑涂布層的工序和貼合上述粘附劑涂布層和被覆膜表面使它們相接的工序。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的光信息記錄介質(zhì)的制造方法，其特征在于，上述粘接劑為丙烯酸粘接劑。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的光信息記錄介質(zhì)的制造方法，其特征在于，上述交聯(lián)劑為異氰酸酯系交聯(lián)劑。
全文摘要
一種光信息記錄介質(zhì)的制造方法，光信息記錄介質(zhì)的磁道間距為200至400nm，槽深為20至150nm，是用波長小于450nm的光記錄再生，其特征在于，至少依次具有在襯底上形成金屬反射層的金屬反射層形成工序、在該金屬反射層上形成有機(jī)色素系記錄層的記錄層形成工序、以及在記錄層上形成被覆層的被覆層形成工序。
文檔編號G11B7/253GK1424721SQ0215608
公開日2003年6月18日 申請日期2002年12月16日 優(yōu)先權(quán)日2001年12月14日
發(fā)明者角田毅, 小澤貴子, 石田壽男, 水田章 申請人:富士膠片株式會(huì)社