專利名稱：光學記錄裝置、光學記錄/再現(xiàn)方法
技術領域：
本發(fā)明涉及通過將光施加于記錄媒體上而能夠記錄數(shù)據(jù)的光學記錄裝置。更具體地，本發(fā)明涉及能夠高密度地記錄數(shù)據(jù)信號的光學記錄裝置，它具有數(shù)值孔徑大的物鏡并被設計成將該物鏡維持在距離光學記錄媒體表面的短距離上而記錄數(shù)據(jù)信號。本發(fā)明還涉及將數(shù)據(jù)記錄在光學記錄媒體上并從光學記錄媒體再現(xiàn)而同時維持大數(shù)值孔徑的物鏡與光學記錄媒體之間規(guī)定距離的光學記錄/再現(xiàn)方法。
利用近場光記錄和再現(xiàn)數(shù)據(jù)的典型技術采用兩個透鏡(以下稱為“雙透鏡組”)。一個透鏡是固體浸沒透鏡(SIL)。另一個透鏡是聚光透鏡。這一技術已經(jīng)能夠產(chǎn)生較小的光點直徑，由此滿足在光盤上高密度地記錄數(shù)據(jù)的需求。將SIL置于聚光透鏡與光盤之間，提供比聚光透鏡數(shù)值孔徑更大的數(shù)據(jù)孔徑。SIL是通過將一部分球形透鏡切割而制成的高折射率透鏡。其球形表面與聚光透鏡相對，其另一表面面向光學記錄媒體。
由SIL輸出的近場信號可以用于光學地記錄數(shù)據(jù)和再現(xiàn)數(shù)據(jù)。為此，必須實現(xiàn)兩個要求。首先，SIL的表面和光學記錄媒體必須減小到起產(chǎn)生近場光束作用的某個值(光的波長的一半或者更短距離，或者在多數(shù)情況中為200nm或更小)并維持在這個值上。其次，必須實現(xiàn)聚焦控制，以恒定值將會聚光束的光點設定在光學記錄媒體上。
這種類型光學記錄裝置所采用的典型技術是采用空氣軸承滑塊。將雙透鏡組安裝在空氣軸承滑塊上并使光學記錄媒體旋轉。由此在光學記錄媒體和安裝在軸承上的雙透鏡組之間產(chǎn)生一空氣膜。雙透鏡組通過薄膜的壓力而懸浮，維持SIL與光學記錄媒體的表面之間的恒定距離。這一技術類似于磁性記錄中為控制磁頭與記錄媒體之間距離所采用的方法相似。
可以將潤滑劑施加在接收光的光學記錄媒體的表面上，由此增大焦距。在這種情況中，即使光學記錄媒體在其表面上有凹陷和凸塊或在媒體表面上存在灰塵，在采用上述空氣軸承滑塊實現(xiàn)的距離控制中，也能夠使聚焦穩(wěn)定。
然而，這些傳統(tǒng)卻存在缺點。首先，在僅利用空氣軸承滑塊的方法中，不能對由光學記錄媒體表面上存在的刻痕或凹陷引起的外部干擾進行有效控制，從而引起散焦的可能性。再有，除非使媒體旋轉，就不能控制間隙，從而不可能實現(xiàn)聚焦控制。
第二，在將潤滑劑施加于光學記錄媒體的接收光表面的方法中，只要光學媒體表面上有凹陷或凸塊或者在媒體表面上有灰塵，即使聚焦增大也會發(fā)生散焦。此外，因為潤滑劑被施加于光學記錄媒體的光接收表面，這一方法不適合于具有光致抗蝕劑涂層的盤，如CD和DVD。
鑒于以上情況產(chǎn)生了本發(fā)明。本發(fā)明的目的是提供一種光學記錄裝置，其中能夠維持SIL與光學記錄媒體的表面之間距離不變以防止散焦，不論光盤是否旋轉，即使在媒體的表面上存在刻痕或凹陷，它能夠高密度地記錄數(shù)據(jù)，并能夠便于制造。本發(fā)明的另一個目的是提供一種能夠以高密度記錄數(shù)據(jù)的光學記錄/再現(xiàn)方法。
為了實現(xiàn)第一個目的，根據(jù)本發(fā)明的光學記錄裝置包括使施加于光學記錄媒體的光會聚的第一光學裝置，所述第一光學裝置具有一數(shù)值孔徑；置于第一光學裝置與光學記錄媒體之間的第二光學裝置，其數(shù)值孔徑大于第一光學裝置數(shù)值孔徑；利用第二光學裝置末端與光學記錄媒體之間提供的近場區(qū)中從光學記錄媒體反射光的量的線性特性，維持第二光學裝置與光學記錄媒體之間預定距離的主控制裝置。
光學記錄裝置進一步包括設定對應于從光學記錄媒體反射的光的量的閾值和在反射光的量的線性特性之內的控制目標值的裝置，和當反射光量大于閾值時抑制反射光量的影響的輔助控制裝置。在這種情況中，主控制裝置和輔助控制裝置，或二者是按照反射光量具有閾值或控制目標值的關系而使用的。
為了實現(xiàn)第二個目的，根據(jù)本發(fā)明的光學記錄/再現(xiàn)方法包括利用第二光學裝置末端與光學記錄媒體之間提供的近場區(qū)中從光學記錄媒體的反射光量的線性特性，維持第二光學裝置與光學記錄媒體之間預定距離的控制步驟，由此賦予第二光學裝置的數(shù)值孔徑大于第一光學裝置的數(shù)值孔徑，所述第二光學裝置被置于第一光學裝置與光學記錄媒體之間；設定從光學記錄媒體反射的光的量的閾值和在反射光的量的線性特性之內的控制目標值的設定步驟；以及當反射光量大于閾值時抑制反射光量的影響的輔助控制步驟。在這種方法中，主控制步驟和輔助控制步驟，或二者是按照反射光量與閾值或控制目標值的關系而進行的。
在按照本發(fā)明的光學記錄裝置中，當近場光束從光學記錄媒體出射時，能夠維持物鏡與光學記錄媒體之間恒定距離，不管媒體是否旋轉。在媒體表面上形成的光點的尺寸由此能夠維持不變。因此利用近場光束有可能將數(shù)據(jù)記錄在光盤上和從光盤上再現(xiàn)數(shù)據(jù)。
此外，能夠實現(xiàn)穩(wěn)定聚焦控制，而不管外部干擾。
此外，在為制造CD和DVD而設計的切割機器中，本發(fā)明利用近場光束有可能記錄數(shù)據(jù)。


圖1是根據(jù)本發(fā)明的光學記錄裝置的方框圖。
圖2是裝在光學記錄裝置中的光頭的示意圖。
圖3是代表光學記錄媒體與SIL表面之間的距離與從SIL反射光量的關系的曲線圖。
圖4是設置在光學記錄裝置中的聚焦控制器的方框圖。
圖5是說明在光學記錄裝置中執(zhí)行的聚焦控制的順序的圖。
圖6是說明在進行聚焦控制前在光學記錄裝置有影響的操作的順序的流程圖。
圖7是說明在光學記錄裝置啟動聚焦控制的順序的流程圖。
圖8是當外部干擾施加于光學記錄裝置時進行的聚焦控制的順序的流程圖。
圖9是說明由圖4所示聚焦控制器中所采用的信號設定部分2設定的信號的時序圖。
圖10是說明由圖4所示聚焦控制器中所采用的信號設定部分1設定的另一類型信號的時序圖。
圖11是代表如果媒體接收光表面上有刻痕從光學記錄媒體反射光的量變化的曲線圖。
將參考附圖描述本發(fā)明的實施例。然而，應當注意，本發(fā)明并不局限于這一實施例。
圖1示出光學記錄裝置，即本發(fā)明的一個實施例，它可以采用根據(jù)本發(fā)明的光學記錄/再現(xiàn)方法。該實施例是所謂的“切割機器”，它將由數(shù)據(jù)調制的激光束施加在涂覆有光致抗蝕劑的玻璃母盤上，由此將數(shù)據(jù)記錄在玻璃母盤上。
激光器元件4發(fā)射記錄激光束LB1，通過電光調制器(EOM)5、分析器6(即偏振片)和分束器(BS)7將其施加到聲光調制器(AOM)3上。AOM3按照記錄信號發(fā)生器2從數(shù)據(jù)源1提供數(shù)據(jù)產(chǎn)生的數(shù)字數(shù)據(jù)對激光束LB1進行調制。
將AOM3輸出的激光束LB2施加于準直透鏡11，它將光束LB2轉換為平行光束。經(jīng)分束器(PBS)12將平行光束施加于四分之一波片13。
經(jīng)調制的激光束LB2通過四分之一波片13被轉換為圓偏振光束。將這一光束施加于玻璃母盤15，在其上形成光點。聚焦控制器20控制光頭14，由此將光束聚焦在玻璃母盤15上。因此，光頭14與玻璃母盤15之間的距離維持恒定。
入射在光頭14上的激光束LB3在涂覆有光致抗蝕劑的玻璃母盤15上形成光點。通過聚焦控制將光點的直徑設定為規(guī)定值。利用光點，按照待記錄的數(shù)據(jù)，在涂覆光致抗蝕劑的玻璃母盤15上進行切割。
激光束LB4(它為從激光器元件4射出的激光束的一部分)通過EOM5、分析器6和BS7，被光電檢測器(PDI)8檢測。光電檢測器8將激光束LB4轉換為電信號，將其輸入到自動功率控制器(APC)9。即，電信號的值反饋給EOM5，由此將至激光器元件4的功率控制為恒定值。因此，通過APC9將光的量在最大值18上保持恒定。
與此同時，從母盤15反射并由光頭14施加的激光束LB3通過四分之一波片13并轉換為線偏振光。線偏振光經(jīng)PBS12施加于聚光鏡16，它輸出光束LB5。光束LB5施加于光電檢測器(PD2)17，它檢測從玻璃母盤15反射的光的量19。
聚焦控制器20接收最大光量18和從盤15反射的光的量19。聚焦控制器20從最大光量18，即恒定光量產(chǎn)生一參照信號?？刂破?0由盤15和從光頭14施加的反射光量19產(chǎn)生光頭控制電壓21。電壓14將控制光頭14維持光頭14與母盤15之間的恒定距離，將在下文詳細描述。
參考信號的源是最大光量18，它保持恒定不變。盡管如此，可以采用恒定電壓源替代，以產(chǎn)生參考信號。
圖2示出裝在光學記錄裝置中的光頭14。光頭14包括兩個光學元件。第一個元件是非球面透鏡24。第二個元件是固體浸沒透鏡(SIL)25。(以下將這兩個透鏡24和25稱為“雙透鏡組”)。雙透鏡組固定在壓電元件23上。入射在雙透鏡組上的激光束LB3被非球面透鏡25會聚，然后施加在SIL25上。
SIL25是通過切割一部分球面透鏡而制成的，具有高折射率。其球形表面與非球面透鏡24相對，其平表面與玻璃母盤15相對。由于SIL25置于非球面透鏡24與玻璃母盤15之間，雙透鏡組能夠獲得大于非球面透鏡24數(shù)值孔徑的數(shù)值孔徑。光頭14因此能夠形成更小的光點。這樣有可能以高密度將數(shù)據(jù)記錄在玻璃母盤15上。
在入射在SIL25上的光當中，以等于或大于引起全反射角度的角度施加的部分在SIL25中被全反射，不從SIL25出射。盡管如此，當SIL25靠近玻璃母盤15至產(chǎn)生近場光束的距離(通常，等于或短于光的波長)時，發(fā)生漸漸消失耦合。一部分全反射光因此作為近場光束出現(xiàn)在玻璃母盤15上。因此，來自SIL25的光束施加在母盤15上。施加在玻璃母盤15的一部分近場光束從母盤15反射并施加到SIL25上。
圖3代表玻璃母盤15與SIL25之間距離與被PD(2)檢測的激光束LB3的強度(即從母盤15的反射光量(V))的關系。在本實施例中，沒有產(chǎn)生近場光束，只要SIL25與母盤15之間的距離維持等于或大于200nm，光在SIL25中被全反射。在這種情況中，激光束LB3的強度保持不變。然而，如果距離小于200nm，光束LB3的強度將降低，因為入射在SIL25上的一部分光作為近場光束通過母盤15。如果SIL25與玻璃母盤15接觸，入射在SIL25上的所有光將通過玻璃母盤15。因此，從母盤15反射并從SIL25施加的光束LB3的強度將為零(0.0)。
正如從圖3可以理解的，母盤15與SIL25之間的距離和激光束LB3的強度彼此直接相關。如果利用關系的線性區(qū)域，將易于控制至目標值的距離。
在本發(fā)明中，控制從母盤15反射并從SIL25提供的激光束LB3的強度(V)，以維持SIL25與玻璃母盤15之間的恒定距離。壓電元件23能夠將電信號轉換為納米量級的位移量，采用它作為改變SIL25與母盤15之間的距離的驅動裝置。正如圖2所示，雙透鏡組附著于壓電元件23。給壓電元件23施加控制電壓22，它按照從母盤15反射光量移動雙透鏡組。SIL25與母盤15之間的距離由此維持不變。在本實施例中，當施加150V電壓時壓電元件23延伸12nm。因此，當給壓電元件23施加電壓時SIL25靠近玻璃母盤15。
可以應用對SIL25與母盤15之間距離進行檢測的位置傳感器所檢測的值使距離維持在恒定值上。
圖4示出聚焦控制器20的內部結構。聚焦控制器20包括峰值保持電路44、信號校正部分26、信號設定部分(1)40、信號設定部分(2)42、比較器29、輔助控制部分37、主控制部分38和控制信號切換裝置42。聚焦控制器20接收來自輸入端IN1的光量19和來自輸入端IN2的最大光纜18，采用這些光纜時序聚焦控制。切換信號(1)34和切換信號(2)35提供給控制信號切換裝置42。按照這些信號，裝置42切換從輔助控制部分37和主控制部分36提供的信號，由此產(chǎn)生驅動壓電元件23的控制電壓22。
圖5說明由聚焦控制器20進行的聚焦控制的順序。聚焦控制器20按照來自SIL25的光量19在壓電元件23上進行反饋控制。預處理部分36在開始反饋控制前對最大光量18和光量19進行預處理，以便讓經(jīng)過校正的光量27等于目標值31。將參考圖4至7說明本實施例中實施的聚焦控制。
參考圖6所示的流程圖描述在預處理部分36中進行的預處理。首先，在步驟S11，測量由經(jīng)調制記錄信號表示的最大光量18和來自SIL25的光量19。
在步驟S12，圖4中所示的峰值保持電路44將光量19轉換為直流電壓。即使記錄信號是EFM信號或1-7調制信號，電路44能夠將光量19轉換為直流電壓。因此，來自SIL25的光量19能夠被用作控制值。
最大光量18也是直流電壓。因此，如果將從母盤15反射的光量19轉換為直流電壓，可以將其與最大光量18進行比較。
在步驟S13，信號校正部分26對反射光量19進行校正，從而使光量19變?yōu)榈扔谧畲蠊饬?8，而SIL25與母盤15維持在這樣的距離上，即不產(chǎn)生近場光束。這使得從信號電平的同一尺度上對最大光量18與光量19進行比較成為可能。
在步驟S14，確定記錄激光器元件4是否正常工作。如果元件4正常工作，那么，在APC9控制下，它發(fā)射規(guī)定強度的激光束。然而，當記錄激光器元件4假設為不穩(wěn)定狀態(tài)時，它不再由APC9控制，其輸出功率會變?yōu)榉€(wěn)定值或太小。發(fā)生此情況時，就完全不可能記錄數(shù)據(jù)，當發(fā)生這一異常情況時，包括輔助控制部分37和主控制部分38的控制系統(tǒng)被停止。通過將最大光量18與圖4中所示的信號設定部分(2)41中設定的閾值T3(33)進行比較能夠檢測該異常情況。
圖9是表明由圖4中所示信號設定部分41設定的信號的時序圖。如果記錄激光器元件4正常工作，那么，經(jīng)校正的最大光量28具有大于閾值T3(33)的恒定值。如果激光器元件4異常工作，那么，經(jīng)校正的最大光量28具有小于閾值T3(33)的恒定值。
如果記錄激光器元件4正常工作，操作繼續(xù)到步驟S15。在步驟S15，按照經(jīng)校正的最大光量28設定閾值T1和控制目標值31。
閾值T1大于控制目標值31。即，T1＞控制目標值。閾值T1不依賴于確定記錄激光器元件4是否異常工作的閾值T3。閾值T1的源是最大光量18，它是恒定的。另一方法是，可以采用恒定電壓源產(chǎn)生閾值T1。
圖10是表示由圖4中所示的信號設定部分40設定的信號的時序圖。如果記錄激光器元件4正常工作，那么經(jīng)校正的最大光量28為恒量。因此，在本實施例中按照經(jīng)校正的最大光量28產(chǎn)生閾值T1和控制目標值31。閾值T1和控制目標值可以由恒定電壓產(chǎn)生。
至此所描述的是在按照本發(fā)明的記錄裝置開始有效聚焦控制前所進行的預處理。
在完成預處理時，控制回路開始工作。圖7示出開始光學記錄裝置中聚焦控制的順序。更準確地說，圖7示出如何使經(jīng)校正的光量27等于目標值31。
首先，在步驟S21，比較器29將經(jīng)校正的反射光量27與閾值T1進行比較。如果經(jīng)校正的光量27大于閾值T1，那么，已知SIL25與玻璃母盤15的距離是這樣的，即不產(chǎn)生近場光束。在這種情況中，比較器29產(chǎn)生切換信號(1)34，它提供給控制信號切換裝置42。響應于該信號34，裝置42選擇并輸出由輔助控制部分37提供的控制信號。因此，在步驟S22，輔助控制部分37控制壓電元件23。為了更具體地闡述，輔助控制部分37以慢速率增大提供給壓電元件23的電壓，由此使SIL25向玻璃母盤15移動直至從玻璃母盤15出射近場光束為止。
壓電元件23以這樣的速度使SIL25向玻璃母盤15移動，即SIL25不會由于過調而碰到母盤15。注意，這種過調是當裝置42選擇由主控制器38產(chǎn)生的控制信號并將其提供給壓電元件23時由主控制部分38引起的。
輔助控制部分37是例如具有相對較大時間常數(shù)(約1.0)的積分電路。
當經(jīng)校正的反射光量27變?yōu)樾∮陂撝礣1時，維持輔助控制部分37此時輸出的控制電壓。在步驟S23，控制信號切換裝置42選擇從主控制部分38輸出的控制信號。主控制部分38產(chǎn)生將消除控制目標值31與經(jīng)校正的反射光量27之間的差值的控制電壓。主控制部分38是例如基于頻率響應設計的相位補償濾波器。
將輔助控制部分37產(chǎn)生的電壓加給主控制部分38的輸出。這兩個電壓之和提供給壓電元件23。由此消除控制目標值31與經(jīng)校正的反射光量27之間的差值，因此維持SIL25與玻璃母盤15之間的距離不變。
在整個控制中可以維持輔助控制部分37輸出的電壓。另一個方法是，當裝置42選擇由主控制部分38產(chǎn)生的控制信號時，可以將該電壓復制到主控制部分38中以及從中釋放。在這種情況中，壓電元件23僅由主控制部分38控制。
已經(jīng)說明了如何讓經(jīng)校正的光量27等于目標控制31。一旦已經(jīng)讓校正光量27等于目標值31，主控制部分38維持SIL25與玻璃母盤15之間的距離不變。
然而，在實際中，有外部干擾施加于反饋控制回路。外部干擾可能由諸如玻璃母盤15表面上產(chǎn)生的刻痕或凹陷的缺陷產(chǎn)生的。實施本發(fā)明的聚焦控制以便維持SIL25與玻璃母盤15之間的距離不變，在這個距離上產(chǎn)生近場光束。距離在納米的量級上。因此，聚焦控制受諸如母盤15表面上產(chǎn)生的刻痕或凹陷的缺陷影響比在微米量級上時序的傳統(tǒng)聚焦控制更大。外部干擾會引起SIL25碰到玻璃母盤15。因此，即使有外部干擾施加于控制回路，也必須控制SIL25不碰到母盤15。至此，采用對外部干擾加強的控制機制實現(xiàn)了本發(fā)明的聚焦控制。
圖8說明當外部干擾施加于反饋控制回路時進行的聚焦控制的順序。首先，在步驟S31將經(jīng)校正的反射光量27與閾值T1進行比較。
圖11是代表如果玻璃母盤15表面上有刻痕的話經(jīng)校正的反射光量27如何變化的曲線圖。即使控制SIL25維持它與玻璃母盤15之間的距離不變，如果母盤15表面上有刻痕，實際距離變長。因此，經(jīng)校正的從任何刻痕反射的光量28增大，正如由圖11中所示的外部干擾45和46所表示的。
如果經(jīng)校正的反射光量27增大到小于閾值T1的值，正如外部干擾45的情況那樣，主控制部分38控制經(jīng)校正的光量27，抑制外部干擾的影響。
如果經(jīng)校正的反射光量27增大到大于閾值T1的值，正如外部干擾46的情況那樣，不僅主控制部分38而且輔助控制部分37在步驟S32中控制經(jīng)校正的光量27。在這種情況中，快速地抑制外部干擾的影響。
更準確地說，經(jīng)校正的反射光量27超過閾值T1的時刻，維持主控制部分38的控制電壓。經(jīng)校正的光量27保持大于閾值T1，輔助控制部分37進行控制，將主控制部分38和輔助控制部分37的控制電壓之和提供給壓電元件23。由此抑制外部干擾的影響。
在圖8所示的控制順序中，在本發(fā)明的光學記錄裝置中，只有當經(jīng)校正的反射光量27超過閾值T1時，采用輔助控制部分37與主控制部分38相結合。因此，不進行針對任何外部干擾的過度控制。輔助控制部分37是對外部干擾作用緩慢響應的系統(tǒng)。因此部分37不會對突然發(fā)生的外部干擾作出響應。
因此，聚焦控制器20能夠進行穩(wěn)定聚焦控制，即使玻璃母盤15表面有刻痕，不對突然外部干擾作出響應，有效地抑制大于參考干擾的外部干擾。
權利要求
1．一種光學記錄裝置，其特征在于所述裝置包括使施加于光學記錄媒體的光會聚的第一光學裝置，所述第一光學裝置具有一數(shù)值孔徑；置于第一光學裝置與光學記錄媒體之間的第二光學裝置，其數(shù)值孔徑大于第一光學裝置數(shù)值孔徑；利用第二光學裝置末端與光學記錄媒體之間提供的近場區(qū)中從光學記錄媒體反射光的量的線性特性，維持第二光學裝置與光學記錄媒體之間預定距離的主控制裝置。
2．如權利要求1所述的光學記錄裝置，其特征在于進一步包括設定對應于從光學記錄媒體反射光量的閾值和在反射光量的線性特性之內的控制目標值的裝置，和當反射光量大于閾值時抑制反射光量的影響的輔助控制裝置，其中主控制裝置或輔助控制裝置，或二者是按照反射光量具有閾值或控制目標值的關系而使用的。
3．如權利要求2所述的光學記錄裝置，其特征在于在第二光學裝置開始進行針對光學記錄媒體的聚焦控制之后以及在反射光量變?yōu)榈扔诳刂颇繕酥抵?，當從光學記錄媒體的反射光量大于閾值時，采用輔助控制裝置維持第二光學裝置與光學記錄媒體之間的預定距離。
4．如權利要求2所述的光學記錄裝置，其特征在于在第二光學裝置開始進行針對光學記錄媒體的聚焦控制之后以及在反射光量變?yōu)榈扔诳刂颇繕酥抵?，當從光學記錄媒體的反射光量變?yōu)樾∮陂撝禃r，采用主控制部分代替輔助控制裝置來維持第二光學裝置與光學記錄媒體之間的預定距離。
5．如權利要求2所述的光學記錄裝置，其特征在于在第二光學裝置開始進行針對光學記錄媒體的聚焦控制之后以及在反射光量變?yōu)榈扔诳刂颇繕酥抵埃攺墓鈱W記錄媒體的反射光量變?yōu)榇笥陂撝禃r，采用主控制部分和輔助控制裝置二者來維持第二光學裝置與光學記錄媒體之間的預定距離。
6．如權利要求5所述的光學記錄裝置，其特征在于由于光學記錄媒體表面上產(chǎn)生的刻痕和凹陷，在反射光量變?yōu)榈扔诳刂颇繕酥岛?，從光學記錄媒體的反射光量變?yōu)榇笥陂撝怠?br> 7．如權利要求1所述的光學記錄裝置，其特征在于進一步包括檢測從光源發(fā)射的光的強度的檢測裝置，其中，當檢測裝置所檢測的光強度不足以記錄數(shù)據(jù)時，阻止第二光學裝置與光學記錄媒體之間的距離變化，使得從光源發(fā)射的光變?yōu)榻鼒龉馐还苤骺刂蒲b置和輔助控制裝置的操作。
8．如權利要求1所述的光學記錄裝置，其特征在于采用第一和第二光學裝置固定于其的壓電元件作為改變第二光學裝置與光學記錄媒體之間距離的驅動裝置。
9．一種光學記錄/再現(xiàn)方法，其特征在于所述方法包括利用第二光學裝置末端與光學記錄媒體之間提供的近場區(qū)中從光學記錄媒體的反射光量的線性特性，維持第二光學裝置與光學記錄媒體之間預定距離的主控制步驟，由此賦予第二光學裝置的數(shù)值孔徑大于第一光學裝置的數(shù)值孔徑，所述第二光學裝置被置于第一光學裝置與光學記錄媒體之間；設定從光學記錄媒體的反射光量的閾值和在反射光量的線性特性之內的控制目標值的設定步驟；以及當反射光量大于閾值時抑制反射光量的影響的輔助控制步驟，其中，主控制步驟或輔助控制步驟，或二者是按照反射光量與閾值或控制目標值的關系而進行的。
10．如權利要求9所述的光學記錄/再現(xiàn)方法，其特征在于在第二光學裝置開始進行針對光學記錄媒體的聚焦控制之后以及在反射光量變?yōu)榈扔诳刂颇繕酥抵?，當從光學記錄媒體的反射光量大于閾值時，進行輔助控制步驟以維持第二光學裝置與光學記錄媒體之間的預定距離。
11．如權利要求9所述的光學記錄/再現(xiàn)方法，其特征在于在第二光學裝置開始進行針對光學記錄媒體的聚焦控制之后以及在反射光量變?yōu)榈扔诳刂颇繕酥抵埃攺墓鈱W記錄媒體的反射光量變?yōu)樾∮陂撝禃r，進行主控制步驟代替輔助控制步驟，以維持第二光學裝置與光學記錄媒體之間的預定距離。
12．如權利要求9所述的光學記錄/再現(xiàn)方法，其特征在于在第二光學裝置開始進行針對光學記錄媒體的聚焦控制以及在反射光量變?yōu)榈扔诳刂颇繕酥抵螅攺墓鈱W記錄媒體的反射光量大于閾值時，進行主控制步驟和輔助控制步驟二者以維持第二光學裝置與光學記錄媒體之間的預定距離。
13．如權利要求12所述的光學記錄/再現(xiàn)方法，其特征在于由于光學記錄媒體表面上產(chǎn)生的刻痕和凹陷，在反射光量變?yōu)榈扔诳刂颇繕酥岛螅瑥墓鈱W記錄媒體的反射光量變?yōu)榇笥陂撝怠?br> 14．如權利要求9所述的光學記錄/再現(xiàn)方法，其特征在于進一步包括檢測從光源發(fā)射的光的強度的檢測步驟，其中，當檢測裝置所檢測的光強度不足以記錄數(shù)據(jù)時，阻止第二光學裝置與光學記錄媒體之間的距離變化，使得從光源發(fā)射的光變?yōu)榻鼒龉馐?，而不管主控制步驟和輔助控制步驟。
全文摘要
當引起經(jīng)過校正的玻璃母盤15的反射光量超過閥值T1的外部干擾施加于控制回路時,不僅主控制部分38而且輔助控制部分37對校正量27進行控制。在這種情況中,快速地抑制外部干擾的影響。更具體地說,在經(jīng)過校正的反射光量27超過閾值T1的時刻,維持主控制部分38的控制電壓。而經(jīng)過校正的光量27維持大于閾值T1時,輔助控制部分37對校正量27進行控制,將主控制部分38和輔助控制部分37的控制電壓之和提供給壓電元件23,由此抑制外部干擾的影響。
文檔編號G11B7/26GK1287351SQ00126370
公開日2001年3月14日 申請日期2000年9月7日 優(yōu)先權日1999年9月7日
發(fā)明者石本努 申請人:索尼株式會社