本發(fā)明涉及電子信息科學技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種憶阻器的simulink模型建立方法。
背景技術(shù):
隨著科學技術(shù)的發(fā)展,憶阻器已然成為電子信息科學技術(shù)領(lǐng)域前沿、革命性的方向。
惠普憶阻器包括摻雜區(qū)和非摻雜區(qū),其中,摻雜區(qū)域摻雜有帶正電的氧空位,其由于二氧化鈦缺失部分氧原子,從而表現(xiàn)得像半導(dǎo)體一樣,使得缺氧二氧化鈦與氧空位混合的部分更有利于電流的通過;非摻雜區(qū)是純凈的二氧化鈦,使其呈現(xiàn)為高阻特性,可以將其看作是一個絕緣體。憶阻器的總電阻m(t)是摻雜區(qū)域阻抗和非摻雜區(qū)域阻抗之和。而憶阻器的總電阻可以通過外加電壓,基于摻雜區(qū)和非摻雜區(qū)之間邊界的移動速度,以及摻雜層的阻值、薄膜厚度和流過憶阻器的電流等因素來計算得出。
但是,當外加電場時,現(xiàn)有技術(shù)的憶阻器的摻雜區(qū)電阻率和非摻雜區(qū)電阻率在邊界遷移時候均為定值,然而這只是理想狀態(tài)下的憶阻器模型。在現(xiàn)實中,施加外加電場的時,憶阻器的邊界會遷移,即氧空位濃度會隨外加電場變化而變化,載流子濃度發(fā)生變化,使得摻雜區(qū)域的電阻率發(fā)生變化,也即摻雜區(qū)電阻率不是固定不變?;诓毁N合實際的憶阻器模型建立simulink模型,必然會導(dǎo)致所建立的simulink模型不準確。
技術(shù)實現(xiàn)要素:
本發(fā)明的目的是提供一種憶阻器的simulink模型建立方法,以解決現(xiàn)有憶阻器模型不貼合實際導(dǎo)致所建立的simulink模型準確率較低的問題。
為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明提供一種憶阻器的simulink模型建立方法,該方法包括:
根據(jù)憶阻器的氧空位預(yù)設(shè)初始濃度,以及摻雜區(qū)的氧空位實時濃度與施加電壓的關(guān)系,建立所述摻雜區(qū)的氧空位實時濃度模型;
基于p型半導(dǎo)體電阻率定義,根據(jù)所述氧空位實時濃度模型,計算出所述摻雜區(qū)的實時電阻率;
根據(jù)所述實時電阻率、非摻雜區(qū)電阻率以及所述憶阻器的參數(shù),分別計算出摻雜區(qū)實時電阻和非摻雜區(qū)實時電阻;
根據(jù)所述摻雜區(qū)實時電阻和所述非摻雜區(qū)實時電阻,建立所述憶阻器的億阻值模型;
基于所述億阻值模型,建立simulink模型。
可選地,所述氧空位實時濃度模型具體為
可選地,所述基于p型半導(dǎo)體電阻率定義,根據(jù)所述氧空位實時濃度模型,計算出所述摻雜區(qū)的實時電阻率包括:
將所述憶阻器作為p型半導(dǎo)體,根據(jù)所述氧空位實時濃度模型
其中,所述實時電阻率為
可選地,所述根據(jù)所述實時電阻率、非摻雜區(qū)電阻率以及所述憶阻器的參數(shù),分別計算出摻雜區(qū)實時電阻和非摻雜區(qū)實時電阻包括:
獲取所述憶阻器的總長度參數(shù)、摻雜區(qū)長度參數(shù)和所述非摻雜區(qū)電阻率;
根據(jù)所述實時電阻率、所述總長度參數(shù)以及所述摻雜區(qū)長度參數(shù),計算出所述摻雜區(qū)實時電阻;
根據(jù)所述非摻雜區(qū)電阻率、所述總長度參數(shù)以及所述摻雜區(qū)長度參數(shù),計算出所述非摻雜區(qū)實時電阻;
其中,所述摻雜區(qū)實時電阻為
可選地,所述根據(jù)所述摻雜區(qū)實時電阻和所述非摻雜區(qū)實時電阻,建立所述憶阻器的億阻值模型包括:
將所述摻雜區(qū)實時電阻和所述非摻雜區(qū)實時電阻相加,得出所述億阻值模型;
其中,所述億阻值模型為
可選地,所述基于所述億阻值模型,建立simulink模型包括:
基于所述憶阻器模型,利用simulink中的比例增益運算、乘法器、加分器以及積分器,搭建所述simulink模型。
可選地,在所述基于所述億阻值模型,建立simulink模型之后還包括:
獲取多個預(yù)設(shè)輸入信號;
基于所述simulink模型,依次輸出多個所述預(yù)設(shè)輸入信號的電流電壓曲線。
本發(fā)明所提供的憶阻器的simulink模型建立方法,根據(jù)憶阻器的氧空位預(yù)設(shè)初始濃度,以及摻雜區(qū)的氧空位實時濃度與施加電壓的關(guān)系,建立摻雜區(qū)的氧空位實時濃度模型;基于p型半導(dǎo)體電阻率定義,根據(jù)氧空位實時濃度模型,計算出摻雜區(qū)的實時電阻率;根據(jù)實時電阻率、非摻雜區(qū)電阻率以及憶阻器的參數(shù),分別計算出摻雜區(qū)實時電阻和非摻雜區(qū)實時電阻;根據(jù)摻雜區(qū)實時電阻和非摻雜區(qū)實時電阻,建立憶阻器的億阻值模型;基于億阻值模型,建立simulink模型。本申請基于摻雜區(qū)的氧空位實時濃度與憶阻器的施加電壓的關(guān)系,建立反映摻雜區(qū)的實時氧空位濃度的模型,計算出摻雜區(qū)的實時電阻率,再基于摻雜區(qū)實時電阻率建立更貼合實際的憶阻器模型,使得基于該憶阻器模型建立的simulink模型的準確率較高。
附圖說明
為了更清楚的說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)的技術(shù)方案,下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單的介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例,對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
圖1為本發(fā)明實施例所提供的憶阻器的simulink模型建立方法的一種具體實施方式的流程示意圖;
圖2為本發(fā)明實施例所提供的憶阻器的simulink模型的示意圖;
圖3-1為2hz的正弦波信號的電流電壓曲線;
圖3-2為4hz的正弦波信號的電流電壓曲線;
圖3-3為8hz的正弦波信號的電流電壓曲線。
具體實施方式
為了使本技術(shù)領(lǐng)域的人員更好地理解本發(fā)明方案,下面結(jié)合附圖和具體實施方式對本發(fā)明作進一步的詳細說明。顯然,所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例,而不是全部的實施例。基于本發(fā)明中的實施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本發(fā)明保護的范圍。
請參見圖1,圖1為本發(fā)明實施例所提供的憶阻器的simulink模型建立方法的一種具體實施方式的流程示意圖,該方法包括以下步驟:
步驟101:根據(jù)憶阻器的氧空位預(yù)設(shè)初始濃度,以及摻雜區(qū)的氧空位實時濃度與施加電壓的關(guān)系,建立所述摻雜區(qū)的氧空位實時濃度模型。
基于惠普憶阻器的氧空位擴散機制,外加正弦波電壓在正半軸時,摻雜區(qū)長度變長,憶阻器整體導(dǎo)電性增強,即氧空位濃度增大,則此時電壓對時間的積分為正數(shù),且面積一直在不斷增加,氧空位濃度也一直增大,直到外加電壓積分達到最大值;外加正弦波電壓在負半軸時,摻雜區(qū)長度變短,憶阻器整體導(dǎo)電性減弱,即氧空位濃度減小,則此時電壓積分為仍為正數(shù),但其面積一直在不斷減小,氧空位濃度則會一直減小到初始濃度值。
可以得知外加正弦波電壓積分變化規(guī)律與氧空位濃度變化規(guī)律相似,基于此,可以建立氧空位濃度與時間的關(guān)系,即氧空位實時濃度模型。
具體地,上述氧空位實時濃度模型可以為
上述氧空位預(yù)設(shè)初始濃度可以為5×1033m-3,也可以為其它數(shù)值,在此不作限定。而上述施加電壓為正弦波電壓。
步驟102:基于p型半導(dǎo)體電阻率定義,根據(jù)所述氧空位實時濃度模型,計算出所述摻雜區(qū)的實時電阻率。
由于惠普模型中擴散的帶兩個正電荷的氧空位,故可以將該憶阻器模型看作p型半導(dǎo)體,繼而可以根據(jù)p型半導(dǎo)體的電阻率定義來求取憶阻器的電阻率。
具體地,上述基于p型半導(dǎo)體電阻率定義,根據(jù)所述氧空位實時濃度模型,計算出所述摻雜區(qū)的實時電阻率的過程可以為:將所述憶阻器作為p型半導(dǎo)體,根據(jù)所述氧空位實時濃度模型
可以理解的是,q為電子電荷,具體為1.6×10-19c。u為離子遷移率,其可以根據(jù)擴散系數(shù)來求得,例如,可以將擴散系數(shù)設(shè)為1.3×10-16m2s-1,此時,u=10-14m2/(v×s)。
步驟103:根據(jù)所述實時電阻率、非摻雜區(qū)電阻率以及所述憶阻器的參數(shù),分別計算出摻雜區(qū)實時電阻和非摻雜區(qū)實時電阻。
需要說明的是,憶阻器的非摻雜區(qū)電阻率是固定不變的,具體為25ω·m。
上述參數(shù)可以包括憶阻器的總長度,摻雜區(qū)長度以及橫截面積等參數(shù)。
根據(jù)電阻定義,可以利用電阻率和相應(yīng)參數(shù)計算出相應(yīng)電阻。具體地,上述根據(jù)所述實時電阻率、非摻雜區(qū)電阻率以及所述憶阻器的參數(shù),分別計算出摻雜區(qū)實時電阻和非摻雜區(qū)實時電阻的過程可以為:獲取所述憶阻器的總長度參數(shù)、摻雜區(qū)長度參數(shù)和所述非摻雜區(qū)電阻率;根據(jù)所述實時電阻率、所述總長度參數(shù)以及所述摻雜區(qū)長度參數(shù),計算出所述摻雜區(qū)實時電阻;根據(jù)所述非摻雜區(qū)電阻率、所述總長度參數(shù)以及所述摻雜區(qū)長度參數(shù),計算出所述非摻雜區(qū)實時電阻;其中,所述摻雜區(qū)實時電阻為
步驟104:根據(jù)所述摻雜區(qū)實時電阻和所述非摻雜區(qū)實時電阻,建立所述憶阻器的億阻值模型。
計算出摻雜區(qū)電阻和非摻雜區(qū)電阻后,將兩者進行相加,可以得出憶阻器的億阻值。
具體地,上述根據(jù)所述摻雜區(qū)實時電阻和所述非摻雜區(qū)實時電阻,建立所述憶阻器的億阻值模型的過程可以為:將所述摻雜區(qū)實時電阻和所述非摻雜區(qū)實時電阻相加,得出所述億阻值模型;其中,所述億阻值模型為
步驟105:基于所述億阻值模型,建立simulink模型。
根據(jù)所計算出的億阻值的表達式,可以選擇simulink中的相應(yīng)模塊建立simulink模型。
具體地,上述基于所述億阻值模型,建立simulink模型的過程可以為:基于所述憶阻器模型,利用simulink中的比例增益運算、乘法器、加分器以及積分器,搭建所述simulink模型。
simulink模型可以具體如圖2所示,圖2為本發(fā)明實施例所提供的憶阻器的simulink模型的示意圖。具體可以參見圖2,在此不作贅述。
在建立simulink模型之后,為了驗證所建立的模型的正確性,可以為simulink輸入多個信號,根據(jù)所輸出的曲線判斷模型的準確性。
作為一種具體實施方式,在上述基于所述億阻值模型,建立simulink模型之后還可以包括:獲取多個預(yù)設(shè)輸入信號;基于所述simulink模型,依次輸出多個所述預(yù)設(shè)輸入信號的電流電壓曲線。
上述預(yù)設(shè)輸入信號可以為多個不同頻率的正弦波信號。具體地,可以為simulink模型輸入幅值為2,頻率分別為2hz、4hz以及8hz的正弦波,得出相應(yīng)的電流電壓曲線。具體地可以參見圖3,圖3-1為2hz的正弦波信號的電流電壓曲線,圖3-2為4hz的正弦波信號的電流電壓曲線,圖3-3為8hz的正弦波信號的電流電壓曲線。
參見圖3可知,當其他條件不變的情況下,電壓的頻率為8hz的時候,惠普憶阻器的i-v曲線趨向于一條直線,表現(xiàn)出較強的線性,因而其非線性和開關(guān)特性并不能明顯的表示出來。但是當電壓的頻率減小到4hz時,其伏安特性曲線表現(xiàn)出明顯的非線性,呈現(xiàn)出明顯的磁滯回線特點。當頻率減小到2hz時,磁滯回線更為明顯,非線性特性十分明顯。綜上所述,電壓頻率越大,斜‘8’所圍面積越?。?/p>
同時,也驗證了改進模型符合憶阻器的特征,理想憶阻器的電流電壓李薩茹圖形呈8字滯回現(xiàn)象,具有零點交叉,穩(wěn)定性,雙極性,奇對稱等特征。
本發(fā)明實施例所提供的憶阻器的simulink模型建立方法,根據(jù)憶阻器的氧空位預(yù)設(shè)初始濃度,以及摻雜區(qū)的氧空位實時濃度與施加電壓的關(guān)系,建立摻雜區(qū)的氧空位實時濃度模型;基于p型半導(dǎo)體電阻率定義,根據(jù)氧空位實時濃度模型,計算出摻雜區(qū)的實時電阻率;根據(jù)實時電阻率、非摻雜區(qū)電阻率以及憶阻器的參數(shù),分別計算出摻雜區(qū)實時電阻和非摻雜區(qū)實時電阻;根據(jù)摻雜區(qū)實時電阻和非摻雜區(qū)實時電阻,建立憶阻器的億阻值模型;基于億阻值模型,建立simulink模型。該方法基于摻雜區(qū)的氧空位實時濃度與憶阻器的施加電壓的關(guān)系,建立反映摻雜區(qū)的實時氧空位濃度的模型,計算出摻雜區(qū)的實時電阻率,再基于摻雜區(qū)實時電阻率建立更貼合實際的憶阻器模型,使得基于該憶阻器模型建立的simulink模型的準確率較高。
以上對本發(fā)明所提供的憶阻器的simulink模型建立方法進行了詳細介紹。本文中應(yīng)用了具體個例對本發(fā)明的原理及實施方式進行了闡述,以上實施例的說明只是用于幫助理解本發(fā)明的方法及其核心思想。應(yīng)當指出,對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說,在不脫離本發(fā)明原理的前提下,還可以對本發(fā)明進行若干改進和修飾,這些改進和修飾也落入本發(fā)明權(quán)利要求的保護范圍內(nèi)。