本發(fā)明涉及一種觸控面板。
背景技術(shù)：
：通常，觸控面板為配備有特殊輸入設(shè)備以由用戶的手指觸摸屏幕而接收位置輸入的屏幕面板。此觸控面板并不使用鍵盤，而是具有多層層疊體的組態(tài)，其中在用戶的手指或?qū)ο笥|摸顯示于屏幕上的特定字符或位置時，觸控屏幕識別位置并直接自屏幕接收數(shù)據(jù)，以便由儲存于其中的軟件實(shí)際上處理特定位置處的信息。為了辨識觸摸位置而不使顯示于屏幕上之圖像的可見度降低，必須使用透明感應(yīng)電極，通常使用以預(yù)定圖案形成的透明感應(yīng)電極。作為用于觸控面板中的透明感應(yīng)電極，在現(xiàn)有技術(shù)中已知曉各種結(jié)構(gòu)，例如可以舉出玻璃-ITO薄膜-ITO薄膜(GFF)、玻璃-ITO薄膜(G1F)或僅玻璃(G2)結(jié)構(gòu)。舉例而言，作為習(xí)知透明感應(yīng)電極，存在說明于圖1中的結(jié)構(gòu)。透明感應(yīng)電極可由第一感應(yīng)圖案10及第二感應(yīng)圖案20形成。第一感應(yīng)圖案10及第二感應(yīng)圖案20配置于彼此不同的方向上，以提供關(guān)于觸控點(diǎn)的X及Y坐標(biāo)的信息。具體言之，當(dāng)用戶之手指或?qū)ο笥|摸透明基板時，根據(jù)接觸位置的電容的變化經(jīng)由第一感應(yīng)圖案10、第二感應(yīng)圖案20以及位置檢測線路傳送到驅(qū)動電路。接著，電容的改變由X及Y輸入處理電路(未說明)被轉(zhuǎn)換成電信號以識別接觸位置。在此點(diǎn)上，第一感應(yīng)圖案10及第二感應(yīng)圖案20必須形成于同一個透明基板上，且為了檢測觸摸位置，各圖案必須電連接。然而，第二感應(yīng)圖案20彼此連接，而第一感應(yīng)圖案10以島(island)狀形式彼此分離開，因此需要額外連接電極(橋電極)50以將第一感應(yīng)圖案10彼此電連接。然而，連接電極50不應(yīng)電連接至第二感應(yīng)圖案20，且因此應(yīng)必須形成于不同于第二感應(yīng)圖案20的層中。為了展示此結(jié)構(gòu)，圖2說明形成有連接電極50所在的一部分在圖1之線A-A'上獲得的截面中的放大視圖。參看圖2，第一感應(yīng)圖案10及第二感應(yīng)圖案20通過形成于其上的絕緣薄膜30彼此電絕緣。此外，如上文所描述，由于第一感應(yīng)圖案10必須彼此電連接，因此使用連接電極50而進(jìn)行電連接。為了通過連接電極50使以島狀形式分離的第一感應(yīng)圖案10彼此連接同時與第二感應(yīng)圖案20電隔離，在絕緣薄膜30上形成接觸孔40之后，需要執(zhí)行形成額外連接電極50的步驟。如上文所描述，這樣額外具備連接電極50的透明感應(yīng)電極需要用于形成接觸孔40及連接電極50的額外工序，且在制造過程中有可能產(chǎn)生第一感應(yīng)圖案10及第二感應(yīng)圖案20之間的電短路的問題，存在感應(yīng)電極圖案的電導(dǎo)率因連接電極與感應(yīng)圖案之間的接觸電阻而降低的問題。為了解決上述問題，韓國公開專利第2010-84263號公開如下結(jié)構(gòu)：首先在基板上形成連接電極后形成絕緣膜和接觸孔，且形成第一感應(yīng)圖案及第二感應(yīng)圖案，以便解決與該工序的掩模數(shù)及復(fù)雜度相關(guān)的問題。然而，揭示于韓國公開專利第2010-84263號的結(jié)構(gòu)由于仍然需要具備額外連接電極，因此從根本上不能解決上述問題。現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1：韓國公開專利第2010-84263號技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：技術(shù)課題本發(fā)明的目的為提供一種具有高電導(dǎo)率的觸控面板。此外，本發(fā)明之另一目的為提供一種具有極好透射率的觸控面板。另外，本發(fā)明的另一目的為提供一種具有由不同位置處的反射率差引起的低可見度的觸控面板。解決課題的方案1.一種觸控面板，其配置于顯示面板的可見側(cè)，上述觸控面板包含：感應(yīng)圖案，其形成于基板的可見側(cè)一面上；及金屬配線，其在上述一面配置于與顯示面板的像素之間的邊界對應(yīng)的區(qū)域的上側(cè)，并連接上述感應(yīng)圖案與襯墊部。2.在上述1中，上述感應(yīng)圖案由從氧化銦錫(ITO)、氧化銦鋅(IZO)、氧化鋅(ZnO)、氧化銦鋅錫(IZTO)及氧化鎘錫(CTO)構(gòu)成的組中選擇的一種以上的材料形成。3.在上述1中，上述感應(yīng)圖案分離配置成多個單位感應(yīng)圖案，且上述金屬配線從各單位感應(yīng)圖案延伸至最接近的邊框部，在上述邊框部上將上述感應(yīng)圖案與襯墊部連接。4.在上述1中，上述金屬配線由鉬、銀、鋁、銅、鈀、金、鉑、鋅、錫、鈦、或它們的合金材料形成。5.在上述1中，上述金屬配線的厚度為10nm至1000nm。6.在上述1中，進(jìn)一步包括輔助感應(yīng)圖案，其在上述一面配置于與顯示面板的像素之間的邊界對應(yīng)的區(qū)域的上側(cè)，覆蓋上述金屬配線。7.在上述6中，上述輔助感應(yīng)圖案由從氧化銦錫(ITO)、氧化銦鋅(IZO)、氧化鋅(ZnO)、氧化銦鋅錫(IZTO)及氧化鎘錫(CTO)構(gòu)成的組中選擇的一種以上的材料形成。8.在上述6中，上述輔助感應(yīng)圖案的厚度為30nm至150nm。9.一種觸控面板的制造方法，其包含：在基板的可見側(cè)一面上形成感應(yīng)圖案的步驟；及在上述一面上形成金屬配線以連接上述感應(yīng)圖案與襯墊部的步驟，其中上述金屬配線配置成位于與顯示面板的像素之間的邊界對應(yīng)的區(qū)域的上側(cè)。10.在上述9中，上述感應(yīng)圖案由從氧化銦錫(ITO)、氧化銦鋅(IZO)、氧化鋅(ZnO)、氧化銦鋅錫(IZTO)及氧化鎘錫(CTO)構(gòu)成的組中選擇的一種以上的材料形成。11.在上述9中，上述感應(yīng)圖案形成為分離配置成多個單位感應(yīng)圖案，且上述金屬配線形成為從各單位感應(yīng)圖案延伸至最接近的邊框部，在上述邊框部上將上述感應(yīng)圖案與襯墊部連接。12.在上述9中，上述金屬配線的厚度為10nm至1000nm。13.在上述9中，上述金屬配線由鉬、銀、鋁、銅、鈀、金、鉑、鋅、錫、鈦、或它們的合金材料形成。14.在上述9中，進(jìn)一步包括在上述一面上形成覆蓋上述金屬配線的輔助感應(yīng)圖案的步驟。15.在上述14中，上述輔助感應(yīng)圖案由從氧化銦錫(ITO)、氧化銦鋅(IZO)、氧化鋅(ZnO)、氧化銦鋅錫(IZTO)及氧化鎘錫(CTO)構(gòu)成的組中選擇的一種以上的材料形成。16.在上述14中，上述輔助感應(yīng)圖案的厚度為30nm至150nm。發(fā)明效果本發(fā)明的觸控面板具有金屬配線以增加感應(yīng)圖案的電導(dǎo)率，因此展現(xiàn)改良的觸控靈敏度。此外，本發(fā)明的觸控面板具有配置于與像素之間的邊界對應(yīng)的區(qū)域的上側(cè)的金屬配線，因此展現(xiàn)極好透射率。另外，本發(fā)明的觸控面板可使由不同位置處的反射率差引起的可見度的問題最小化。附圖說明圖1為現(xiàn)有的透明感應(yīng)電極的示意性俯視圖。圖2為現(xiàn)有的透明感應(yīng)電極的示意性垂直截面圖。圖3為配置于顯示面板的一面的本發(fā)明的一個具體實(shí)例的觸控面板的示意性垂直截面圖。圖4為示意性地說明本發(fā)明的一個具體實(shí)例的觸控面板中金屬配線及感應(yīng)圖案的配置的俯視圖。圖5為配置于顯示面板一面的本發(fā)明的一個具體實(shí)例的觸控面板的示意性垂直截面圖。圖6為制造例1至5的層疊體的垂直截面圖。圖7為制造例6的層疊體的垂直截面圖。具體實(shí)施方式本發(fā)明提供一種配置在顯示面板的可見側(cè)的觸控面板，其包括：感應(yīng)圖案，其形成于基板的可見側(cè)一面上；及金屬配線，其在上述一面配置于與顯示面板的像素之間的邊界對應(yīng)的區(qū)域的上側(cè)，并連接上述感應(yīng)圖案與襯墊部，因此能夠展現(xiàn)改良的觸控靈敏度及極好的透射率。[觸控面板]圖3和圖5為配置于顯示面板的一面的本發(fā)明的一個具體實(shí)例的觸控面板的示意性垂直截面圖；且圖4為示意性地說明本發(fā)明的一個具體實(shí)例的觸控面板中金屬配線及感應(yīng)圖案的配置的俯視圖。下面，參考附圖更詳細(xì)地說明本發(fā)明。但說明書附圖例示本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例，與上述的發(fā)明的內(nèi)容一同用于進(jìn)一步理解本發(fā)明的技術(shù)思想，因此本發(fā)明不能僅被限定于這些記載于附圖的內(nèi)容解釋。本發(fā)明之觸控面板200配置于顯示面板100的可見側(cè)。顯示面板100并不特別受限，可以為本領(lǐng)域中通常使用的液晶面板、OLED面板等。OLED面板可為具有紅色、綠色、藍(lán)色發(fā)光二極管的RGBOLED面板，或具有發(fā)白光二極管的白OLED面板。若顯示面板100為液晶面板或白OLED面板，則可提供具有彩色圖案的彩色濾光片，且紅色、綠色、藍(lán)色色彩的圖案被配置成分別對應(yīng)于紅色、綠色及藍(lán)色子像素，藉此表達(dá)色彩。當(dāng)顯示面板100為RGBOLED面板時，紅色、綠色、藍(lán)色發(fā)光二極管(LED)被配置成分別對應(yīng)于紅色、綠色及藍(lán)色子像素，藉此表達(dá)色彩。顯示面板100可包括第一黑矩陣層(未說明)以界定像素之間的邊界。第一黑矩陣層可界定各像素之間、以及各子像素之間的邊界，且用來改良對比度。除此之外，本發(fā)明的顯示面板100可進(jìn)一步包括本領(lǐng)域中通常使用的要素。根據(jù)本發(fā)明之觸控面板200可包括形成于基板210的可見側(cè)一面上的感應(yīng)圖案220。感應(yīng)圖案220可提供關(guān)于觸控點(diǎn)的X坐標(biāo)及Y坐標(biāo)的信息。更明確而言，當(dāng)用戶的手或?qū)ο蠼佑|時，隨接觸位置的電容之改變可經(jīng)由感應(yīng)圖案220、跡線230及襯墊部(未說明)被傳輸至驅(qū)動電路側(cè)。接著，電容的改變由X及Y輸入處理電路(未說明)轉(zhuǎn)換成電信號以因此識別接觸位置。襯墊部(未說明)在基板210的可見側(cè)一面位于邊框部，且包括連接至各跡線230及軟電路板(未說明)的一個以上襯墊(未說明)。感應(yīng)圖案220可無限制地使用本領(lǐng)域已知的透明電極材料。例如可以舉出氧化銦錫(ITO)、氧化銦鋅(IZO)、氧化鋅(ZnO)、氧化銦鋅錫(IZTO)、氧化鎘錫(CTO)、聚(3,4-亞乙二氧基噻吩)(PEDOT，poly(3,4-ethylenedioxythiophene))、碳奈米管(CNT)、石墨烯等，其單獨(dú)或以兩個以上的組合來使用。優(yōu)選使用氧化銦錫(ITO)。感應(yīng)圖案220的厚度并不特別受限，例如可彼此獨(dú)立為10nm至150nm。若厚度小于10nm，則電阻高而可能使靈敏度下降。當(dāng)厚度超出150nm時，透射率下降而可能增加功率消耗?；?10可無限制地使用本領(lǐng)域中通常使用的材料，例如可舉出玻璃、聚醚砜(PES，polyethersulphone)、聚丙烯酸酯(PAR，polyacrylate)、聚醚酰亞胺(PEI，polyetherimide)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN，polyethyelenenapthalate)、聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET，polyethyeleneterepthalate)、聚苯硫醚(PPS，polyphenylenesulfide)、聚烯丙酯(polyallylate)、聚酰亞胺(polyimide)、聚碳酸酯(PC，polycarbonate)、三乙酸纖維素(TAC)、乙酸丙酸纖維素(CAP，celluloseacetatepropionate)等。另外，基板210可為顯示面板100的可見側(cè)一面。金屬配線230可在上述一面上配置于與顯示面板100的像素之間的邊界對應(yīng)的區(qū)域的上側(cè)，以連接感應(yīng)圖案220與襯墊部。由于金屬具有低電阻，因此通過將感應(yīng)圖案300與襯墊部經(jīng)由金屬配線230連接，從而能夠提高觸控靈敏度。然而，金屬具有高反射率，因此，當(dāng)其用于圖像顯示設(shè)備中時，其反射從顯示設(shè)備中的光源發(fā)出的內(nèi)部光而可能降低顯示設(shè)備的透射率。然而，根據(jù)本發(fā)明的金屬配線230配置于與顯示面板100的像素之間的邊界對應(yīng)的區(qū)域的上側(cè)，與顯示面板100的像素之間的邊界對應(yīng)的區(qū)域?yàn)橛捎诘谝缓诰仃噷?未說明)而基本上內(nèi)部光不被透射的區(qū)域，因此，不會發(fā)生由金屬配線230所引起的透射率降低的問題。在此觀點(diǎn)，金屬配線230可以配置成其寬度位于由像素之間的邊界的寬度界定的區(qū)域的上側(cè)，優(yōu)選可形成為其寬度的中心配置于像素之間的邊界的寬度的中心中的垂直上側(cè)。本發(fā)明的金屬配線230可由金屬材料制成。舉例而言，例如可以為鉬、銀、鋁、銅、鈀、金、鉑、鋅、鉛、錫、鈦或其合金。優(yōu)選地，根據(jù)本發(fā)明的金屬配線230可由上述金屬材料中具有0.03至4的折射率(n)及2至7之吸光系數(shù)(k)的金屬材料形成。金屬配線230的厚度并不特別受限，例如可以為例如10nm至1000nm。若厚度小于10nm，則電阻增加而可能減小觸控靈敏度。當(dāng)厚度超出1000nm時，雖然電阻降低但工序時間增加而可能增加生產(chǎn)成本。根據(jù)本發(fā)明，單位感應(yīng)圖案之間的配置及連接各單位感應(yīng)圖案220與襯墊部的金屬配線230的配置或方向并不特別受限，可考慮表面電阻、觸控靈敏度等而適當(dāng)選擇。舉例而言，感應(yīng)圖案220可以分離配置成多個單位感應(yīng)圖案220，且上述金屬配線230從各單位感應(yīng)圖案220延伸至最接近的邊框部，在邊框部上將上述感應(yīng)圖案220與襯墊部連接。當(dāng)將觸控面板200應(yīng)用至圖像顯示設(shè)備時，觸控面板可被劃分成用于顯示圖像的顯示部，及作為并不顯示圖像的框架部的邊框部。圖像僅顯示于顯示部上，且接收觸摸功能，因此，通常，感應(yīng)圖案220形成于顯示部上，在邊框部形成電路等。如圖4中所說明，當(dāng)跡線230從各單位感應(yīng)圖案220延伸至最接近的邊框部時，形成于顯示部的跡線的長度變短而電阻降低，因此能夠提高觸控靈敏度。對于圖4中在最上列處的感應(yīng)圖案220，展示金屬配線分別延伸至左側(cè)及右側(cè)處的邊框部。然而，若金屬配線相較于左側(cè)及右側(cè)邊框部距各單位感應(yīng)圖案220更接近于上部邊框部，則金屬配線亦可延伸至上部邊框部。如圖5中所說明，根據(jù)本發(fā)明的觸控面板在上述一面上配置于與顯示面板100中像素之間的邊界對應(yīng)的區(qū)域的上側(cè)，且可進(jìn)一步包括輔助感應(yīng)圖案240以覆蓋金屬配線230。輔助感應(yīng)圖案240可由作為感應(yīng)圖案220的材料例示的材料形成，優(yōu)選由氧化銦錫(ITO)形成。當(dāng)進(jìn)一步包括用于覆蓋金屬配線230的輔助感應(yīng)圖案240時，上述輔助感應(yīng)圖案240減小金屬配線230的反射率，能夠抑制金屬配線230反射外部光而被辨認(rèn)。輔助感應(yīng)圖案240可具有在針對感應(yīng)圖案220之厚度例示的范圍內(nèi)之厚度。若輔助感應(yīng)圖案240的厚度小于30nm或超出150nm，則可能減小金屬配線230之反射率的效果甚微。[觸控面板的制造方法]此外，本發(fā)明提供一種觸控面板的制造方法。下文中，將詳細(xì)地描述本發(fā)明的一個具體實(shí)例的觸控面板的制造方法。首先，在基板210的可見側(cè)一面上形成感應(yīng)圖案220?；?10的材料并不特別受限，例如可以為由上述范圍內(nèi)的材料形成的基板210。形成感應(yīng)圖案220的方法并不特別受限，可以使用本領(lǐng)域中公知的方法，例如可以利用物理氣相沉積(PVD)、化學(xué)氣相沉積(CVD)等多種薄膜沉積技術(shù)來形成。舉例而言，可利用作為物理氣相沉積法的一例的反應(yīng)性濺鍍來形成?；蛘撸墒褂霉饪谭▉硇纬?。感應(yīng)圖案220可無限制地使用本領(lǐng)域中已知的透明電極材料。例如可以舉出氧化銦錫(ITO)、氧化銦鋅(IZO)、氧化鋅(ZnO)、氧化銦鋅錫(IZTO)、氧化鎘錫(CTO)等，其可單獨(dú)或以兩種以上的組合來使用。優(yōu)選使用氧化銦錫(ITO)。感應(yīng)圖案220的厚度不受限制，例如可以為10nm至150nm。若感應(yīng)圖案220的厚度低于10nm，則電阻高而可能減小觸控靈敏度。當(dāng)厚度超出150nm時，透射率減小而可能增加功率消耗。其后，可在上述一面上形成用于連接上述感應(yīng)圖案220與襯墊部的金屬配線230。根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例，上述感應(yīng)圖案220可分離配置成多個單位感應(yīng)圖案220，上述金屬配線230形成為從各單位感應(yīng)圖案220延伸至最接近的邊框部，在上述邊框部上將感應(yīng)圖案220與襯墊部連接。在此狀況下，形成于顯示部上的跡線的長度變短而電阻降低，因此能夠提高觸控靈敏度。由于金屬具有低電阻，因此通過將感應(yīng)圖案300與襯墊部經(jīng)由金屬配線230連接，從而能夠提高觸控靈敏度。然而，金屬具有高反射率，因此，當(dāng)其用于圖像顯示設(shè)備中時，其反射從顯示設(shè)備中的光源發(fā)出的內(nèi)部光而可能降低顯示設(shè)備的透射率。然而，本發(fā)明在對應(yīng)于黑矩陣220的區(qū)域的上側(cè)形成金屬配線230，此區(qū)域?yàn)橛捎诤诰仃噷?00而基本上內(nèi)部光不被透射的區(qū)域，因此不會發(fā)生由金屬配線230引起的透射率降低的問題。在此觀點(diǎn)，金屬配線230可以形成為其寬度位于由黑矩陣220的寬度界定的區(qū)域的上側(cè)，優(yōu)選金屬配線可形成為寬度的中心能夠配置于黑矩陣220的寬度的中心中的垂直上側(cè)。金屬配線230的形成方法并不特別受限，可以使用本領(lǐng)域中公知的方法。例如可以利用物理氣相沉積(PVD)、化學(xué)氣相沉積(CVD)等多種薄膜沉積技術(shù)來形成。舉例而言，可利用作為物理氣相沉積法的一例的反應(yīng)性濺鍍來形成?；蛘撸墒褂霉饪谭▉硇纬?。金屬配線230可由上述范圍內(nèi)的金屬材料制成。優(yōu)選地，金屬配線230可由上文說明之金屬材料當(dāng)中具有0.03至4之折射率(n)及2至7之吸光系數(shù)(k)的金屬材料形成。金屬配線230可以以上述范圍內(nèi)的厚度形成。根據(jù)本發(fā)明，單位感應(yīng)圖案220之間的配置及連接各單位感應(yīng)圖案220與襯墊部的金屬配線230的配置或方向并不特別受限，可考慮表面電阻、觸控靈敏度等而適當(dāng)選擇。舉例而言，感應(yīng)圖案220可以分離配置成多個單位感應(yīng)圖案220，且上述金屬配線230從各單位感應(yīng)圖案220延伸至最接近的邊框部，在邊框部上將感應(yīng)圖案220與襯墊部連接。根據(jù)本發(fā)明的另一具體實(shí)例，本發(fā)明可進(jìn)一步包括在上述一面上形成輔助感應(yīng)圖案240以覆蓋上述金屬配線230的步驟。輔助感應(yīng)圖案230可由作為感應(yīng)圖案220的材料例示的材料形成，優(yōu)選由氧化銦錫(ITO)形成。當(dāng)進(jìn)一步包括輔助感應(yīng)圖案230以覆蓋金屬配線230時，輔助感應(yīng)圖案240減小金屬配線230的反射率，能夠抑制金屬配線230反射外部光而被辨認(rèn)。輔助感應(yīng)圖案240可利用作為感應(yīng)圖案220的制造方法例示的上述范圍內(nèi)的方法形成。輔助感應(yīng)圖案240可以以在針對感應(yīng)圖案220的厚度例示的范圍內(nèi)的厚度形成。若輔助感應(yīng)圖案500的厚度小于30nm或超出150nm，則可能減小金屬配線230的反射率的效果甚微。除以上描述內(nèi)容外，可以通過現(xiàn)有技術(shù)中已知的另外工序來形成觸控面板。制造例1在玻璃基板(折射率：1.51)上利用鉬(折射率：3.78，吸光系數(shù)：3.52)形成300nm的厚度的金屬圖案，接著，在上述基板上利用氧化銦錫(ITO)(折射率：1.89，吸光系數(shù)：0.127)形成55nm的厚度的圖案以覆蓋金屬配線，從而制造了圖6中的層疊體。制造例2除了將氧化銦錫(ITO)(折射率：1.89，吸光系數(shù)：0.127)圖案的厚度設(shè)為30nm外，利用與制造例1相同的方法制造層疊體。制造例3除了將氧化銦錫(ITO)(折射率：1.89，吸光系數(shù)：0.127)圖案的厚度設(shè)為150nm外，利用與制造例1相同的方法制造層疊體。制造例4除了利用鉑(Pt)(折射率：2.1313，吸光系數(shù)：3.17)代替鉬形成金屬圖案外，利用與制造例1相同的方法制造層疊體。制造例5除了利用銅(Cu)(折射率：0.944，吸光系數(shù)：2.59)代替鉬形成金屬圖案外，利用與制造例1相同的方法制造層疊體。制造例6在玻璃基板(折射率：1.51)上形成55nm厚度的氧化銦錫(ITO)(折射率：1.89，吸光系數(shù)：0.127)圖案，且在ITO圖案上利用鉬(折射率：3.78，吸光系數(shù)：3.52)形成300nm厚度的金屬圖案，從而制造圖7中的層疊體。制造例7在玻璃基板(折射率：1.51)上形成55nm厚度的氧化銦錫(ITO)(折射率：1.89，吸光系數(shù)：0.127)圖案，且在ITO圖案上利用鉑(折射率：2.1313，吸光系數(shù)：3.71)形成300nm厚度的金屬圖案，從而制造圖7中的層疊體。制造例8在玻璃基板(折射率：1.51)上形成55nm厚度的氧化銦錫(ITO)(折射率：1.89，吸光系數(shù)：0.127)圖案，且在ITO圖案上利用銅(折射率：0.944，吸光系數(shù)：2.59)形成300nm厚度的金屬圖案，從而制造圖7中的層疊體。實(shí)驗(yàn)例(1)ITO圖案的電阻測定對于在參考例1至7中制造的層疊體，測定ITO圖案的電阻。上述層疊體如下制造：在玻璃基板上沉積5cm×5cm面積的ITO以形成感應(yīng)圖案，沉積與上述感應(yīng)圖案接觸的5cm×30μm面積的鉬圖案以形成金屬配線，接著在上述金屬配線上沉積ITO以形成輔助感應(yīng)圖案。氧化銦錫及鉬的厚度記載于下述表1中。其后，利用萬用表測定ITO圖案的電阻，并記載于以下表1中。[表1]區(qū)分ITO厚度(nm)Mo厚度(nm)相對電阻變化率參考例1550100.0％-參考例2551011.3％-88.7％參考例355504.5％-95.5％參考例4551003.6％-96.4％參考例5553003.0％-97.0％參考例6555002.9％-97.1％參考例75510002.7％-97.3％參考以上表1，相較于參考例1中的層疊體，參考例2至7中的層疊體的感應(yīng)圖案的電阻顯著低。(2)反射率測定利用ST-4000(KMAC)測定上述制造例的層疊體中圖6及圖7所示的A及B位置上的400nm至700nm的波長范圍下的反射率。另外，計(jì)算400nm至700nm的波長范圍下的平均反射率，進(jìn)行了比較。[表2]參考以上表1，制造例1至5中的層疊體在A與B位置之間的反射率的差異小。然而，制造例6至8中的層疊體在B位置上具有高反射率，因此在A與B位置之間的反射率差非常大。符號說明100：顯示面板，200：觸控面板，210：基板，220：感應(yīng)圖案，230：金屬配線，240：輔助感應(yīng)圖案。當(dāng)前第1頁1 2 3