本發(fā)明涉及半導體,尤其涉及一種芯片故障定位方法。
背景技術:
1、為了在不破壞芯片的器件結構的情況下找到故障點,常采用熱輻射定位的方法,其原理是利用高分辨率紅外照相機,接收芯片中故障點在通電后所產(chǎn)生的熱輻射,由此定位故障點位置。當芯片為高壓芯片時,由于芯片在定位時施加了很高的電壓,在測試時經(jīng)常發(fā)生空氣擊穿導致打火,對芯片產(chǎn)生不可逆的損傷,導致定位被迫中斷。例如在高壓芯片測試時,將芯片背面作為正極,芯片正面作為負極,當正負極電場強度達到空氣擊穿電壓時,就會在正負極間發(fā)生放電,也稱為打火。
2、圖1為現(xiàn)有技術中芯片產(chǎn)生擊穿時電壓和電流的關系圖。請參考圖1,以1200v?sicmos芯片為例,在進行idss測試電壓升至620v時,電流突然增大,此時芯片已經(jīng)發(fā)生擊穿(圖1中圓形圈中所示)。
3、圖2為現(xiàn)有技術中芯片產(chǎn)生擊穿后的熱輻射定位圖,圖3為現(xiàn)有技術中芯片產(chǎn)生擊穿后的光學檢查圖。請參考圖2和圖3,圖2和圖3為圖1為例的芯片產(chǎn)生擊穿后的示例圖,通過對擊穿后的芯片進行熱輻射定位,在芯片的環(huán)區(qū)發(fā)現(xiàn)熱點(圖2中紅色框中所示),此熱點為芯片的擊穿點;對熱點位置進行光學檢查后,發(fā)現(xiàn)熱點位置存在燒傷(圖3中紅色框中所示)。
4、目前,芯片發(fā)生空氣擊穿產(chǎn)生打火現(xiàn)象,可以使用耐電強度高的介質替代空氣,能夠減少打火現(xiàn)象的產(chǎn)生。例如在不影響熱信號偵測的前提下,盡可能避免空氣擊穿,可以在真空環(huán)境下或是保護氣體氛圍下進行測試,以真空環(huán)境測試為例,將芯片置于一個密閉腔體中,在測試時將腔體內(nèi)抽真空,可改善高壓測試過程中的擊穿問題。然而,為了滿足高壓測試需求,在設備中增加了真空腔體和真空泵,提高了設備成本;并且每次測試前都需要將腔體抽真空,花費大量測試時間,降低了測試效率。
技術實現(xiàn)思路
1、本發(fā)明的目的在于提供一種芯片故障定位方法,避免芯片在故障定位時產(chǎn)生空氣擊穿,且提高定位的準確性。
2、為了達到上述目的,本發(fā)明提供了一種芯片故障定位方法,包括:
3、提供芯片,所述芯片的表面具有若干焊盤;
4、提供絕緣聚合物薄膜,在所述絕緣聚合物薄膜上開設與若干所述焊盤位置對應的若干孔;
5、將所述芯片置于所述導電基板上,并將有機溶劑覆蓋于所述芯片的表面;
6、將所述絕緣聚合物薄膜覆蓋所述芯片的表面,且所述孔與所述焊盤位置對應以暴露出所述焊盤;
7、將所述絕緣聚合物薄膜與所述芯片貼合;
8、將所述焊盤引出,對所述芯片進行故障定位以獲得所述芯片的故障點。
9、可選的,所述絕緣聚合物薄膜的材質包括醋酸纖維素。
10、可選的,所述有機溶劑包括丙酮。
11、可選的,所述芯片的背面與所述導電基板接觸以引出所述芯片的背面電極。
12、可選的,所述有機溶劑覆蓋所述芯片的正面和側面。
13、可選的,在提供所述芯片時,所述芯片的正面具有若干所述焊盤;在將所述絕緣聚合物薄膜覆蓋所述芯片的表面時,所述絕緣聚合物薄膜覆蓋所述芯片的正面和側面,透過所述絕緣聚合物薄膜開設的孔暴露出所述焊盤。
14、可選的,采用壓縮空氣槍從所述芯片的頂部往所述芯片的四周吹氣,使得所述有機溶劑揮發(fā)將所述絕緣聚合物薄膜與所述芯片貼合。
15、可選的,采用熱輻射定位法對所述芯片進行故障定位。
16、可選的,在對所述芯片進行故障定位后,采用鑷子將所述絕緣聚合物薄膜揭下去除。
17、可選的,所述芯片的表面具有金屬層,將所述絕緣聚合物薄膜覆蓋所述芯片的表面時,所述絕緣聚合物薄膜與所述金屬層接觸。
18、在本發(fā)明提供的芯片故障定位方法中,提供芯片,芯片的表面具有若干焊盤;提供絕緣聚合物薄膜,在絕緣聚合物薄膜上開設與若干焊盤位置對應的若干孔;將芯片置于導電基板上,并將有機溶劑覆蓋于芯片的表面;將絕緣聚合物薄膜覆蓋芯片的表面,且孔與焊盤位置對應以暴露出焊盤;將絕緣聚合物薄膜與芯片貼合;將焊盤引出,對芯片進行故障定位以獲得芯片的故障點。本發(fā)明通過在芯片的表面覆蓋絕緣聚合物薄膜,將芯片與空氣隔絕,提高了測試耐壓,避免芯片在故障定位時產(chǎn)生空氣擊穿;并且方法中不需要加熱處理以及不使用強酸堿試劑,不會破壞芯片結構,同時絕緣聚合物薄膜能夠增強熱信號,提高定位的準確性。
1.一種芯片故障定位方法,其特征在于,包括:
2.如權利要求1所述的芯片故障定位方法,其特征在于,所述絕緣聚合物薄膜的材質包括醋酸纖維素。
3.如權利要求2所述的芯片故障定位方法,其特征在于,所述有機溶劑包括丙酮。
4.如權利要求1所述的芯片故障定位方法,其特征在于,所述芯片的背面與所述導電基板接觸以引出所述芯片的背面電極。
5.如權利要求4所述的芯片故障定位方法,其特征在于,所述有機溶劑覆蓋所述芯片的正面和側面。
6.如權利要求1所述的芯片故障定位方法,其特征在于,在提供所述芯片時,所述芯片的正面具有若干所述焊盤;在將所述絕緣聚合物薄膜覆蓋所述芯片的表面時,所述絕緣聚合物薄膜覆蓋所述芯片的正面和側面,透過所述絕緣聚合物薄膜開設的孔暴露出所述焊盤。
7.如權利要求1所述的芯片故障定位方法,其特征在于,采用壓縮空氣槍從所述芯片的頂部往所述芯片的四周吹氣,使得所述有機溶劑揮發(fā)將所述絕緣聚合物薄膜與所述芯片貼合。
8.如權利要求1所述的芯片故障定位方法,其特征在于,采用熱輻射定位法對所述芯片進行故障定位。
9.如權利要求1所述的芯片故障定位方法,其特征在于,在對所述芯片進行故障定位后,采用鑷子將所述絕緣聚合物薄膜揭下去除。
10.如權利要求1所述的芯片故障定位方法,其特征在于,所述芯片的表面具有金屬層,將所述絕緣聚合物薄膜覆蓋所述芯片的表面時,所述絕緣聚合物薄膜與所述金屬層接觸。