本發(fā)明屬于光阻酸堿度的檢測(cè)
技術(shù)領(lǐng)域：
，具體涉及一種檢測(cè)光阻酸堿度的方法。
背景技術(shù)：
：薄膜晶體管(tft)技術(shù)是采用新材料和新工藝的大規(guī)模半導(dǎo)體集成電路技術(shù)，它是在玻璃或塑料基板等非單晶片上，通過(guò)濺射、化學(xué)沉積等多步工藝構(gòu)造極微細(xì)的各種膜，并通過(guò)蝕刻、剝離等對(duì)膜進(jìn)行加工，制造集成電路。其先于基板上通過(guò)濺射或者化學(xué)沉積形成氧化物絕緣膜或鋁合金等導(dǎo)電膜，再在以上膜層上均勻涂上光阻，把光阻曝光/顯影形成給定的圖案后，以光阻作為掩膜，通過(guò)濕法刻蝕或者干法刻蝕，在膜層上得到所需要的圖案。光阻主要包括顏料、感光劑、分散劑和溶劑四種成分。原則上涂布后烘干的光阻的酸堿度要嚴(yán)格控制在規(guī)格范圍內(nèi)，若超出規(guī)格，光阻的色度、透過(guò)率均有可能異常，造成產(chǎn)品不良，嚴(yán)重危害到企業(yè)利潤(rùn)。因此，監(jiān)控好涂布后烘干的光阻的酸堿度對(duì)涂布工藝的質(zhì)量和tft的制造起著至關(guān)重要的作用。目前用于檢測(cè)光阻酸堿度的方法均采用ph計(jì)直接測(cè)量液態(tài)光阻。但是液態(tài)光阻的粘度較大，測(cè)完后容易粘附在ph計(jì)上，清洗困難，且容易腐蝕ph計(jì)。同時(shí)工藝上要監(jiān)控的是涂布烘干后光阻的酸堿度，在烘烤過(guò)程中光阻中的一部分易分解揮發(fā)的有機(jī)酸會(huì)逃出，所以直接測(cè)量的液態(tài)光阻酸堿度的數(shù)據(jù)無(wú)法準(zhǔn)確應(yīng)用到工藝上。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種檢測(cè)光阻酸堿度的方法，該方法解決了光阻酸堿度測(cè)定困難、準(zhǔn)確度低的難題，能?chē)?yán)格控制涂布后光阻的酸堿度，提高產(chǎn)品良率，可在tft行業(yè)中大力推廣。為此，本發(fā)明提供了一種檢測(cè)光阻酸堿度的方法，其包括以下步驟：s1，將液態(tài)光阻涂布于質(zhì)量為m1的基板上，烘干后，稱(chēng)取基板與光阻的總質(zhì)量m2；s2，用過(guò)量的堿液溶解基板上的光阻，獲得光阻混合液，記錄消耗的堿液的體積v1；s3，用酸液滴定所述的光阻混合液至中性，記錄消耗的酸液的體積v2；s4，計(jì)算光阻中氫離子的質(zhì)量分?jǐn)?shù)w。根據(jù)本發(fā)明，所述的光阻中氫離子質(zhì)量分?jǐn)?shù)w的計(jì)算公式為：其中，w—光阻中氫離子質(zhì)量分?jǐn)?shù)；c1—堿液中oh-的濃度，單位為mol/l；v1—消耗的堿液體積，單位為l；c2—酸液中h+的濃度，單位為單位為mol/l；v2—消耗的酸液體積，單位為l；m—?dú)潆x子的摩爾質(zhì)量，單位為g/mol；m2—基板與光阻的總質(zhì)量，單位為g；m1—基板的質(zhì)量，單位為g。本發(fā)明中，所述基板的質(zhì)量m1為基板烘干后的凈重。根據(jù)本發(fā)明，當(dāng)用堿液溶解完基板上的光阻后，用水沖洗基板，并將獲得的沖洗液加入到光阻混合液中，保證所有堿液進(jìn)入待標(biāo)定的光阻混合液中。本發(fā)明中，所述堿液為濃度穩(wěn)定的強(qiáng)堿性溶液。在本發(fā)明的一些實(shí)施方式中，所述的堿液為堿金屬的氫氧化物溶液。在本發(fā)明的一些優(yōu)選的實(shí)施方式中所述的堿液為氫氧化鉀溶液和/或氫氧化鈉溶液。本發(fā)明中，對(duì)堿液中oh-的濃度沒(méi)有特定要求。優(yōu)選地，堿液中oh-的濃度為0.1-1mol/l。本發(fā)明中，所述酸液為濃度穩(wěn)定的強(qiáng)酸性溶液。在本發(fā)明的一些實(shí)施方式中，所述的酸液選自鹽酸、硫酸、氫碘酸、氫溴酸和硝酸中的一種或多種。在本發(fā)明的一些優(yōu)選的實(shí)施方式中，所述的酸液為鹽酸和/或硫酸。本發(fā)明中，對(duì)酸液中h+的濃度沒(méi)有特定要求。優(yōu)選地，酸液中h+的濃度為0.1-1mol/l。在本發(fā)明的一些實(shí)施方式中，所述的烘干的方式為：將涂布有液態(tài)光阻的基板在200-250℃下烘烤0.5-1.5h；優(yōu)選地，將涂布有液態(tài)光阻的基板在230℃下烘烤1h。本發(fā)明中，所述的基板為耐酸堿和耐高溫的基板；具體地，所述基板為玻璃基板。本發(fā)明的有益效果為：本發(fā)明所述的檢測(cè)光阻酸堿度的方法，解決了光阻酸堿度測(cè)定困難、準(zhǔn)確度低的難題，能?chē)?yán)格控制涂布后光阻的酸堿度，提高產(chǎn)品良率，最終提高企業(yè)的利潤(rùn)。同時(shí)，該方法提高了檢測(cè)的準(zhǔn)確性和可重復(fù)性，可在tft行業(yè)中大力推廣。具體實(shí)施方式為使本發(fā)明容易理解，下面將詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明。如前所述，用于檢測(cè)光阻酸堿度的方法，均采用ph計(jì)直接測(cè)量液態(tài)光阻。該方法容易腐蝕ph計(jì)，且測(cè)量的數(shù)據(jù)無(wú)法準(zhǔn)確應(yīng)用到工藝上。本申請(qǐng)采用模仿工藝涂布制程，用旋涂機(jī)將液態(tài)光阻旋涂于玻璃基板上，烘干后，用過(guò)量堿液溶解玻璃上的光阻，再用酸液返滴的方式，可間接測(cè)量出光阻的酸堿度。該方法能?chē)?yán)格控制涂布后光阻的酸堿度，提高產(chǎn)品良率；同時(shí)提高了檢測(cè)的準(zhǔn)確性和可重復(fù)性。為此，本申請(qǐng)所涉及的用于檢測(cè)光阻酸堿度的方法，其具體包括以下步驟：(1)將玻璃基板置于200-250℃的烘箱中烘烤0.5-1.5h，取出后干燥冷卻，稱(chēng)取質(zhì)量m1；(2)在上述烘烤后的玻璃基板上滴加一定量的液態(tài)光阻，放入旋涂機(jī)中，將液態(tài)光阻涂布于玻璃基板上，得到光阻玻璃；然后將光阻玻璃置于200-250℃的烘箱中烘烤0.5-1.5h，取出后干燥冷卻，稱(chēng)取質(zhì)量m2；(3)用過(guò)量的oh-摩爾濃度為c1的標(biāo)準(zhǔn)堿液溶解玻璃基板上的光阻，獲得光阻混合液，記錄消耗的堿液體積v1；用水沖洗基板，并將獲得的沖洗液加入到光阻混合液中，保證光阻全部被溶解；(4)用h+摩爾濃度為c2的標(biāo)準(zhǔn)酸液滴定所述的光阻混合液至中性，記錄消耗的酸液體積v2；(5)根據(jù)消耗的標(biāo)準(zhǔn)堿液和標(biāo)準(zhǔn)酸液的體積，計(jì)算光阻中氫離子的質(zhì)量分?jǐn)?shù)w。所述的光阻中氫離子質(zhì)量分?jǐn)?shù)w的計(jì)算公式為：其中，w—光阻中氫離子質(zhì)量分?jǐn)?shù)；c1—堿液中oh-的濃度，單位為mol/l；v1—消耗的堿液體積，單位為l；c2—酸液中h+的濃度，單位為單位為mol/l；v2—消耗的酸液體積，單位為l；m—?dú)潆x子的摩爾質(zhì)量，單位為g/mol；m2—基板與光阻的總質(zhì)量，單位為g；m1—基板的質(zhì)量，單位為g。本發(fā)明中，所述堿液為濃度穩(wěn)定的強(qiáng)堿性溶液。在本發(fā)明的一些實(shí)施方式中，所述的堿液為堿金屬的氫氧化物溶液。在本發(fā)明的一些優(yōu)選的實(shí)施方式中所述的堿液為氫氧化鉀溶液和/或氫氧化鈉溶液。本發(fā)明中，對(duì)堿液中oh-的濃度沒(méi)有特定要求。優(yōu)選地，堿液中oh-的濃度為0.1-1mol/l。本發(fā)明中，所述酸液為濃度穩(wěn)定的強(qiáng)酸性溶液。在本發(fā)明的一些實(shí)施方式中，所述的酸液選自鹽酸、硫酸、氫碘酸、氫溴酸和硝酸中的一種或多種。在本發(fā)明的一些優(yōu)選的實(shí)施方式中，所述的酸液為鹽酸和/或硫酸。本發(fā)明中，對(duì)酸液中h+的濃度沒(méi)有特定要求。優(yōu)選地，酸液中h+的濃度為0.1-1mol/l。本發(fā)明中用語(yǔ)“堿液”與“標(biāo)準(zhǔn)堿液”的含義等同；用語(yǔ)“酸液”與“標(biāo)準(zhǔn)酸液”的含義等同。實(shí)施例為使本發(fā)明更加容易理解，下面將實(shí)施例來(lái)進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明，這些實(shí)施例僅起說(shuō)明性作用，并不局限于本發(fā)明的應(yīng)用范圍。本發(fā)明中所使用的原料或組分若無(wú)特殊說(shuō)明均可以通過(guò)商業(yè)途徑或常規(guī)方法制得。下述實(shí)施例中采用的標(biāo)準(zhǔn)堿液為氫氧化鈉溶液，濃度為1mol/l；采用的標(biāo)準(zhǔn)酸液為鹽酸，濃度為1mol/l。實(shí)施例1(1)將一片10cm×10cm的素玻璃置于230℃的烘箱中烘烤1h，取出后干燥冷卻，稱(chēng)取質(zhì)量11.71660g；(2)在上述素玻璃上滴加一定量的液態(tài)光阻，放入旋涂機(jī)中，將液態(tài)光阻涂布于玻璃基板上，得到光阻玻璃；然后將光阻玻璃置于230℃的烘箱中烘烤1h，取出后干燥冷卻，稱(chēng)取質(zhì)量11.80261g；(3)用過(guò)量的1mol/l的氫氧化鈉溶液溶解玻璃基板上的光阻，獲得光阻混合液，記錄消耗的堿液的體積20.00ml；用水沖洗基板，并將獲得的沖洗液加入到光阻混合液中，保證光阻全部被溶解；(4)用濃度為1mol/l的鹽酸滴定所述的光阻混合液至中性，記錄消耗的酸液的體積18.66ml；(5)根據(jù)消耗的氫氧化鈉溶液和鹽酸的體積，計(jì)算光阻中氫離子的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為1.56％。實(shí)施例2：精密度實(shí)驗(yàn)選擇3種不同的液態(tài)光阻，分別按照實(shí)施例1中所述的檢測(cè)方法測(cè)定光阻中氫離子的質(zhì)量分?jǐn)?shù)，每個(gè)樣品平行測(cè)定3次，計(jì)算相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)方差，實(shí)驗(yàn)結(jié)果見(jiàn)表1。表1：本發(fā)明所述方法的精密度實(shí)驗(yàn)結(jié)果樣品測(cè)定值(％)平均值(％)相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)方差rsd液態(tài)光阻樣品11.54/1.58/1.561.561.28液態(tài)光阻樣品21.68/1.66/1.661.670.69液態(tài)光阻樣品31.87/1.81/1.841.841.63從上述實(shí)驗(yàn)可知，本發(fā)明所述的檢測(cè)的精密度高，可重復(fù)性好，可在tft行業(yè)中大力推廣。應(yīng)當(dāng)注意的是，以上所述的實(shí)施例僅用于解釋本發(fā)明，并不構(gòu)成對(duì)本發(fā)明的任何限制。通過(guò)參照典型實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了描述，但應(yīng)當(dāng)理解為其中所用的詞語(yǔ)為描述性和解釋性詞匯，而不是限定性詞匯。可以按規(guī)定在本發(fā)明權(quán)利要求的范圍內(nèi)對(duì)本發(fā)明作出修改，以及在不背離本發(fā)明的范圍和精神內(nèi)對(duì)本發(fā)明進(jìn)行修訂。盡管其中描述的本發(fā)明涉及特定的方法、材料和實(shí)施例，但是并不意味著本發(fā)明限于其中公開(kāi)的特定例，相反，本發(fā)明可擴(kuò)展至其他所有具有相同功能的方法和應(yīng)用。當(dāng)前第1頁(yè)12