一種氧含量檢測裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體工藝設(shè)備【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種氧含量檢測裝置。該氧含量檢測裝置包括氧氣分析儀和一個(gè)或多個(gè)控制系統(tǒng)，所述氧氣分析儀通過所述控制系統(tǒng)與檢測區(qū)域連接。本實(shí)用新型的氧含量檢測裝置既可以檢測到微環(huán)境傳片潔凈區(qū)域內(nèi)的氧含量，也可以檢測到第一硅片出入口區(qū)域和第二硅片出入口區(qū)域內(nèi)部的氧含量，滿足半導(dǎo)體工藝制程的要求，結(jié)構(gòu)簡單，也可降低設(shè)備成本。
【專利說明】一種氧含量檢測裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體工藝設(shè)備【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種氧含量檢測裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]在半導(dǎo)體工藝設(shè)備中，要求在硅片暴露區(qū)域需要較低的含氧量，以保證生產(chǎn)出的硅片質(zhì)量，因此實(shí)現(xiàn)硅片暴露區(qū)域內(nèi)氧含量精確檢測至關(guān)重要。
[0003]硅片的暴露區(qū)域有兩部分，一是升降舟的微環(huán)境傳片潔凈區(qū)域，另一個(gè)是微環(huán)境傳片潔凈區(qū)域與硅片傳送盒之間的硅片出入口區(qū)域。傳統(tǒng)的半導(dǎo)體設(shè)備采用一個(gè)氧氣分析儀，只檢測升降舟的微環(huán)境區(qū)域，不檢測硅片出入口區(qū)域的氧含量數(shù)值。當(dāng)使用傳統(tǒng)方法時(shí)，如果硅片出入口區(qū)域的氧含量很高，達(dá)不到技術(shù)要求，被傳送的硅片將在此處受到嚴(yán)重的質(zhì)量影響，且當(dāng)硅片出入口區(qū)域的盒蓋打開之后，還會讓微環(huán)境的氧含量受到較大的波動，嚴(yán)重影響硅片傳送制程；如果采用兩個(gè)氧氣分析儀分別檢測以上區(qū)域的話，又會大大增加了設(shè)備的成本。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0004](一)要解決的技術(shù)問題
[0005]本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是提供了一種氧含量檢測裝置，既可以滿足微環(huán)境傳片潔凈區(qū)域的氧含量檢測要求，又可以滿足微環(huán)境傳片潔凈區(qū)域與硅片傳送盒之間的硅片出入口區(qū)域的氧含量檢測要求，并且既可以實(shí)現(xiàn)單一檢測管路單獨(dú)控制，也可以實(shí)現(xiàn)同路檢測。
[0006](二)技術(shù)方案
[0007]為了解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型提供了一種氧含量檢測裝置，包括氧氣分析儀和一個(gè)或多個(gè)控制系統(tǒng)，所述氧氣分析儀通過所述控制系統(tǒng)與檢測區(qū)域連接。
[0008]其中，所述控制系統(tǒng)還連接有控制器，所述控制器與所述氧氣分析儀連接。
[0009]其中，所述氧氣分析儀、控制系統(tǒng)和檢測區(qū)域之間通過管路依次密封連接。
[0010]其中，所述控制系統(tǒng)包括用于控制所述管路的通斷的開關(guān)模塊和用于操作開關(guān)模塊的執(zhí)行模塊，所述氧氣分析儀通過所述開關(guān)模塊與所述檢測區(qū)域連接，所述開關(guān)模塊與所述執(zhí)行模塊連接，所述執(zhí)行模塊與所述控制器連接。
[0011]其中，所述開關(guān)模塊為閥門。
[0012]其中，所述執(zhí)行模塊為氣動執(zhí)行機(jī)構(gòu)。
[0013]其中，所述管路的材質(zhì)為316L不銹鋼。
[0014]其中，所述開關(guān)模塊的材質(zhì)為316L不銹鋼。
[0015](三)有益效果
[0016]本實(shí)用新型的上述技術(shù)方案具有以下有益效果:本實(shí)用新型的氧含量檢測裝置包括氧氣分析儀和一個(gè)或多個(gè)控制系統(tǒng)，氧氣分析儀用于分析檢測區(qū)域的氧含量，氧氣分析儀通過一個(gè)或多個(gè)控制系統(tǒng)與檢測區(qū)域連接，從而保證檢測區(qū)域中的每一點(diǎn)均通過一條路線連接到氧氣分析儀上，從而通過每一路線上的控制系統(tǒng)控制該路線的通斷，來實(shí)現(xiàn)檢測區(qū)域內(nèi)的不同位置的氧含量的檢測。本實(shí)用新型的氧含量檢測裝置既可以檢測到微環(huán)境傳片潔凈區(qū)域內(nèi)的氧含量，也可以檢測到第一硅片出入口區(qū)域和第二硅片出入口區(qū)域內(nèi)部的氧含量，滿足半導(dǎo)體工藝制程的要求，結(jié)構(gòu)簡單，也可降低設(shè)備成本。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0017]圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例的氧含量檢測裝置的工作原理圖。
[0018]其中，1:控制器；2:氧氣分析儀；3:第一執(zhí)行機(jī)構(gòu)；4:第二執(zhí)行機(jī)構(gòu)；5:第一閥門；6:第二閥門；7:第三閥門；8:第一檢測口 ；9:第二檢測口 ；10:第三檢測口 ；11:管路；12 --第一娃片傳送盒；13:第三執(zhí)行機(jī)構(gòu)；14 --第一娃片出入口區(qū)域；15:第二娃片出入口區(qū)域；16:微環(huán)境傳片潔凈區(qū)域；17:第二娃片傳送盒。
【具體實(shí)施方式】
[0019]下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對本實(shí)用新型的實(shí)施方式作進(jìn)一步詳細(xì)描述。以下實(shí)施例用于說明本實(shí)用新型，但不能用來限制本實(shí)用新型的范圍。
[0020]在本實(shí)用新型的描述中，除非另有說明，“多個(gè)”的含義是兩個(gè)或兩個(gè)以上；除非另有說明，“缺口狀”的含義為除截面平齊外的形狀。術(shù)語“上”、“下”、“左”、“右”、“內(nèi)”、“外”、“前端”、“后端”、“頭部”、“尾部”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本實(shí)用新型和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對本實(shí)用新型的限制。此外，術(shù)語“第一”、“第二”、“第三”等僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示相對重要性。
[0021]如圖1所示，本實(shí)施例的氧含量檢測裝置包括氧氣分析儀2和一個(gè)或多個(gè)控制系統(tǒng)，氧氣分析儀2用于分析檢測區(qū)域的氧含量，氧氣分析儀2通過一個(gè)或多個(gè)控制系統(tǒng)與檢測區(qū)域連接，從而保證檢測區(qū)域內(nèi)的每一點(diǎn)均通過一條路線連接到氧氣分析儀2上，從而通過每一路線上的控制系統(tǒng)控制該路線的通斷，來實(shí)現(xiàn)檢測區(qū)域內(nèi)的不同位置的氧含量的檢測。
[0022]控制系統(tǒng)還連接有控制器1，控制器I與氧氣分析儀2連接，通過控制器I既可以操作控制系統(tǒng)，來確定該路線的開放或閉合，也可以控制氧氣分析儀2對檢測區(qū)域內(nèi)的氣體進(jìn)行氧含量的分析檢測，以實(shí)現(xiàn)檢測區(qū)域內(nèi)的不同位置的氧含量的檢測，使得檢測過程自動化程度高，操作簡單方便。
[0023]考慮本實(shí)施例的氧含量檢測裝置的實(shí)用性，優(yōu)選地，控制器I選用PLC控制器，其具有操作簡單方便，性價(jià)比高，抗干擾能力強(qiáng)，維修方便等特點(diǎn)。
[0024]具體到本實(shí)施例中，氧氣分析儀2、控制系統(tǒng)和檢測區(qū)域之間通過管路11依次密封連接，保證連接處沒有氣體泄漏；控制系統(tǒng)、控制器I和氧氣分析儀之間分別通過線路連接，控制器I既可以通過操作控制系統(tǒng)來控制管路11的打開和閉合，也可以控制氧氣分析儀2對檢測區(qū)域內(nèi)的氣體進(jìn)行氧含量的檢測分析。
[0025]控制系統(tǒng)包括用于控制所述管路11的通斷的開關(guān)模塊和用于操作開關(guān)模塊的執(zhí)行模塊，氧氣分析儀2通過開關(guān)模塊與檢測區(qū)域連接，開關(guān)模塊與執(zhí)行模塊連接，執(zhí)行模塊與控制器(I)連接，通過控制器I控制執(zhí)行模塊，從而控制開關(guān)模塊來確定該路線的開放或閉合，以實(shí)現(xiàn)不同區(qū)域氧含量的檢測。
[0026]考慮本實(shí)施例的氧含量檢測裝置的實(shí)用性和可實(shí)現(xiàn)性，優(yōu)選地，開關(guān)模塊為閥門，執(zhí)行模塊為氣動執(zhí)行機(jī)構(gòu)，均具有成本低，操作簡單，適應(yīng)性強(qiáng)的特點(diǎn)。
[0027]需要說明的是，開關(guān)模塊除選用閥門外，也可選用其他控制方式，只要滿足可以控制管路11的打開和閉合的要求即可；執(zhí)行模塊除選用氣動執(zhí)行機(jī)構(gòu)外，也可以選用其他執(zhí)行機(jī)構(gòu)，只要滿足可以操作開關(guān)模塊的要求即可。
[0028]管路11和開關(guān)模塊的材質(zhì)為316L不銹鋼，保證在氣體檢測過程中，管路11和開關(guān)模塊內(nèi)不會有揮發(fā)性顆粒進(jìn)入檢測區(qū)域內(nèi)而影響工藝質(zhì)量，同時(shí)也可以保證氧氣含量檢測的準(zhǔn)確性。
[0029]需要說明的是，管路11和開關(guān)模塊的材質(zhì)除選用316L不銹鋼外，還可以選用其它材質(zhì)，只要滿足保證在氣體檢測過程中，管路11和開關(guān)模塊內(nèi)不會有揮發(fā)性顆粒進(jìn)入檢測區(qū)域內(nèi)而影響工藝質(zhì)量的要求即可。
[0030]具體到本實(shí)施例中，檢測區(qū)域包括三個(gè)部分，分別為第一硅片出入口區(qū)域14、第二硅片出入口區(qū)域15和微環(huán)境傳片潔凈區(qū)域16，氧氣分析儀2通過三個(gè)控制系統(tǒng)分別與三個(gè)區(qū)域連接，形成三條路線，將第一硅片出入口區(qū)域14、第二硅片出入口區(qū)域15和微環(huán)境傳片潔凈區(qū)域16的氣體輸送到氧氣分析儀2中進(jìn)行檢測分析；每一條路線上的控制系統(tǒng)控制該路線的通斷，從而實(shí)現(xiàn)對該處氣體的氧分子含量的檢測分析的控制。
[0031]檢測區(qū)域內(nèi)分別設(shè)有第一檢測口 8、第二檢測口 9和第三檢測口 10，第一檢測口 8位于第一娃片傳送盒12所對應(yīng)的第一娃片出入口區(qū)域14內(nèi)，用于檢測第一娃片出入口區(qū)域14內(nèi)的氧含量；第二檢測口 9位于第二硅片傳送盒17所對應(yīng)的第二硅片出入口區(qū)域15內(nèi)，用于檢測第二硅片出入口區(qū)域15內(nèi)的氧含量；第三檢測口 10位于微環(huán)境傳片潔凈區(qū)域16內(nèi)，用于檢測微環(huán)境傳片潔凈區(qū)域16內(nèi)的氧含量。
[0032]開關(guān)模塊包括第一閥門5、第二閥門6和第三閥門7，執(zhí)行模塊包括第一執(zhí)行機(jī)構(gòu)
3、第二執(zhí)行機(jī)構(gòu)4和第三執(zhí)行機(jī)構(gòu)13，第一執(zhí)行機(jī)構(gòu)3與第一閥門5連接，第二執(zhí)行機(jī)構(gòu)4與第二閥門6連接，第三執(zhí)行機(jī)構(gòu)13與第三閥門7連接，氧氣分析儀2分別通過第一閥門
5、第二閥門6和第三閥門7與第一檢測口 8、第三檢測口 10和第二檢測口 9連接，從而通過控制每一路線的開關(guān)模塊的通斷，實(shí)現(xiàn)檢測區(qū)域內(nèi)的不同位置的氧含量的檢測；第一執(zhí)行機(jī)構(gòu)3、第二執(zhí)行機(jī)構(gòu)4和第三執(zhí)行機(jī)構(gòu)13均與控制器I連接，控制器I通過第一執(zhí)行機(jī)構(gòu)
3、第二執(zhí)行機(jī)構(gòu)4和第三執(zhí)行機(jī)構(gòu)13分別控制第一閥門5、第二閥門6和第三閥門7的打開和閉合，從而控制三條路線的通暢和封閉，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)每一檢測路線單獨(dú)控制的功能。
[0033]使用時(shí)，在硅片進(jìn)行制程工藝過程前，將微環(huán)境傳片潔凈區(qū)域16內(nèi)的氣體置換成氮?dú)?，氧分子含量控制在工藝要求以下?br> [0034]首先通過控制器I發(fā)送信號給第一執(zhí)行機(jī)構(gòu)3與第三執(zhí)行機(jī)構(gòu)13,將第一閥門5和第三閥門7關(guān)閉，保證第一硅片出入口區(qū)域14和第二硅片出入口區(qū)域15內(nèi)的氣體不會輸送至氧氣分析儀2中，然后發(fā)送信號給第二執(zhí)行機(jī)構(gòu)4，將第二閥門6打開，保證微環(huán)境傳片潔凈區(qū)域16內(nèi)與氧氣分析儀2之間的路線通暢，并進(jìn)行吹掃工作，再通過本實(shí)施例的氧含量檢測裝置檢測第三檢測口 10所在的微環(huán)境傳片潔凈區(qū)域16的氧含量，根據(jù)氧氣分析儀2檢測的氧含量，可判斷微環(huán)境傳片潔凈區(qū)域16的氧含量是否達(dá)到工藝要求，當(dāng)該處氧含量達(dá)到工藝要求后，即可進(jìn)行下一步的工藝準(zhǔn)備。[0035]當(dāng)微環(huán)境傳片潔凈區(qū)域16的氧含量達(dá)標(biāo)后，若采用第一硅片出入口區(qū)域14進(jìn)行傳片，通過控制器I控制第二執(zhí)行機(jī)構(gòu)4將第二閥門6關(guān)閉，控制第一執(zhí)行機(jī)構(gòu)3將第一閥門5打開，檢測第一檢測口 8位于的第一硅片出入口區(qū)域14內(nèi)的氧含量是否滿足工藝要求，如果不滿足則要通入氮?dú)膺M(jìn)行吹掃，直到此區(qū)域的氧含量達(dá)到工藝要求；若采用第二硅片出入口區(qū)域15進(jìn)行傳片,控制第一執(zhí)行機(jī)構(gòu)3將第一閥門5關(guān)閉,控制第三執(zhí)行機(jī)構(gòu)13將第三閥門7打開，檢測第二檢測口 9位于的第二硅片出入口區(qū)域15內(nèi)的氧含量，并按上述方式將此區(qū)域的氧含量控制在工藝要求的標(biāo)準(zhǔn)。
[0036]使用時(shí)也可將第一閥門5、第二閥門6和第三閥門7同時(shí)打開，檢測分析三個(gè)路線對應(yīng)區(qū)域內(nèi)的氧含量，當(dāng)上述三個(gè)區(qū)域內(nèi)有任何一個(gè)區(qū)域出現(xiàn)氧含量超標(biāo)，即可及時(shí)得到報(bào)警，然后分別對上述區(qū)域進(jìn)行檢測，有效保證硅片的工藝質(zhì)量。
[0037]當(dāng)硅片工作過程暴露的區(qū)域內(nèi)的氧含量達(dá)到技術(shù)要求，可以開始進(jìn)行硅片的傳送過程。
[0038]在硅片傳送過程中，通過控制器I控制執(zhí)行模塊打開第一閥門5、第二閥門6和第三閥門7使三條路線保持暢通，可以方便監(jiān)測檢測區(qū)域內(nèi)的氧含量，避免氧含量超標(biāo)影響工藝過程。
[0039]綜上所述，本實(shí)施例的氧含量檢測裝置包括氧氣分析儀2和一個(gè)或多個(gè)控制系統(tǒng)，氧氣分析儀2用于分析檢測區(qū)域的氧含量，氧氣分析儀2通過一個(gè)或多個(gè)控制系統(tǒng)與檢測區(qū)域連接，從而保證檢測區(qū)域內(nèi)的每一點(diǎn)均通過一條路線連接到氧氣分析儀2上，從而通過每一路線上的控制系統(tǒng)控制該路線的通斷，來實(shí)現(xiàn)檢測區(qū)域內(nèi)的不同位置的氧含量的檢測。本實(shí)施例的氧含量檢測裝置既可以檢測到微環(huán)境傳片潔凈區(qū)域16內(nèi)的氧含量，也可以檢測到第一硅片出入口區(qū)域14和第二硅片出入口區(qū)域15的內(nèi)部的氧含量，滿足半導(dǎo)體工藝制程的要求，結(jié)構(gòu)簡單，也可降低設(shè)備成本。
[0040]本實(shí)用新型的實(shí)施例是為了示例和描述起見而給出的，而并不是無遺漏的或者將本實(shí)用新型限于所公開的形式。很多修改和變化對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言是顯而易見的。選擇和描述實(shí)施例是為了更好說明本實(shí)用新型的原理和實(shí)際應(yīng)用，并且使本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員能夠理解本實(shí)用新型從而設(shè)計(jì)適于特定用途的帶有各種修改的各種實(shí)施例。
【權(quán)利要求】
1.一種氧含量檢測裝置，包括氧氣分析儀(2)，其特征在于，還包括一個(gè)或多個(gè)控制系統(tǒng)，所述氧氣分析儀(2)通過所述控制系統(tǒng)與檢測區(qū)域連接，所述控制系統(tǒng)包括用于控制所述管路(11)的通斷的開關(guān)模塊和用于操作開關(guān)模塊的執(zhí)行模塊，所述氧氣分析儀(2)通過所述開關(guān)模塊與所述檢測區(qū)域連接，所述開關(guān)模塊與所述執(zhí)行模塊連接，所述執(zhí)行模塊與所述控制器(I)連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氧含量檢測裝置，其特征在于，所述控制系統(tǒng)還連接有控制器(I)，所述控制器(I)與所述氧氣分析儀(2)連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的氧含量檢測裝置，其特征在于，所述氧氣分析儀(2)、控制系統(tǒng)和檢測區(qū)域之間通過管路(11)依次密封連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的氧含量檢測裝置，其特征在于，所述開關(guān)模塊為閥門。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的氧含量檢測裝置，其特征在于，所述執(zhí)行模塊為氣動執(zhí)行機(jī)構(gòu)。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的氧含量檢測裝置，其特征在于，所述管路(11)的材質(zhì)為316L不銹鋼。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的氧含量檢測裝置，其特征在于，所述開關(guān)模塊的材質(zhì)為316L不銹鋼。
【文檔編號】G01N33/00GK203824976SQ201320802618
【公開日】2014年9月10日 申請日期:2013年12月6日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月6日
【發(fā)明者】王麗榮, 董金衛(wèi), 孫少東 申請人:北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司