一種屏蔽殼體孔縫位置的定位方法及定位系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種屏蔽殼體孔縫位置的定位方法及定位系統(tǒng)，該方法包括：步驟S101，通過聚焦裝置對屏蔽殼體孔縫發(fā)出的電磁波進行聚焦；步驟S102，通過電磁波接收裝置在聚焦后電磁波范圍內(nèi)的不同位置對電磁波進行接收；步驟S103，通過光學記錄裝置將所述電磁波接收裝置接收的電磁波轉(zhuǎn)換為電磁波能量值并進行記錄；步驟S104，通過分析裝置將所述的電磁波能量值進行比較，得出最大電磁波能量值，并確定獲得該最大電磁波能量值的位置；步驟S105，通過所述的最大電磁波能量值的位置定位所述的屏蔽殼體孔縫位置。該屏蔽殼體孔縫位置的定位方法及定位系統(tǒng)能夠?qū)ξ⑿】卓p精確定位，有效防止屏蔽殼體電磁泄漏。
【專利說明】一種屏蔽殼體孔縫位置的定位方法及定位系統(tǒng)
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及光學探測領(lǐng)域，具體地，涉及一種屏蔽殼體孔縫位置的定位方法及定位系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]電子設(shè)備在使用過程中，常常會受到電磁波的干擾，為了保護電子設(shè)備免受本身或外在的電磁干擾，通常會對電子設(shè)備采取屏蔽措施。大的系統(tǒng)可以放置于屏蔽室或采取屏蔽措施的建筑物內(nèi)，小的電子設(shè)備一般通過屏蔽殼體來進行電磁屏蔽。然而，屏蔽殼體上一般都不可避免地帶有孔縫，或用于電源線和信號線的連接，或用于通風等實際需要。屏蔽殼體的孔縫電磁泄漏將對系統(tǒng)中其它事物構(gòu)成電磁騷擾，并產(chǎn)生電磁兼容問題。而其各模塊間如果發(fā)生類似輻射，還將引起相互騷擾，影響各個模塊間的共存。因此，屏蔽設(shè)計要求，孔縫寬度必須控制在最短波長的λ/10至λ/100之間。然而，電磁輻射經(jīng)孔縫衍射后，由于波的相干疊加，反而得到加強，產(chǎn)生了與屏蔽設(shè)計預(yù)期不同的特殊效果，影響電子設(shè)備的正常使用。
[0003]目前，通常使用近場探頭對屏蔽殼體孔縫進行探測，但經(jīng)常在找到泄漏點并進行屏蔽處理后，發(fā)現(xiàn)輻射泄漏并沒有得到足夠的改善，其原因就是泄漏點是微小孔縫，這些微小孔縫泄漏的電磁波頻率可達400GHz，而現(xiàn)在使用的近場探頭只能探測到30MHz-6GHz頻率范圍內(nèi)的電磁波。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]為解決上述問題，本發(fā)明提供一種屏蔽殼體孔縫位置的定位方法包括:
步驟S101，通過聚焦裝置對屏蔽殼體孔縫發(fā)出的電磁波進行聚焦；
步驟S102，通過電磁波接收裝置在聚焦后電磁波范圍內(nèi)的不同位置對電磁波進行接
收；
步驟S103，通過光學記錄裝置將所述電磁波接收裝置接收的電磁波轉(zhuǎn)換為電磁波能量值并進行記錄；
步驟S104，通過分析裝置將所述的電磁波能量值進行比較，得出最大電磁波能量值，并確定獲得該最大電磁波能量值的位置；
步驟S105，通過所述的最大電磁波能量值的位置定位所述的屏蔽殼體孔縫位置。
[0005]進一步地，所述的最大電磁波能量值的位置為所述電磁波接收裝置獲取最大電磁波能量值時在所述的聚焦后電磁波范圍內(nèi)的位置。
[0006]本發(fā)明還提供了一種屏蔽殼體孔縫位置的定位系統(tǒng)，包括聚焦裝置、電磁波接收裝置、光學記錄裝置和分析裝置，其中，
聚焦裝置對屏蔽殼體孔縫發(fā)出的電磁波進行聚焦；電磁波接收裝置在聚焦后的電磁波范圍內(nèi)的不同位置對電磁波進行接收；光學記錄裝置將所述電磁波接收裝置接收的電磁波轉(zhuǎn)換為電磁波能量值；所述分析裝置將所述的電磁波能量值進行比較，得出最大電磁波能量值，并確定獲得該最大電磁波能量值的位置。
[0007]進一步地，所述的最大電磁波能量值的位置為所述電磁波接收裝置獲取最大電磁波時在所述的聚焦后電磁波范圍內(nèi)的位置。
[0008]進一步地，所述光學記錄裝置為EMC接收機或頻譜分析儀。
[0009]進一步地，所述聚焦裝置為透鏡天線。
[0010]進一步地，所述電磁波接收裝置為接收天線。
[0011]進一步地，還包括用于對所述比較的結(jié)果進行提示的報警裝置。
[0012]本發(fā)明具有下述有益效果:本發(fā)明提供的屏蔽殼體孔縫位置的定位方法及定位系統(tǒng)，通過對屏蔽殼體孔縫發(fā)出的電磁波進行聚焦、接收、比較，從而實現(xiàn)對屏蔽殼體孔縫位置的定位。該方法以及定位系統(tǒng)能夠快速的定位微小孔縫，能夠?qū)ξ⑿】卓p發(fā)出的5GHz-400GHz頻率范圍內(nèi)的電磁波進行接收并實現(xiàn)定位，從而有效防止屏蔽殼體電磁泄漏。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0013]圖1為本發(fā)明所涉及的屏蔽殼體孔縫位置的定位方法的流程圖；
圖2為本發(fā)明所涉及的屏蔽殼體孔縫位置的定位系統(tǒng)使用狀態(tài)示意圖。
【具體實施方式】
[0014]為使本領(lǐng)域的技術(shù)人員更好地理解本發(fā)明的技術(shù)方案，首先，對本發(fā)明的原理進行簡單介紹。電子設(shè)備屏蔽殼體孔縫電磁輻射形成的遠場衍射是夫瑯和費衍射，當電磁波穿過孔縫時，衍射圖樣的中心亮斑即艾里斑最亮，電磁波能量最大，因此通過電磁波能量最大的位置即可定位屏蔽殼體孔縫的位置。下面結(jié)合附圖對本發(fā)明提供的屏蔽殼體孔縫位置的定位方法及定位系統(tǒng)進行詳細描述。
[0015]圖1為本發(fā)明所提供的屏蔽殼體孔縫位置的定位方法的流程圖。包括步驟S101，通過聚焦裝置對屏蔽殼體孔縫發(fā)出的電磁波進行聚焦；
步驟S102，通過電磁波接收裝置在聚焦后電磁波范圍內(nèi)的不同位置對電磁波進行接收；步驟S103，通過光學記錄裝置將所述電磁波接收裝置接收的電磁波轉(zhuǎn)換為電磁波能量值；步驟S104，通過分析裝置將所述的電磁波能量值進行比較，得出最大電磁波能量值，并確定獲得該最大電磁波能量值的位置；步驟S105，通過所述的最大電磁波能量值的位置定位所述的屏蔽殼體孔縫位置。其中，所述的最大電磁波能量值的位置可為所述電磁波接收裝置獲取最大電磁波能量值時在所述的聚焦后電磁波范圍內(nèi)的位置。具體地，通過所述聚焦裝置對屏蔽殼體孔縫發(fā)出的電磁波進行聚焦；然后由電磁波接收裝置對所述聚焦后的電磁波進行接收，其中，所述電磁波接收裝置在聚焦后電磁波范圍內(nèi)的不同位置分別進行電磁波接收；電磁波接收裝置在不同位置接收到的電磁波通過光學記錄裝置轉(zhuǎn)換為電磁波能量值，并進行記錄；然后通過分析裝置對光學記錄裝置記錄的不同位置的電磁波能量值進行比較，得出最大電磁波能量值的位置即電磁波接收裝置獲取最大電磁波能量值時在所述的聚焦后電磁波范圍內(nèi)的位置，最后通過電磁波接收裝置的位置定位屏蔽殼體孔縫位置。
[0016]本實施例通過對屏蔽殼體孔縫發(fā)出的電磁波進行聚焦、接收、比較，從而實現(xiàn)對屏蔽殼體孔縫位置的定位。該方法能夠?qū)ξ⑿】卓p發(fā)出的5GHz-400GHz頻率范圍內(nèi)的電磁波進行接收并實現(xiàn)定位，從而有效防止屏蔽殼體電磁泄漏。[0017]圖2為本發(fā)明所涉及的屏蔽殼體孔縫位置的定位系統(tǒng)使用狀態(tài)示意圖。其中本發(fā)明所涉及的屏蔽殼體孔縫位置的定位系統(tǒng)包括聚焦裝置12、電磁波接收裝置13、光學記錄裝置14和分析裝置15，另外圖2中還包括屏蔽殼體孔縫11。其中，聚焦裝置12對屏蔽殼體孔縫11發(fā)出的電磁波進行聚焦，電磁波接收裝置13在聚焦后的電磁波范圍內(nèi)的不同位置對電磁波進行接收，光學記錄裝置14將電磁波接收裝置13接收的電磁波轉(zhuǎn)換為電磁波能量值；分析裝置15將所述的電磁波能量值進行比較，得出最大電磁波能量值，并確定獲得該最大電磁波能量值的位置。其中，光學記錄裝置14可選用EMC接收機或頻譜分析儀，聚焦裝置12可選用透鏡天線，電磁波接收裝置13可選用接收天線。
[0018]具體地，如圖2所示，電磁波從屏蔽殼體孔縫11發(fā)出，經(jīng)過聚焦裝置12聚焦后會形成一個聚焦后電磁波范圍，電磁波接收裝置13在所述聚焦后電磁波范圍內(nèi)的不同位置接收電磁波，接收的不同位置的電磁波由光學記錄裝置14轉(zhuǎn)換成電磁波能量值并進行記錄，然后將記錄的電磁波能量值發(fā)送給分析裝置15進行比較，得出最大電磁波能量值，SP電磁波接收裝置13獲取最大電磁波能量值時在所述的聚焦后電磁波范圍內(nèi)的位置，最后通過電磁波接收裝置13的位置定位屏蔽殼體孔縫11的位置。
[0019]進一步地，所述定位屏蔽殼體孔縫位置的系統(tǒng)還包括報警裝置16，該報警裝置與所述的分析裝置15相連，用于對分析裝置15比較的結(jié)果進行提示。
[0020]本實施例通過由聚焦裝置、電磁波接收裝置、光學記錄裝置、分析裝置構(gòu)成的屏蔽殼體孔縫位置定位系統(tǒng)實現(xiàn)對屏蔽殼體孔縫的定位，該系統(tǒng)能夠快速定位屏蔽殼體孔縫位置。
[0021]可以理解的是，以上實施方式僅僅是為了說明本發(fā)明的原理而采用的示例性實施方式，然而本發(fā)明并不局限于此。對于本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員而言，在不脫離本發(fā)明的精神和實質(zhì)的情況下，可以做出各種變型和改進，這些變型和改進也視為本發(fā)明的保護范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種屏蔽殼體孔縫位置的定位方法，其特征在于，包括: 步驟S101，通過聚焦裝置對屏蔽殼體孔縫發(fā)出的電磁波進行聚焦； 步驟S102，通過電磁波接收裝置在聚焦后電磁波范圍內(nèi)的不同位置對電磁波進行接收； 步驟S103，通過光學記錄裝置將所述電磁波接收裝置接收的電磁波轉(zhuǎn)換為電磁波能量值并進行記錄； 步驟S104，通過分析裝置將所述的電磁波能量值進行比較，得出最大電磁波能量值，并確定獲得該最大電磁波能量值的位置； 步驟S105，通過所述的最大電磁波能量值的位置定位所述的屏蔽殼體孔縫位置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的屏蔽殼體孔縫位置的定位方法，其特征在于，所述的最大電磁波能量值的位置為所述電磁波接收裝置獲取最大電磁波能量值時在所述的聚焦后電磁波范圍內(nèi)的位置。
3.一種屏蔽殼體孔縫位置的定位系統(tǒng)，其特征在于，包括聚焦裝置、電磁波接收裝置、光學記錄裝置和分析裝置，其中， 聚焦裝置對屏蔽殼體孔縫發(fā)出的電磁波進行聚焦；電磁波接收裝置在聚焦后的電磁波范圍內(nèi)的不同位置對電磁波進行接收；光學記錄裝置將所述電磁波接收裝置接收的電磁波轉(zhuǎn)換為電磁波能量值；所述分析裝置將所述的電磁波能量值進行比較，得出最大電磁波能量值，并確定獲得該最大電磁波能量值的位置。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的定位屏蔽殼體孔縫位置的系統(tǒng)，其特征在于，所述的最大電磁波能量值的位置為所述電磁波接收裝置獲取最大電磁波時在所述的聚焦后電磁波范圍內(nèi)的位置。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的屏蔽殼體孔縫位置的定位系統(tǒng)，其特征在于，所述光學記錄裝置為EMC接收機或頻譜分析儀。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的屏蔽殼體孔縫位置的定位系統(tǒng)，其特征在于，所述聚焦裝置為透鏡天線。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的屏蔽殼體孔縫位置的定位系統(tǒng)，其特征在于，所述電磁波接收裝置為接收天線。
8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的屏蔽殼體孔縫位置的定位系統(tǒng)，其特征在于，還包括用于對所述比較的結(jié)果進行提示的報警裝置。
【文檔編號】G01S11/06GK103728611SQ201310682589
【公開日】2014年4月16日 申請日期:2013年12月16日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月16日
【發(fā)明者】劉樹海, 白同云, 徐峰 申請人:北京超思電子技術(shù)股份有限公司