用于生產(chǎn)和包裝線的金屬探測(cè)器的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種金屬探測(cè)器（20），具有帶進(jìn)口孔（30）和出口孔（31）的金屬外殼（21）。在所述外殼（21）內(nèi)部設(shè)置具有發(fā)射線圈和第一及第二接收線圈的線圈系統(tǒng)以界定出探測(cè)區(qū)（28），該探測(cè)區(qū)（28）在進(jìn)、出口孔（30、31）之間延伸并且被探測(cè)的物品穿過(guò)該探測(cè)區(qū)行進(jìn)。相對(duì)于所述行進(jìn)方向（13），第一和第二接收線圈設(shè)置在發(fā)射線圈的相反側(cè)上。第一和第二接收線圈相互串聯(lián)連接，但是其繞組按彼此相反旋轉(zhuǎn)方向地布線。當(dāng)發(fā)射線圈被交變電流激勵(lì)時(shí)，被探測(cè)物品（2）中的金屬雜質(zhì)在另外的平衡接收線圈中產(chǎn)生了探測(cè)信號(hào)。為了抵消對(duì)探測(cè)區(qū)（28）外面的金屬物品的不希望有的靈敏度，金屬探測(cè)器（20）具有設(shè)置在進(jìn)口孔（30）處的第一抵消器件（26）以抵消超出線圈系統(tǒng)上游第一距離（d）的金屬物品的不希望有的影響和/或具有設(shè)置在出口孔（31）處的第二抵消器件（27）以抵消超出線圈系統(tǒng)下游第二距離（e）的不希望有的影響。第一與第二抵消器件（26、27）相互不同，并且因此第一與第二距離（d、e）也相互不同。
【專利說(shuō)明】用于生產(chǎn)和包裝線的金屬探測(cè)器
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種用于食品、飲料、藥物、塑料、化學(xué)試劑、包裝及其他工業(yè)的工業(yè)用金屬探測(cè)器。本文中所述類型的金屬探測(cè)器的主要用途是探測(cè)制品、散裝物料或者通常被探測(cè)的任何物品中金屬的存在。所述金屬探測(cè)器廣泛地使用并集成到生產(chǎn)和包裝線中，例如在制造過(guò)程期間通過(guò)來(lái)自破損加工機(jī)械的金屬顆?；蛟?lái)探測(cè)食物的污染，這構(gòu)成食品工業(yè)中的主要安全問(wèn)題?？梢詫⒈景l(fā)明涉及的并且被稱為具有環(huán)繞線圈布置的平衡三線圈系統(tǒng)的普通種類的金屬探測(cè)器描述成端口，被探測(cè)的制品和材料通過(guò)該端口移動(dòng)，例如安放在水平輸送帶上的單獨(dú)包裝穿過(guò)豎直端口，或者通過(guò)豎直管道或者漏斗的自由下落的散裝物料流穿過(guò)水平設(shè)置的端口。
【背景技術(shù)】
[0002]所述端口通常被設(shè)置成具有進(jìn)口孔和出口孔的箱形金屬外殼。金屬探測(cè)器的工作部分是纏繞在由非金屬材料制成的公共中空支架或者線圈架上的三個(gè)電氣線圈的系統(tǒng)，其設(shè)置在所述金屬外殼的內(nèi)部。線圈架的孔的橫截面與進(jìn)、出口孔的尺寸和形狀相匹配并且與其成直線，以使線圈架和進(jìn)、出口孔形成限定出探測(cè)區(qū)的通道，輸送帶或者其他傳輸裝置移動(dòng)被探測(cè)的制品或者材料通過(guò)該探測(cè)區(qū)。該探測(cè)區(qū)通道的橫截面是大致矩形或者圓形的，而且還可能具有任何其他形狀。
[0003]在該類現(xiàn)有技術(shù)的金屬探測(cè)器中，線圈相互精確地平行，并且因此其平行平面垂直于其公共中心軸線。中心線圈(也被稱為發(fā)射線圈、發(fā)射體線圈或者激勵(lì)線圈)連接到高頻振蕩器上并且因此產(chǎn)生主交變電磁場(chǎng)，該交變電磁場(chǎng)進(jìn)而分別在位于中心線圈兩側(cè)的兩個(gè)線圈(也被稱為第一和第二接收線圈)中感應(yīng)出第一和第二交流電壓。第一和第二接收線圈相互串聯(lián)連接，而且其繞組彼此相反地布線。換句話說(shuō)，線圈的導(dǎo)線從第一輸出端子穿過(guò)第一接收線圈的繞組連續(xù)地行進(jìn)，然后以旋轉(zhuǎn)方向的相反方向穿過(guò)第二接收線圈的繞組行進(jìn)至第二輸出端子。另外，第一和第二接收線圈離發(fā)射線圈等距離地設(shè)置。因此，其相對(duì)于發(fā)射線圈的中心平面相互之間處于完全鏡像，并且因此由其通過(guò)主交變電磁場(chǎng)感應(yīng)出的第一和第二交流電壓將相互抵消。換句話說(shuō)，該現(xiàn)有技術(shù)的金屬探測(cè)器的鏡像對(duì)稱具有在第一與第二輸出端子之間獲得的電壓為零的結(jié)果。
[0004]對(duì)稱平衡的線圈布置還可以由按如此方式設(shè)置的多個(gè)發(fā)射線圈和/或多個(gè)接收線圈組成，即，實(shí)現(xiàn)所謂的零位平衡條件。因此，第一接收線圈可以形成一個(gè)或多個(gè)進(jìn)口側(cè)接收線圈，并且第二接收線圈可以形成一個(gè)或多個(gè)出口側(cè)接收線圈。同樣，發(fā)射線圈可以被設(shè)計(jì)成一個(gè)或多個(gè)發(fā)射線圈。
[0005]然而，如果一塊金屬穿過(guò)該線圈布置，則干擾電磁場(chǎng)，而產(chǎn)生了橫跨串聯(lián)連接的接收線圈的輸出端子的動(dòng)態(tài)電壓信號(hào)。
[0006]經(jīng)常被稱為“平衡線圈系統(tǒng)”、“感應(yīng)平衡金屬探測(cè)器”和類似事項(xiàng)的前述構(gòu)想在工業(yè)用金屬探測(cè)器領(lǐng)域通常是已知的。例如，在US4，563，645 (第I欄第11-32行和圖1)以及US7, 061, 236B2 (第I欄第20-41行和圖1及圖2a)中描述并圖解了總原理。[0007]包圍線圈布置的金屬外殼用來(lái)防止空中的電信號(hào)或者附近的金屬物品及機(jī)械裝置不受金屬探測(cè)器的正常功能的干擾。另外，金屬外殼增加了組件的強(qiáng)度和剛度，甚至當(dāng)線圈相互之間并且相對(duì)于外殼的細(xì)微錯(cuò)位可能干擾對(duì)信號(hào)的靈敏度在毫微伏范圍內(nèi)的探測(cè)系統(tǒng)時(shí)其是絕對(duì)重要的。
[0008]涉及前述說(shuō)明的金屬探測(cè)器的問(wèn)題是其對(duì)靜止物的靈敏度，并且更是對(duì)在探測(cè)區(qū)外的區(qū)域中且特別是對(duì)甚至遠(yuǎn)離金屬探測(cè)器的外殼外側(cè)移動(dòng)金屬的靈敏度。這是由于以下事實(shí)，由發(fā)射線圈產(chǎn)生的電磁場(chǎng)從進(jìn)、出口孔的外側(cè)延伸至為探測(cè)區(qū)的長(zhǎng)度的兩、三倍的距離處。如果在該范圍內(nèi)存在靜止或者移動(dòng)的金屬零件，例如輸送機(jī)的支架或者其他部件，則電磁場(chǎng)與其有效范圍內(nèi)的金屬零件的相互作用將產(chǎn)生接收線圈的不希望有的輸出信號(hào)，其與源自穿過(guò)金屬探測(cè)器的待探測(cè)的材料中的金屬雜質(zhì)的實(shí)際探測(cè)信號(hào)相干擾。因此，除非進(jìn)行特殊的設(shè)計(jì)措施，否則必須保持在金屬探測(cè)器的進(jìn)口孔之前和出口孔之后的大空間內(nèi)完全沒(méi)有金屬。必須保持沒(méi)有金屬以便確保平衡線圈金屬探測(cè)器的正確操作的區(qū)域被稱為“不含金屬區(qū)”或者M(jìn)FZ。
[0009]不含金屬區(qū)，特別是其在傳輸路徑的方向上的長(zhǎng)度通常被規(guī)定為用于靜止的金屬和移動(dòng)的金屬的孔高度(或者直徑)h的數(shù)倍。根據(jù)EP0536288B1 (第2欄第6_8行和圖1)，MFZ延伸至靜止金屬的大約1.5Xh并且延伸至移動(dòng)金屬的大約2Xh。在任何給定應(yīng)用中，MFZ將指示金屬探測(cè)器的系統(tǒng)設(shè)計(jì)，具體地說(shuō)，插入空間，即必須容許包裝或者生產(chǎn)線中的空間量以調(diào)整金屬探測(cè)器及其MFZ。
[0010]在其中金屬探測(cè)器的可用空間受限并且因此可能不滿足前述原則的應(yīng)用中，可以通過(guò)將金屬探測(cè)器的靈敏度降低至不再探測(cè)到亂真信號(hào)(spurious signal)的程度來(lái)抑制因周圍的附近區(qū)域中的金屬物品所產(chǎn)生的干擾。當(dāng)然，這將同時(shí)降低了對(duì)于探測(cè)區(qū)內(nèi)的金屬雜質(zhì)的有用探測(cè)靈敏度，即，其將按明顯不合乎需要的方式防礙金屬探測(cè)器。
[0011]在EP0536288B1中提出了減小或甚至消除上文所述種類金屬探測(cè)器中的不含金屬區(qū)的解決方案，其作為參考引入到本發(fā)明中。在EP0536288B1中所述的用于減小或者消除MFZ的可能器件之一是具有金屬凸緣或者卡圈的形式，其可以與金屬探測(cè)器的外殼的進(jìn)、出口孔的邊緣整體成形。所述凸緣或者卡圈起到了發(fā)射線圈的交變電磁場(chǎng)在其中感應(yīng)出電流的短路線圈的作用。感應(yīng)電流進(jìn)而產(chǎn)生副電磁場(chǎng)，該副電磁場(chǎng)在一定條件下可以使超出進(jìn)口線圈之前和出口線圈之后的一定距離的發(fā)射線圈的主電磁場(chǎng)無(wú)效，甚至到完全抑制外殼的孔外的主電磁場(chǎng)的程度，并且將進(jìn)口孔之前和出口孔之后的不含金屬區(qū)實(shí)際上減小為零以提供所謂的“零不含金屬區(qū)”(ZMFZ)。
[0012]因?yàn)槭褂酶鶕?jù)EP0536288B1的ZMFZ構(gòu)想的現(xiàn)有技術(shù)的金屬探測(cè)器可以在全探測(cè)靈敏度下操作，其被設(shè)計(jì)成甚至具有靠近其孔中一個(gè)或兩個(gè)的金屬結(jié)構(gòu)或者機(jī)械裝置，所以對(duì)于其中沒(méi)有足夠可用空間以考慮到早期技術(shù)的金屬探測(cè)器所需的不含金屬區(qū)的裝置是有利的。然而，根據(jù)ZMFZ構(gòu)想的設(shè)有孔凸緣的金屬探測(cè)器的全靈敏度比以所需的不含金屬區(qū)操作的傳統(tǒng)金屬探測(cè)器的全靈敏度低。因此，現(xiàn)有技術(shù)仍然代表一種折中方案:雖然ZMFZ金屬探測(cè)器顯著地減小或者甚至消除了對(duì)加工線上游和/或下游的不含金屬區(qū)的需求，但是其與安裝在允許不含金屬區(qū)的較長(zhǎng)插入空間中的傳統(tǒng)金屬探測(cè)器相比是以有些低的探測(cè)靈敏度為代價(jià)的。
【發(fā)明內(nèi)容】

[0013]因此，本發(fā)明的目的是提供一種改進(jìn)的金屬探測(cè)器，其應(yīng)用ZMFZ構(gòu)想而同時(shí)趨近或者匹配具有標(biāo)準(zhǔn)的不含金屬區(qū)的傳統(tǒng)金屬探測(cè)器的探測(cè)靈敏度。
[0014]通過(guò)一種具有獨(dú)立專利權(quán)利要求中指定特征的金屬探測(cè)器來(lái)滿足該技術(shù)要求。在從屬權(quán)利要求中介紹了本發(fā)明的不同實(shí)施例和細(xì)節(jié)。在進(jìn)一步的權(quán)利要求中介紹了結(jié)合有根據(jù)本發(fā)明的金屬探測(cè)器的典型的生產(chǎn)或者包裝線。
[0015]根據(jù)本發(fā)明的金屬探測(cè)器具有金屬外殼，該金屬外殼具有進(jìn)口孔和出口孔并且在金屬外殼內(nèi)設(shè)置帶有至少一個(gè)發(fā)射線圈和至少一個(gè)第一及至少一個(gè)第二接收線圈的線圈系統(tǒng)。所述進(jìn)、出口孔和第一及第二接收線圈形成了通道狀探測(cè)區(qū)，被探測(cè)的物品穿過(guò)該探測(cè)區(qū)沿通過(guò)進(jìn)口孔進(jìn)入金屬探測(cè)器并且通過(guò)出口孔離開(kāi)金屬探測(cè)器的行進(jìn)路徑移動(dòng)。
[0016]優(yōu)選是，相對(duì)于該行進(jìn)路徑，第一接收線圈或多個(gè)第一接收線圈設(shè)置在發(fā)射線圈前面，并且第二接收線圈或多個(gè)第二接收線圈設(shè)置在發(fā)射線圈或多個(gè)發(fā)射線圈后面。第一和第二接收線圈相互串聯(lián)連接，其具有相等的小數(shù)量的纏繞匝數(shù)(一般為單匝)，并且它們相對(duì)彼此以相反的旋轉(zhuǎn)方向纏繞。
[0017]本發(fā)明的金屬探測(cè)器包括用于抵消超出線圈系統(tǒng)一定距離的主場(chǎng)的器件。由于抵消主場(chǎng)的器件優(yōu)選配置成金屬凸緣或者卡圈的形式，所述金屬凸緣或者卡圈連接至金屬探測(cè)器的金屬外殼的進(jìn)、出口孔的邊緣或與其整體成形。所述凸緣或者卡圈執(zhí)行其中由發(fā)射線圈的主電磁場(chǎng)感應(yīng)出交流電的短路線圈的功能。該感應(yīng)電流進(jìn)而產(chǎn)生出使超出線圈系統(tǒng)一定距離的發(fā)射線圈的主場(chǎng)無(wú)效的副電磁場(chǎng)。
[0018]本發(fā)明的金屬探測(cè)器與現(xiàn)有技術(shù)的區(qū)別在于:用于抵消進(jìn)口孔側(cè)上的主場(chǎng)的器件和用于抵消出口孔側(cè)上的主場(chǎng)的器件不再相等并且相對(duì)于金屬探測(cè)器的中心平面不再相互對(duì)稱。換句話說(shuō)，本發(fā)明的金屬探測(cè)器具有設(shè)置在進(jìn)口孔處的第一抵消器件和設(shè)置在出口孔處的不同的第二抵消器件。第一和第二抵消器件相互不但在它們結(jié)構(gòu)上不同，而且在它們抵消主電磁場(chǎng)的能力上不同。因此，抵消了離進(jìn)口孔超出第一距離和離出口孔超出不同的第二距離的主場(chǎng)。因此，根據(jù)本發(fā)明的金屬探測(cè)器具有第一不含金屬區(qū)和不同的第二不含金屬區(qū)，該第一不含金屬區(qū)相對(duì)于所述被探測(cè)的物品的行進(jìn)路徑在上游從進(jìn)口孔延伸第一距離，該第二不含金屬區(qū)在下游從出口孔處延伸第二距離。
[0019]由于發(fā)生在抵消器件與線圈系統(tǒng)之間的相互感應(yīng)作用，所以不對(duì)稱的抵消器件將在由對(duì)稱的線圈系統(tǒng)的接收線圈所感應(yīng)出的電壓之間引起較大的不平衡。因此，不對(duì)稱的抵消器件的構(gòu)想首先需要在不以其他方式干擾電信號(hào)輸出電路的情況下補(bǔ)償接收線圈之間的該電壓不平衡的解決方案。在本發(fā)明的過(guò)程中，發(fā)現(xiàn)，如果將第一和第二接收線圈配置在相對(duì)于發(fā)射線圈或多個(gè)發(fā)射線圈且相對(duì)于金屬外殼和第一及第二抵消器件不對(duì)稱的位置上，可以解決該問(wèn)題，其中如此確定所述不對(duì)稱的位置，即，當(dāng)所述被探測(cè)的物品中不存在金屬時(shí)第一和第二電壓互相抵消。換句話說(shuō)，所述線圈系統(tǒng)仍是平衡線圈系統(tǒng)，但是缺少在現(xiàn)有技術(shù)的金屬探測(cè)器中線圈系統(tǒng)的幾何對(duì)稱。
[0020]有趣地，根據(jù)本發(fā)明的金屬探測(cè)器與使用根據(jù)EP0536288B1的ZMFZ構(gòu)想的現(xiàn)有技術(shù)的金屬探測(cè)器相比顯示出了提高的靈敏度。
[0021]因?yàn)槠胶饩€圈配置還可以由設(shè)置成實(shí)現(xiàn)所謂的零位平衡條件的多個(gè)發(fā)射線圈和/或多個(gè)接收線圈組成，所以在本發(fā)明構(gòu)想的以下說(shuō)明和權(quán)利要求的上下文中，術(shù)語(yǔ)“發(fā)射線圈”和/或“接收線圈”可能代表“至少一個(gè)發(fā)射線圈”和/或“至少一個(gè)接收線圈”。
[0022]在一示例性實(shí)施例中，發(fā)射線圈或多個(gè)發(fā)射線圈定位在進(jìn)口孔與出口孔之間的中心平面中，并且接收線圈各設(shè)置在離發(fā)射線圈不同距離處，即，相對(duì)于其離所述中心平面的位置不對(duì)稱。備選地，發(fā)射線圈偏離進(jìn)口孔與出口孔之間的中心定位，而接收線圈各設(shè)置在離發(fā)射線圈不同的距離但未必離所述中心平面不同的距離處。
[0023]特別有趣的是其中僅在一個(gè)孔中存在抵消器件的前述構(gòu)想的實(shí)施例，從而僅抵消金屬探測(cè)器的一個(gè)孔側(cè)的主電磁場(chǎng)而保持另一孔側(cè)實(shí)質(zhì)上沒(méi)有減小。在可以稱為一側(cè)ZMFZ設(shè)計(jì)的實(shí)際實(shí)施例中，發(fā)射線圈基本上配置在進(jìn)、出口孔之間的中間，接收線圈緊鄰著沒(méi)有定位抵消器件的孔以便優(yōu)化線圈系統(tǒng)對(duì)被探測(cè)的物品中的金屬雜質(zhì)的靈敏度，并且通過(guò)計(jì)算機(jī)模型或者實(shí)驗(yàn)來(lái)確定緊鄰具有抵消器件的孔的接收線圈的位置，從而電力地平衡線圈系統(tǒng)。
[0024]具有根據(jù)前述說(shuō)明的不對(duì)稱配置的金屬探測(cè)器的選擇具體地提議了其自身用于安裝在包含金屬部件的包裝或生產(chǎn)裝置單元中，所述包裝或生產(chǎn)裝置單元設(shè)置成與金屬探測(cè)器成直線并且直接鄰近進(jìn)口孔或者出口孔并且其中在另一孔外側(cè)延伸的無(wú)金屬區(qū)內(nèi)存在極少的或沒(méi)有金屬部件。在所述狀況下，非常常見(jiàn)的是，可以非常方便地使用根據(jù)本發(fā)明的具有不對(duì)稱的或者完全單側(cè)的抵消器件的金屬探測(cè)器一可以在金屬探測(cè)器所需的那側(cè)上集中抑制主電磁場(chǎng)一并從而減小或消除不含金屬區(qū)，而可以將金屬探測(cè)器的相反側(cè)設(shè)計(jì)成用于優(yōu)化金屬探測(cè)器的總靈敏度的目的。
[0025]在根據(jù)本發(fā)明的金屬探測(cè)器中，探測(cè)區(qū)通常具有從進(jìn)口孔至出口孔的其長(zhǎng)度上具有恒定橫截面的通道形式。探測(cè)區(qū)的該橫截面一般為矩形、正方形、圓形或者橢圓形，但也可以具有實(shí)際應(yīng)用可能所需的任何其他形狀。
[0026]一般在根據(jù)本發(fā)明的金屬探測(cè)器中，第一及第二接收線圈和發(fā)射線圈纏繞在中空管形的公共線圈架上，該線圈架是由電力地絕緣的非金屬材料制成的并且其內(nèi)部順應(yīng)探測(cè)區(qū)的橫截面輪廓。
[0027]線圈架與外殼之間的空間可能容納靈敏的電子電路部件并且一般以封裝化合物填充。封裝化合物具有防止?jié)駳馇秩牒蛯⒕€圈系統(tǒng)和電子元件固定在它們相對(duì)于外殼的位置中的作用。
[0028]根據(jù)本發(fā)明的金屬探測(cè)器一般被用于包裝或者生產(chǎn)線中。因此，本發(fā)明的范圍還包括其中結(jié)合有本文所要求、描述和/或圖解的金屬探測(cè)器的任何包裝或生產(chǎn)線。
[0029]具有如上文所描述的單側(cè)抵消器件的金屬探測(cè)器在工藝線中的安裝是特別有利的，在該工藝線中，包含金屬部件的包裝或生產(chǎn)裝置單元直接設(shè)置在進(jìn)口孔的上游或者出口孔的下游，并且在另一孔外側(cè)延伸的無(wú)金屬區(qū)內(nèi)不存在金屬部件。在所述情況下，單側(cè)抵消器件設(shè)置在最靠近包含金屬部件的裝置單元的孔處。
[0030]在結(jié)合有根據(jù)本發(fā)明的金屬探測(cè)器的典型的包裝或生產(chǎn)線中，如此設(shè)置所述金屬探測(cè)器，即，通道狀探測(cè)區(qū)和被探測(cè)的物品的行進(jìn)路徑沿水平方向定向。所述行進(jìn)路徑可以由現(xiàn)有技術(shù)的輸送帶構(gòu)成。
[0031 ] 在結(jié)合有根據(jù)本發(fā)明的金屬探測(cè)器的另一典型的包裝或生產(chǎn)線中，如此設(shè)置所述金屬探測(cè)器，即，通道狀探測(cè)區(qū)和被探測(cè)的物品的行進(jìn)路徑沿豎直方向定向。所述行進(jìn)路徑可以由被探測(cè)的物品通過(guò)其自由下落的滑槽構(gòu)成。【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0032]下文將通過(guò)實(shí)例并參照示意地簡(jiǎn)化的附圖來(lái)更詳細(xì)地闡明根據(jù)本發(fā)明的金屬探測(cè)器，其中:
[0033]圖1顯示了結(jié)合有根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的金屬探測(cè)器及設(shè)置在金屬探測(cè)器下游的廢品沖壓部(reject punch)的工藝線的側(cè)視圖(A.)和同一工藝線的頂視圖(B.)；
[0034]圖2以剖視圖示意性地圖解了根據(jù)本發(fā)明的金屬探測(cè)器的優(yōu)選實(shí)施例；
[0035]圖3A圖解了僅具有一個(gè)孔凸緣的圖2的金屬探測(cè)器的特例；
[0036]圖3B顯示了具有主電磁場(chǎng)的場(chǎng)線的圖3A的金屬探測(cè)器；以及
[0037]圖4顯示了結(jié)合有根據(jù)本發(fā)明的金屬探測(cè)器和設(shè)置在金屬探測(cè)器下游的廢品沖壓部的工藝線的頂視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0038]圖1顯示了結(jié)合有根據(jù)先前的EP0536288B1的現(xiàn)有技術(shù)的傳統(tǒng)金屬探測(cè)器I的工藝線的側(cè)視圖(A.)和俯視圖(B.)，其用來(lái)探測(cè)在穿過(guò)探測(cè)區(qū)4的輸送帶3上行進(jìn)的物品2中的金屬雜質(zhì)，該探測(cè)區(qū)4從金屬外殼7的進(jìn)口孔5延伸至出口孔6。金屬探測(cè)器I的結(jié)構(gòu)是相對(duì)于對(duì)稱平面SP對(duì)稱的?；旧舷嗟鹊牟缓饘賲^(qū)8和9從進(jìn)口孔5上游延伸至出口孔6下游。工藝線的金屬零件被放置在不含金屬區(qū)8和9外周的外側(cè)。在所圖解的實(shí)例中，這具體涉及帶輥10和廢品沖壓機(jī)構(gòu)11，該廢品沖壓機(jī)構(gòu)11用來(lái)從輸送帶3上推出報(bào)廢(即，含有金屬)的制品，報(bào)廢制品在該處掉落到廢品倉(cāng)12中。
[0039]圖1A和IB中不含金屬區(qū)8和9的基本上相等的長(zhǎng)度d和e是相對(duì)于孔高度h和金屬探測(cè)器外殼的長(zhǎng)度z的實(shí)際比例。這圖解了為不含金屬區(qū)8和9必須制造的相當(dāng)大的空間公差，除非是用于根據(jù)EP0536288B1的ZMFZ-方案的一種選擇，其中同等地取消了金屬探測(cè)器的兩側(cè)上的不含金屬區(qū)。然而，如本文先前闡述的，這是在損失一定程度的對(duì)探測(cè)區(qū)4內(nèi)的金屬雜質(zhì)的探測(cè)靈敏度的情況下得到的。
[0040]圖2描繪了根據(jù)本發(fā)明的、沿中心軸線29處于豎直剖面中的金屬探測(cè)器20的第一實(shí)施例。為了清楚和一致性，按與圖1的金屬探測(cè)器I相同的方向來(lái)顯示出金屬探測(cè)器20，S卩，使其進(jìn)口孔30面向圖2的左側(cè)并且其出口孔31面向圖2的右側(cè)。金屬探測(cè)器20的主要部件是外殼21、具有發(fā)射線圈23及接收線圈24、25的線圈架22和分別位于進(jìn)、出口孔30、31處的孔凸緣26、27。線圈23、24、25被嵌入到線圈架22中，線圈繞組的旋轉(zhuǎn)方向在第一接收線圈24與第二接收線圈25之間被反向。出口孔凸緣27顯著大于進(jìn)口孔凸緣26，圖2的實(shí)施例中的金屬探測(cè)器20舉例說(shuō)明了如本文先前所闡述的不對(duì)稱ZMFZ構(gòu)想。外殼21和孔凸緣26、27必須由金屬制成以便執(zhí)行它們限制由發(fā)射線圈23產(chǎn)生的主磁場(chǎng)的功能。另一方面，線圈架22必須由例如纖維增強(qiáng)塑料的非導(dǎo)電的但是機(jī)械地穩(wěn)定的材料制成。線圈架22、孔凸緣26、27和進(jìn)、出口孔30、31形成了通道狀探測(cè)區(qū)28，被探測(cè)的產(chǎn)品例如在輸送帶上移動(dòng)通過(guò)該探測(cè)區(qū)28，通過(guò)進(jìn)口孔30進(jìn)入金屬探測(cè)器20并且通過(guò)出口孔31離開(kāi)金屬探測(cè)器20。在外殼21、線圈架22和孔凸緣26、27之間包含的內(nèi)部空間中填充有封裝化合物33，所述封裝化合物33用來(lái)防止?jié)駳馇秩氩⑶覍⒕€圈架22、孔凸緣26、27和外殼21牢固地保持在相對(duì)彼此的合適位置上。對(duì)于具有輸送帶的裝置，其中使金屬探測(cè)器20的中心軸線29水平地定向，探測(cè)區(qū)28的橫截面輪廓優(yōu)選是矩形的，并且尺寸h在該情況下表示孔的高度。然而，探測(cè)區(qū)的其他定向及其他輪廓形狀也是可能的，例如，圓形，豎直定向的探測(cè)區(qū)，被探測(cè)的產(chǎn)品穿過(guò)該探測(cè)區(qū)按通過(guò)滑槽自由下落地移動(dòng)。在該情況下，尺寸h將指示孔徑。
[0041]孔凸緣26、27起到了短路線圈的作用，其中通過(guò)發(fā)射線圈23的交變或者脈動(dòng)主電磁場(chǎng)而感應(yīng)電流。根據(jù)楞次定則，感應(yīng)電流總是按與引起其的場(chǎng)變化相反的方向流動(dòng)。因此，由孔凸緣26、27中的感應(yīng)電流產(chǎn)生的副電磁場(chǎng)與主場(chǎng)相反。這特別應(yīng)用于圖2中水平對(duì)準(zhǔn)的孔凸緣26、27的那些部分。取決于孔凸緣26、27的設(shè)計(jì)和尺寸，副電磁場(chǎng)可以減小或甚至完全取消對(duì)于進(jìn)和出口孔30、31外側(cè)的發(fā)射線圈的主電磁場(chǎng)。
[0042]發(fā)射線圈23優(yōu)選定位在探測(cè)區(qū)28的長(zhǎng)度z的中心。第一和第二接收線圈24、25不對(duì)稱地布置，即，分別在離發(fā)射線圈23不同的距離a和b處。同時(shí)有優(yōu)化探測(cè)靈敏度并平衡相對(duì)彼此的接收線圈中的感應(yīng)電壓的目的地來(lái)確定距離a和b，例如，實(shí)驗(yàn)式或計(jì)算機(jī)模型地。
[0043]備選地，發(fā)射線圈23可以偏離進(jìn)口孔30與出口孔31之間的中心定位，而第一接收線圈24和第二接收線圈25各設(shè)置在離發(fā)射線圈23而不必是離探測(cè)區(qū)28的長(zhǎng)度z的所述中心的不同距離a、b處。
[0044]然而，在某些應(yīng)用中，孔凸緣26、27中的一個(gè)或者兩者可以在金屬外殼21外側(cè)延伸(圖中未示出)并且形成了連接至外殼的孔30、31中的一個(gè)的邊緣或與其整體成形的卡圈。
[0045]圖3A和3B圖解了圖2的金屬探測(cè)器的特例，其中已經(jīng)完全省略了孔凸緣中的一個(gè)，在該情況下，省略了進(jìn)口孔30處的凸緣26。并非解決優(yōu)化探測(cè)靈敏度并同時(shí)平衡接收線圈中的感應(yīng)電壓的問(wèn)題，在該情況下可以通過(guò)將第一接收線圈24配置在所選的距離a’處來(lái)使探測(cè)靈敏度最大。然后，第二接收線圈25 (即，具有孔凸緣27的那側(cè)上的線圈)相對(duì)于發(fā)射線圈23定位在距離b’處，其中當(dāng)在探測(cè)區(qū)中未探測(cè)到金屬時(shí)由主電磁場(chǎng)在接收線圈24、25中感應(yīng)出的相應(yīng)電壓相互抵消。距離b’通常小于a’并取決于凸緣的長(zhǎng)度f(wàn)和孔的高度h。
[0046]對(duì)于與圖3A中所示相同的金屬探測(cè)器20，圖3B中圖解了孔凸緣27的副電磁場(chǎng)在發(fā)射線圈23的主電磁場(chǎng)上的作用。對(duì)于出口孔31的外側(cè)，由發(fā)射線圈23產(chǎn)生的主電磁場(chǎng)基本上被孔凸緣27的副電磁場(chǎng)抵消。這是通過(guò)場(chǎng)線35來(lái)圖解性地示出。為了清楚的緣故，未示出進(jìn)入到外殼21的封裝區(qū)段33內(nèi)的場(chǎng)線。
[0047]出口孔31側(cè)上的場(chǎng)線向后偏轉(zhuǎn)進(jìn)探測(cè)區(qū)28中。相反，主場(chǎng)未被探測(cè)區(qū)28的相反側(cè)上的副場(chǎng)對(duì)抗。因此，在出口側(cè)被向后偏轉(zhuǎn)的同一場(chǎng)線35通過(guò)進(jìn)口孔30未被偏轉(zhuǎn)地延伸至金屬探測(cè)器20的外側(cè)。結(jié)果，金屬探測(cè)器20在出口孔31處基本上不需要不含金屬區(qū)，而在進(jìn)口孔30的外側(cè)需要延伸大約遠(yuǎn)達(dá)孔高度h的1.5到2.5倍的標(biāo)準(zhǔn)的不含金屬區(qū)。
[0048]圖4顯示了結(jié)合有圖3A和3B的不對(duì)稱金屬探測(cè)器20的工藝線的頂視圖。為了提供容易的對(duì)比，圖4放置在同一頁(yè)上并且按與圖1相同的比例繪制。雖然金屬探測(cè)器20的進(jìn)口側(cè)上的不含金屬區(qū)48延伸過(guò)與圖1中的金屬探測(cè)器I的對(duì)稱的不含金屬區(qū)8和9相同的第一距離d，但是出口側(cè)上的不含金屬區(qū)49現(xiàn)在顯著更短，延伸至所示實(shí)例中的第二距離e ^ d/4。這使得實(shí)際上緊鄰出口孔31設(shè)置廢品沖壓機(jī)構(gòu)11成為可能，從而根據(jù)本發(fā)明的金屬探測(cè)器20可以安裝在比傳統(tǒng)金屬探測(cè)器I顯著更短的插入空間中。同時(shí)，當(dāng)金屬探測(cè)器20僅在一側(cè)上應(yīng)用ZMFZ構(gòu)想時(shí)，與傳統(tǒng)的金屬探測(cè)器I相比，金屬探測(cè)器20的有效探測(cè)靈敏度未被明顯地減小。
[0049]雖然已經(jīng)通過(guò)具體實(shí)例描述了本發(fā)明，但是很明顯，根據(jù)由本公開(kāi)內(nèi)容提供的資料，本發(fā)明可能體現(xiàn)在具有不對(duì)稱的場(chǎng)抵消器件的數(shù)目眾多的其他變型中，其中金屬探測(cè)器的進(jìn)口側(cè)上的場(chǎng)抵消器件不同于出口側(cè)上的場(chǎng)抵消器件以便實(shí)現(xiàn)用于給定裝置所需的相應(yīng)不含金屬區(qū)的減小，而保持金屬探測(cè)器的最高可能的有用靈敏度。此外，與為感應(yīng)電流的被動(dòng)載體的金屬凸緣或者卡圈不同，用于抵消主場(chǎng)的器件還可以是由電子電路主動(dòng)激勵(lì)的線圈。
[0050]本發(fā)明進(jìn)一步的實(shí)施例可以想象使用由不對(duì)稱地設(shè)置的多個(gè)發(fā)射線圈和/或多個(gè)接收線圈組成的其他現(xiàn)有技術(shù)的對(duì)稱平衡線圈布置，以實(shí)現(xiàn)不對(duì)稱ZMFZ結(jié)構(gòu)內(nèi)部的零位平衡條件和優(yōu)化的靈敏度。
[0051]很清楚，所有所述變型和組合被認(rèn)為是在本發(fā)明的范圍內(nèi)。
[0052]附圖標(biāo)記列表
[0053]I, 20金屬探測(cè)器
[0054]2被探測(cè)的物品
[0055]3輸送帶
[0056]4，28 探測(cè)區(qū)
[0057]5，30 進(jìn)口孔
[0058]6，31 出口孔
[0059]7，21 外殼
[0060]8，9，48，49不含金屬區(qū)
[0061]10 帶輥
[0062]11廢品沖壓機(jī)構(gòu)
[0063]12廢品倉(cāng)
[0064]13行進(jìn)方向
[0065]22線圈架
[0066]23發(fā)射線圈
[0067]24第一接收線圈
[0068]25第二接收線圈
[0069]26，27 孔凸緣
[0070]29中心軸線
[0071]33封裝化合物
[0072]35 場(chǎng)線
[0073]SP對(duì)稱平面
[0074]d, e不含金屬區(qū)的長(zhǎng)度
[0075]h孔高度(直徑)
[0076]z外殼的長(zhǎng)度
[0077]a, b, a’，b’接收線圈24、25離發(fā)射線圈23的相應(yīng)距離[0078]f凸緣長(zhǎng)度
【權(quán)利要求】
1.金屬探測(cè)器(20)，包括具有進(jìn)口孔(30)和出口孔(31)的金屬外殼(21)，還包括位于所述外殼(21)內(nèi)部的線圈系統(tǒng)，該線圈系統(tǒng)具有至少一個(gè)發(fā)射線圈(23)和至少一個(gè)第一接收線圈及至少一個(gè)第二接收線圈(24、25)，以界定探測(cè)區(qū)(28)，該探測(cè)區(qū)(28)在所述進(jìn)和出口孔(30、31)之間延伸，并且被探測(cè)的物品(2 )通過(guò)所述進(jìn)口孔(30 )進(jìn)入所述金屬探測(cè)器(20 )并通過(guò)所述出口孔(31)離開(kāi)所述金屬探測(cè)器(20 )以穿過(guò)該探測(cè)區(qū)移動(dòng)，其中所述至少一個(gè)發(fā)射線圈(23)當(dāng)被交變電流激勵(lì)時(shí)產(chǎn)生主電磁場(chǎng)，該主電磁場(chǎng)進(jìn)而在所述至少一個(gè)第一接收線圈(24)中感應(yīng)第一電壓并且在所述至少一個(gè)第二接收線圈(25)中感應(yīng)第二電壓，其中所述金屬探測(cè)器(20)還包括第一抵消器件(26)和第二抵消器件(27)中的至少一個(gè)，該第一抵消器件(26)設(shè)置在所述進(jìn)口孔(30)處以抵消離所述線圈系統(tǒng)超出第一距離(d)的主場(chǎng)和/或該第二抵消器件(27)設(shè)置在所述出口孔(31)處以抵消離所述線圈系統(tǒng)超出第二距離(e)的主場(chǎng)，其特征在于，在存在第一抵消器件(26)和第二抵消器件(27)的情況下，所述第一與第二抵消器件(26、27)相互不同并且該第一距離(d)與該第二距離(e)也相互不同，并且當(dāng)所述被探測(cè)的物品(2)中不存在金屬時(shí)該第一電壓與該第二電壓相互處于平衡狀態(tài)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬探測(cè)器(20)，其特征在于，該第一和第二接收線圈(24、25)相對(duì)于所述發(fā)射線圈(23)設(shè)置在不對(duì)稱的位置，其中相對(duì)于所述行進(jìn)方向(13)，該第一接收線圈(24)定位在所述發(fā)射線圈(23)前面的第一線圈距離(a)處，并且該第二接收線圈(25)定位在所述發(fā)射線圈(23)后面的第二、不同的線圈距離(b)處。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的金屬探測(cè)器(20)，其特征在于，該第一和第二接收線圈(24、25)相互串聯(lián)連接，但是它們的繞組按相對(duì)彼此相反的旋轉(zhuǎn)方向地布線。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的金屬探測(cè)器(20)，其特征在于，所述發(fā)射線圈(23)定位在所述進(jìn)口孔(30)與出口孔(31)之間的中心平面中。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的金屬探測(cè)器(20)，其特征在于，所述發(fā)射線圈(23)偏離所述進(jìn)口孔(30)與出口孔(31)之間的中心定位。`
6.根據(jù)權(quán)利要求1到5中一項(xiàng)所述的金屬探測(cè)器(20)，其中僅所述第一和第二抵消器件(26、27)中的一個(gè)或另一個(gè)分別存在于所述進(jìn)口孔(30)處或者出口孔(31)處，以抵消在所述一個(gè)孔的方向上離所述線圈系統(tǒng)超出一距離的主電磁場(chǎng)，并且其中所述主電磁場(chǎng)在另一孔側(cè)處實(shí)質(zhì)上沒(méi)有減小。
7.根據(jù)權(quán)利要求1到6中一項(xiàng)所述的金屬探測(cè)器(20)，其中相對(duì)于所述被探測(cè)的物品(2)的行進(jìn)方向(13)，所述第一距離(d)在所述金屬探測(cè)器(20)的上游界定第一不含金屬區(qū)，并且所述第二距離(e )在所述金屬探測(cè)器(20 )的下游界定第二不含金屬區(qū)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1到7中一項(xiàng)所述的金屬探測(cè)器(20)，其特征在于，所述第一和第二抵消器件(26、27)中的每個(gè)包括連接至所述外殼孔(30、31)中一個(gè)的邊緣上或者與其整體成形的金屬凸緣或者卡圈，所述凸緣或者卡圈起到了短路線圈的作用，在該短路線圈中由所述發(fā)射線圈(23)的主電磁場(chǎng)感應(yīng)出電流，所述感應(yīng)電流進(jìn)而產(chǎn)生了副電磁場(chǎng)，該副電磁場(chǎng)使超出所述第一和第二距離(d、e)的所述發(fā)射線圈的主場(chǎng)無(wú)效。
9.根據(jù)權(quán)利要求6到8中一項(xiàng)所述的金屬探測(cè)器(20)，其中所述發(fā)射線圈(23)放置在所述進(jìn)和出口孔(30、31)之間的中間位置處，緊鄰沒(méi)有抵消器件的孔的接收線圈放置在第一位置處并且緊鄰具有抵消器件的孔的接收線圈放置第二位置處，在該第一位置處使所述線圈系統(tǒng)對(duì)被探測(cè)的物品(2)中的金屬雜質(zhì)的靈敏度最佳，在該第二位置處當(dāng)所述被探測(cè)的物品中不存在金屬時(shí)該第一與第二電壓相互抵消。
10.根據(jù)權(quán)利要求1到9中一項(xiàng)所述的金屬探測(cè)器(20)，其中所述探測(cè)區(qū)(28)具有通道形式，該通道在從所述進(jìn)口孔(30)至出口孔(31)的其長(zhǎng)度(z)上具有恒定的橫截面輪廓，其中所述探測(cè)區(qū)(28)的橫截面輪廓具有矩形、正方形、圓形或者橢圓形狀。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的金屬探測(cè)器(20)，其特征在于，該第一及第二接收線圈(24,25)和發(fā)射線圈(23)纏繞在中空管形狀的公共線圈架(22)上，所述線圈架是由電力地絕緣的非金屬材料制成的并且其內(nèi)部順應(yīng)所述探測(cè)區(qū)(28 )的橫截面輪廓。
12.金屬探測(cè)器(20)，包括具有進(jìn)口孔(30)和出口孔(31)的金屬外殼(21)，還包括位于所述外殼(21)內(nèi)部的線圈系統(tǒng)，該線圈系統(tǒng)具有至少一個(gè)發(fā)射線圈(23)和至少一個(gè)第一接收線圈及至少一個(gè)第二接收線圈(24、25)，以界定探測(cè)區(qū)(28)，該探測(cè)區(qū)(28)在所述進(jìn)和出口孔(30、31)之間延伸，并且被探測(cè)的物品(2 )通過(guò)所述進(jìn)口孔(30 )進(jìn)入所述金屬探測(cè)器(20)并通過(guò)所述出口孔(31)離開(kāi)所述金屬探測(cè)器(20)以穿過(guò)該探測(cè)區(qū)移動(dòng)，其中所述至少一個(gè)發(fā)射線圈(23)當(dāng)被交變電流激勵(lì)時(shí)產(chǎn)生主電磁場(chǎng)，該主電磁場(chǎng)進(jìn)而在所述至少一個(gè)第一接收線圈(24)中感應(yīng)第一電壓并且在所述至少一個(gè)第二接收線圈(25)中感應(yīng)第二電壓，其中所述金屬探測(cè)器(20)還包括第一抵消器件(26)和第二抵消器件(27)中的至少一個(gè)，該第一抵消器件(26)設(shè)置在所述進(jìn)口孔(30)處以抵消離所述線圈系統(tǒng)超出第一距離(d)的主場(chǎng)和/或該第二抵消器件(27)設(shè)置在所述出口孔(31)處以抵消離所述線圈系統(tǒng)超出第二距離(e)的主場(chǎng)，所述第一距離(d)在所述金屬探測(cè)器(20)的上游界定第一不含金屬區(qū)，并且所述第二距離(e )在所述金屬探測(cè)器(20 )的下游界定第二不含金屬區(qū)，其特征在于，所述第一不含金屬區(qū)與所述第二不含金屬區(qū)相互不同，其中當(dāng)在所述被探測(cè)的物品(2)中不存在金屬時(shí)所述至少一個(gè)第一接收線圈(24)中的第一電壓與所述至少一個(gè)第二接收線圈(25)中的第二電壓相互處于平衡狀態(tài)。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的金屬探測(cè)器(20)，其特征在于，該第一和第二接收線圈(24、25)相對(duì)于所述發(fā)射線圈(23)設(shè)置在不對(duì)稱的位置，其中相對(duì)于所述行進(jìn)方向(13)，該第一接收線圈(24)定位在所述發(fā)射線圈(23)前面的第一線圈距離(a)處，并且該第二接收線圈(25)定位在所述發(fā)射線圈(23)后面的第二、不同的線圈距離(b)處。
14.根據(jù)權(quán)利要求12或13所述的金屬探測(cè)器(130)，其特征在于，該第一和第二接收線圈(24、25)相互串聯(lián)連接，但是它們的繞組按相對(duì)彼此相反的旋轉(zhuǎn)方向地布線。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的金屬探測(cè)器(130)，其特征在于，所述發(fā)射線圈(23)定位在所述進(jìn)口孔(30)與出口孔(31)之間的中心平面中。
16.根據(jù)權(quán)利要求13所述的金屬探測(cè)器(130)，其特征在于，所述發(fā)射線圈(23)偏離所述進(jìn)口孔(30)與出口孔(31)之間的中心定位。
17.根據(jù)權(quán)利要求12到16中一項(xiàng)所述的金屬探測(cè)器(20)，其中僅所述第一和第二抵消器件(26、27)中的一個(gè)或另一個(gè)分別存在于所述進(jìn)口孔(30)處或者出口孔(31)處，以抵消在所述一個(gè)孔的方向上離所述線圈系統(tǒng)超出一距離的主電磁場(chǎng)，并且其中所述主電磁場(chǎng)在另一孔側(cè)處實(shí)質(zhì)上沒(méi)有減小。
18.根據(jù)權(quán)利要求12到17中一項(xiàng)所述的金屬探測(cè)器(20)，其特征在于，所述第一和第二抵消器件(26、27)中的每個(gè)包括連接至所述外殼孔(30、31)中一個(gè)的邊緣上或者與其整體成形的金屬凸緣或者卡圈，所述凸緣或者卡圈起到了短路線圈的作用，在該短路線圈中由所述發(fā)射線圈(23)的主電磁場(chǎng)感應(yīng)出電流，所述感應(yīng)電流進(jìn)而產(chǎn)生了副電磁場(chǎng)，該副電磁場(chǎng)使超出所述第一和第二距離(d、e)的所述發(fā)射線圈的主場(chǎng)無(wú)效。
19.根據(jù)權(quán)利要求17或18中一項(xiàng)所述的金屬探測(cè)器(20)，其中所述發(fā)射線圈(23)放置在所述進(jìn)和出口孔(30、31)之間的中間位置處，緊鄰沒(méi)有抵消器件的孔的接收線圈放置在第一位置處并且緊鄰具有抵消器件的孔的接收線圈放置第二位置處，在該第一位置處使所述線圈系統(tǒng)對(duì)被探測(cè)的物品(2)中的金屬雜質(zhì)的靈敏度最佳，在該第二位置處當(dāng)所述被探測(cè)的物品中不存在金屬時(shí)該第一與第二電壓相互抵消。
20.根據(jù)權(quán)利要求12到19中一項(xiàng)所述的金屬探測(cè)器(20)，其中所述探測(cè)區(qū)(28)具有通道形式，該通道在從所述進(jìn)口孔(30 )至出口孔(31)的其長(zhǎng)度(z )上具有恒定的橫截面輪廓，其中所述探測(cè)區(qū)(28)的橫截面輪廓具有矩形、正方形、圓形或者橢圓形狀。
21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的金屬探測(cè)器(20)，其特征在于，該第一及第二接收線圈(24,25)和發(fā)射線圈(23)纏繞在中空管形狀的公共線圈架(22)上，所述線圈架是由電力地絕緣的非金屬材料制成的并且其內(nèi)部順應(yīng)所述探測(cè)區(qū)(28)的橫截面輪廓。
22.包括根據(jù)權(quán)利要求1到21中至少一項(xiàng)的金屬探測(cè)器(20)的包裝或者生產(chǎn)線。
23.包括根據(jù)權(quán)利要求6到11或者17到21中一項(xiàng)的金屬探測(cè)器(20)的包裝或者生產(chǎn)線，其中包含金屬部件的包裝或者生產(chǎn)裝置單元(11)被設(shè)置成與所述金屬探測(cè)器(20)成直線并鄰近 所述進(jìn)和出口孔(30、31)中的一個(gè)，并且其中在所述孔中的另一個(gè)外側(cè)延伸的不含金屬區(qū)內(nèi)不存在金屬部件，其特征在于，在最靠近包含金屬部件的所述裝置單元(11)的孔處設(shè)置一個(gè)抵消器件(27 )。
24.根據(jù)權(quán)利要求22或23所述的包裝或者生產(chǎn)線，其中所述金屬探測(cè)器(20)被定向成，所述被探測(cè)的物品的行進(jìn)路徑水平地穿過(guò)所述金屬探測(cè)器(20)，其中所述行進(jìn)路徑優(yōu)選包括輸送帶(3)。
25.根據(jù)權(quán)利要求22或23所述的包裝或者生產(chǎn)線，其中所述金屬探測(cè)器(20)被定向成，所述被探測(cè)的物品的行進(jìn)路徑豎直地穿過(guò)所述金屬探測(cè)器(20 )。
26.根據(jù)權(quán)利要求25所述的包裝或者生產(chǎn)線，其中所述行進(jìn)路徑包括滑槽，所述被探測(cè)的物品通過(guò)該滑槽自由下落地移動(dòng)。
【文檔編號(hào)】G01R33/025GK103733090SQ201280033781
【公開(kāi)日】2014年4月16日 申請(qǐng)日期:2012年7月6日 優(yōu)先權(quán)日:2011年7月8日
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