專利名稱：熒光x射線分析裝置和熒光x射線分析方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于對試樣表面進(jìn)行熒光X射線分析等的熒光X射線分析裝置和熒光 X射線分析方法。
背景技術(shù)：
熒光X射線分析是使用X射線源出射的X射線照射試樣，試樣放出的特征X射線 (熒光X射線)由X射線檢測器檢測出來，從其能量中得到譜線，從而對試樣進(jìn)行定性分析或定量分析的方法。由于熒光X射線分析不破壞試樣且能夠迅速分析，所以廣泛應(yīng)用于工程/質(zhì)量管理等。近年來，實現(xiàn)了熒光X射線分析的高精度化/高靈敏度化，從而微量測定變?yōu)榭赡?，進(jìn)而特別期待其作為對材料或復(fù)合電子部件等中含有的有害物質(zhì)進(jìn)行檢測的分析手法而普及。然而，現(xiàn)有的熒光X射線分析中，為使試樣和X射線源的距離(ζ方向的高度)為一定，需要邊光學(xué)觀察試樣邊手動對準(zhǔn)焦點(高度調(diào)整)，所以作業(yè)效率低下。此處，公開了一種使X射線源與光學(xué)系統(tǒng)同軸，利用光學(xué)系統(tǒng)自動進(jìn)行對試樣的焦點對準(zhǔn)的技術(shù)(專利文獻(xiàn)1)。而且，現(xiàn)有的熒光X射線分析中，需要邊光學(xué)觀察裝置內(nèi)的試樣邊在x-y方向使之移動而位置對準(zhǔn)X射線照射位置，會導(dǎo)致作業(yè)效率下降。此處，公開了一種用靠近X射線源的激光器發(fā)出的激光照射試樣，能以激光斑點肉眼觀察X射線照射位置，從而容易進(jìn)行位置對準(zhǔn)(專利文獻(xiàn)2)。專利文獻(xiàn)1 日本特開平10-274518號公報(圖1的符號39)專利文獻(xiàn)2 日本特開2006-329944號公報(圖1的符號9)

發(fā)明內(nèi)容
但是，假設(shè)使用專利文獻(xiàn)2記載的技術(shù)時，存在的問題是若在光學(xué)觀察試樣時照射激光，則變?yōu)檩x點會妨礙觀察或使作業(yè)人員的眼睛疲勞。而且，此時手動關(guān)閉激光的作業(yè)繁雜，導(dǎo)致作業(yè)效率下降。另一方面，利用自動焦點裝置調(diào)整試樣到X射線源的距離的情況下，產(chǎn)生由于焦點深度的關(guān)系而使調(diào)整范圍狹小(IOmm量級)的問題。本發(fā)明為解決上述課題構(gòu)思而成，其目的是提供作業(yè)效率優(yōu)異且能夠安全地進(jìn)行試樣測定的熒光X射線分析裝置和熒光X射線分析方法。為達(dá)成上述目的，本發(fā)明的熒光X射線分析裝置，其特征在于，包括放射線源，對試樣上的照射點照射放射線；X射線檢測器，檢測所述試樣放出的特征X射線和散射X射線，且輸出含有該特征X射線和散射X射線的能量信息的信號；分析器，分析所述信號；試樣臺，放置所述試樣；移動機(jī)構(gòu)，能夠?qū)⑺鲈嚇优_上的所述試樣相對于所述放射線源和所述X射線檢測器移動；殼體，至少收容所述放射線源、所述試樣臺以及所述移動機(jī)構(gòu)；門，開關(guān)用于所述試樣進(jìn)出所述殼體內(nèi)外的開口 ；高度測定機(jī)構(gòu)，能夠測定所述試樣上的所述照射點的高度；移動機(jī)構(gòu)控制部，基于測定的所述照射點的高度使所述移動機(jī)構(gòu)工作，調(diào)整所述試樣到所述放射線源及所述X射線檢測器的距離；激光部，以可見光激光照射所述照射點；門開關(guān)探測部，探測所述門的開關(guān)狀態(tài)；激光部工作控制部，當(dāng)利用所述門開關(guān)探測部探測到所述門為開狀態(tài)時，使所述激光部工作以照射所述可見光激光，且當(dāng)利用所述門開關(guān)探測部探測到所述門為關(guān)狀態(tài)時，停止所述激光部；以及高度測定機(jī)構(gòu)工作控制部，當(dāng)利用所述門開關(guān)探測部探測到所述門為開狀態(tài)時，使所述高度測定機(jī)構(gòu)工作以測定所述照射點的高度。這樣，在開門且殼體內(nèi)的試樣臺放置有試樣時，照射可見光激光，所以照射點成為激光斑點而能用肉眼確認(rèn)，容易進(jìn)行試樣的定位。然后，在進(jìn)行試樣的定位后，停止可見光激光的照射，所以在定位后觀察試樣時，可見光激光的輝點不會進(jìn)入作業(yè)人員的眼中，不會妨礙觀察或使作業(yè)人員的眼睛疲勞。所述激光部也可兼用作所述高度測定機(jī)構(gòu)。這樣，如果利用照射的激光測定照射點的高度，則在照射用于決定位置的激光斑點的同時能夠取得高度信息，從而不需要手動調(diào)整試樣到X射線源的距離，提高作業(yè)效率。 而且，由于以1個激光部進(jìn)行激光斑點的照射和高度信息的測定即可，所以裝置緊湊且簡易的同時，擴(kuò)大試樣到X射線源的距離的調(diào)整范圍。所述激光部工作控制部，也可在利用所述門開關(guān)探測部探測到所述門為關(guān)狀態(tài)時，且探測到所述移動機(jī)構(gòu)工作時，使所述激光部工作以利用所述可見光激光測定所述照射點的高度；并且當(dāng)探測到所述移動機(jī)構(gòu)的工作停止時，停止所述激光部。依據(jù)該構(gòu)成，試樣在X、Y、Z至少任一方向上移動時，重新調(diào)整試樣到放射線源和X 射線檢測器的距離，因此，例如像有凹凸的試樣那樣，試樣移動而僅僅稍許改變照射點引起上述距離或焦點變動的情況下，也能自動調(diào)整距離或焦點，能夠精度良好地進(jìn)行X射線分析。所述激光部也可包括照射所述可見光激光的第一激光部以及照射所述可見光以外的非可見光激光的第二激光部；所述第二激光部兼用作所述高度測定機(jī)構(gòu)，并且所述激光部工作控制部在利用所述門開關(guān)探測部探測到所述門為開狀態(tài)時，使所述第一激光部工作以照射所述可見光激光，且在利用所述門開關(guān)探測部探測到所述門為關(guān)狀態(tài)時，停止所
述第一激光部。依據(jù)該構(gòu)成，當(dāng)門打開時，照射可見光激光，所以照射點成為激光斑點而能夠用肉眼確認(rèn)，容易進(jìn)行試樣的定位。另一方面，在定位后，關(guān)閉門觀察試樣時，用作業(yè)人員看不到的非可見光激光進(jìn)行高度測定，所以不會妨礙觀察或使作業(yè)人員的眼睛疲勞地進(jìn)行高度測定。當(dāng)所述照射點的高度成為既定閾值以下時，所述移動機(jī)構(gòu)控制部也可停止所述移動機(jī)構(gòu)。依據(jù)該構(gòu)成，當(dāng)照射點(即試樣的表面)接近熒光X射線分析裝置的各種構(gòu)成(放射線源、X射線檢測器等)時，停止試樣的移動，所以能防止試樣與熒光X射線分析裝置的各種構(gòu)成接觸、沖撞的不良現(xiàn)象。也可使所述放射線源放射的所述放射線的光軸與所述激光部的光軸為同軸，對所述試樣照射所述放射線以及所述激光部出射的可見光激光。
依據(jù)該構(gòu)成，即使放射線的照射位置從標(biāo)準(zhǔn)位置向照射點的高度發(fā)生變化，激光部的光軸也不變，所以能夠?qū)⒂糜谖恢脹Q定的激光斑點精度良好地照射到照射點。本發(fā)明的熒光X射線分析裝置還可包括觀察系統(tǒng)，觀察所述試樣；焦點切換驅(qū)動機(jī)構(gòu)，切換所述觀察系統(tǒng)的焦點；以及觀察系統(tǒng)焦點控制部，基于所述高度測定機(jī)構(gòu)測定的所述照射點的高度，使所述焦點切換驅(qū)動機(jī)構(gòu)工作，從而調(diào)整所述觀察系統(tǒng)的焦點位置。依據(jù)該構(gòu)成，基于照射點的高度自動調(diào)整試樣的移動等引起的觀察系統(tǒng)的焦點位置的變動，所以不需要作業(yè)人員手動對觀察系統(tǒng)進(jìn)行焦點調(diào)整，提高作業(yè)效率。也可使所述放射線源放射的所述放射線的光軸、所述觀察系統(tǒng)的光軸以及所述激光部的光軸為同軸，對所述試樣照射所述放射線與所述激光部出射的可見光激光。依據(jù)該構(gòu)成，即使放射線的照射位置從標(biāo)準(zhǔn)位置向照射點的高度發(fā)生變化，激光部的光軸也不變，所以能夠?qū)⒂糜诙ㄎ坏募す獍唿c精度良好地照射到照射點。而且，即使放射線的照射位置從標(biāo)準(zhǔn)位置向照射點的高度發(fā)生變化，觀察系統(tǒng)的光軸也不變，所以容易觀察試樣。本發(fā)明的熒光X射線分析裝置中，還可具有反射鏡，用于將所述激光部的光軸同軸地置于所述放射線的光軸上；光束分離器(beam splitter)，用于將所述放射線的光軸、 所述激光部的光軸以及所述觀察系統(tǒng)的光軸置于同軸。依據(jù)該構(gòu)成，熒光X射線分析裝置變得緊湊且簡易。所述高度測定機(jī)構(gòu)也可在所述試樣臺上放置有所述試樣的狀態(tài)下能夠測定所述照射點的高度。依據(jù)該構(gòu)成，在試樣臺上放置有試樣的狀態(tài)下，能夠測定照射點的高度，與實際的放射線的照射位置無偏離。本發(fā)明的熒光X射線檢測方法，其特征在于，用于包括以下部分的熒光X射線分析裝置試樣臺，放置試樣；移動機(jī)構(gòu)，能夠?qū)⒃撛嚇优_上的所述試樣相對于放射線源和X射線檢測器移動；殼體，至少收容所述放射線源、所述試樣臺以及所述移動機(jī)構(gòu)；以及門，開關(guān)用于所述試樣進(jìn)出所述殼體內(nèi)外的開口，利用所述放射線源對試樣上的照射點照射放射線，利用所述X射線檢測器檢測出所述試樣放出的特征X射線和散射X射線且輸出含有該特征X射線和散射X射線的能量信息的信號，并且分析所述信號，所述熒光X射線檢測方法，其中包括激光部工作控制步驟，當(dāng)探測到所述門為開狀態(tài)時，照射所述可見光激光，以及當(dāng)探測到所述門為關(guān)狀態(tài)時，停止照射所述激光可見光激光；照射點高度測定步驟，當(dāng)探測到所述門為開狀態(tài)時，測定所述照射點的高度；移動機(jī)構(gòu)控制步驟，基于測定的所述照射點的高度，使所述移動機(jī)構(gòu)工作，調(diào)整所述試樣到所述放射線源及所述X射線檢測器的距罔。本發(fā)明的熒光X射線檢測方法還可包括觀察系統(tǒng)焦點調(diào)整步驟，基于測定的所述照射點的高度對觀察所述試樣的觀察系統(tǒng)的焦點位置進(jìn)行調(diào)整。依據(jù)本發(fā)明，在熒光X射線分析中，作業(yè)效率高，且能夠安全地進(jìn)行試樣測定。


圖1是示出本發(fā)明第一實施方式的熒光X射線分析裝置的構(gòu)成的方框圖。圖2是示出本發(fā)明的放射線源、觀察系統(tǒng)以及激光部的配置的立體圖。
圖3是示出試樣相對于放射線源和X射線檢測器的移動方式的圖。圖4是示出調(diào)整觀察系統(tǒng)的焦點位置的方式的圖。圖5是示出利用控制計算機(jī)進(jìn)行位置對準(zhǔn)和距離測定流程的圖。圖6是示出負(fù)責(zé)激光部的工作和停止的控制電路基板的邏輯構(gòu)成的方框圖。圖7是示出本發(fā)明第二實施方式的熒光X射線分析裝置的構(gòu)成的方框圖。圖8是示出第二實施方式中利用控制計算機(jī)進(jìn)行位置對準(zhǔn)和距離測定流程的圖。圖9是示出第二實施方式中負(fù)責(zé)第一和第二激光部的工作和停止的控制電路基板的邏輯構(gòu)成的方框圖。
具體實施例方式以下，參考

本發(fā)明的實施方式。且以下說明使用的各附圖中，為將各構(gòu)成部分做成能分辨的大小，根據(jù)必要適當(dāng)?shù)淖兏s尺。圖1是示出本發(fā)明第一實施方式的熒光X射線分析裝置100的構(gòu)成的方框圖。熒光X射線分析裝置100例如為能量分散型熒光X射線分析裝置，包括承放試樣S的試樣臺 l、x射線真空管(放射線源)2、x射線檢測器3、分析器4、觀察系統(tǒng)5、焦點切換驅(qū)動機(jī)構(gòu)6、 激光部7、測定頭部移動機(jī)構(gòu)8、控制計算機(jī)(相當(dāng)于權(quán)利要求中的“移動機(jī)構(gòu)控制部”、“激光部工作控制部”、“高度測定機(jī)構(gòu)工作控制部”、“觀察系統(tǒng)焦點控制部”)9。而且，熒光X射線分析裝置100的各構(gòu)成部分(除控制計算機(jī)9以外)做成防止 X射線泄漏到裝置外部的結(jié)構(gòu)。然后，殼體10設(shè)有開口 10a，以使試樣S通過該開口 IOa 進(jìn)出殼體10內(nèi)外。開口 IOa配置有門20來開關(guān)開口 10a，同時，由門開關(guān)傳感器等構(gòu)成的門開關(guān)探測部21探測門20的開關(guān)狀態(tài)。門開關(guān)探測部21與控制計算機(jī)9相連接，門開關(guān)探測部21的探測信息傳送給控制計算機(jī)9。作為門開關(guān)傳感器，能夠使用顯微傳感器 (photomicrosensor)。另外，本發(fā)明中，既可以做成能夠?qū)晒釾射線分析裝置100的內(nèi)部減壓的構(gòu)成，也可以不調(diào)整壓力。X射線真空管2位于試樣臺1的相對上方，對試樣S上的任意照射點Pl照射1次X 射線(放射線)。關(guān)于X射線真空管2，例如從真空管內(nèi)的燈絲(陽極)產(chǎn)生的熱電子在燈絲(陽極)與靶(陰極)之間的施加電壓作用下被加速，以與靶(W(鎢)、Mo (鉬)、Cr (鉻) 等)相碰撞而產(chǎn)生的X射線為1次X射線XI，從鈹箔等的窗中出射。X射線檢測器3位于試樣臺1的相對上方，且與X射線真空管2分開。X射線檢測器3檢測試樣S放出的特征X射線和散射X射線，輸出含有此特征X射線和散射X射線的能量信息的信號。X射線檢測器3例如具有設(shè)置于X射線入射窗的半導(dǎo)體檢測元件(例如， 作為Pin構(gòu)造的二極管的Si (硅)元件)(圖示略)，入射1個X射線光子，即可產(chǎn)生與此1 個X射線光子對應(yīng)的電流脈沖。此電流脈沖的瞬間電流值與入射的X射線能量成正比。此外，X射線檢測器3設(shè)定為將半導(dǎo)體檢測元件產(chǎn)生的電流脈沖變換為電壓脈沖并放大，且輸出為信號。分析器4與X射線檢測器3相連接，分析上述信號。分析器4例如為從所述信號得到電壓脈沖的峰值，生成能譜的峰值分析器(多路分析儀multi-channel analysor) 0觀察系統(tǒng)5具有光學(xué)顯微鏡等，是能夠?qū)⒂脽襞莸鹊恼彰餮b置(未圖示)照明的試樣S的圖像作為圖像數(shù)據(jù)顯示的光學(xué)系統(tǒng)。觀察系統(tǒng)5位于試樣臺1的相對上方，且與X射線真空管2分開。觀察系統(tǒng)5例如由反射鏡5a、光束分離器5b、以及能夠通過光束分離器5b分辨并攝像試樣S的放大圖像等的光學(xué)顯微鏡和觀察用相機(jī)等構(gòu)成。然后，試樣S 的圖像通過1次X射線Xl的光軸在光束分離器5b向橫向反射，然后在反射鏡5a向上方反射，從而從下方入射到光學(xué)顯微鏡和觀察用相機(jī)。焦點切換驅(qū)動機(jī)構(gòu)6能夠?qū)⒂^察系統(tǒng)5沿著其光軸方向移動，從而切換焦點位置。 焦點切換驅(qū)動機(jī)構(gòu)6對觀察系統(tǒng)5的移動能夠通過使用與其相連接或內(nèi)置的球頭螺釘或帶子等傳動裝置驅(qū)動步進(jìn)馬達(dá)等來進(jìn)行。激光部7位于試樣臺1的相對上方、且在X射線真空管2的相對下方與X射線真空管2分開配置。激光部7能夠橫向照射可見光激光，能夠測定試樣S上的任意照射點Pl 的試樣高度T。如圖2所示，激光部7例如包括由半導(dǎo)體激光元件等構(gòu)成的發(fā)光部7a、CCD、 由光位置檢測元件(PSD)或線性圖像傳感器(linear image sensor)等構(gòu)成的受光部7b、 聚光透鏡和受光透鏡(未圖示)，能夠使用應(yīng)用三角測量的反射型傳感器(三角測距方式的激光位移傳感器)。激光位移傳感器一般在市場上有銷售。此外，“可見光”為JIS(日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn))-Z8120中規(guī)定的短波長一側(cè)為360 400nm，長波長一側(cè)為760 830的波長的光。此處，如圖2所示，觀察系統(tǒng)5的光軸設(shè)定為在反射鏡5a和光束分離器5b反射， 而與1次X射線Xl的光軸同軸。同樣地，1次激光Ll的光軸設(shè)定為在反射鏡5c向下方反射，而與1次X射線Xl的光軸同軸。即，為使1次激光Ll的光軸和觀察系統(tǒng)5的光軸，與 1次X射線Xl的光軸同軸，而在1次激光Ll的光軸上配置光束分離器5b和反射鏡5c。但是，由于光束分離器5b和反射鏡5c為可動式，所以在利用X射線分析時，可從1次X射線 Xl的前進(jìn)路徑(光軸)上卸除。通過這樣，對照射點Pl照射1次激光Li。然后，當(dāng)1次激光Ll照射照射點Pl時就產(chǎn)生2次激光L2，2次激光L2返回到受光部7b。從而，通過檢測此2次激光L2的感應(yīng)狀態(tài)，能夠取得距離(試樣S相對試樣臺1的高度T)信息，將此輸出傳送到控制計算機(jī)9。 此外，為使從試樣S返回的2次激光L2的激光強(qiáng)度不衰減，使2次激光L2的光軸偏離1次 X射線Xl的光軸，以不通過光束分離器5b而入射到受光部7b。再者，本實施方式中，試樣臺1是在承放試樣S的狀態(tài)下也能夠進(jìn)行上下左右的水平移動的XY平臺。另一方面，試樣S在高度方向(Z方向)的相對移動利用測定頭部移動機(jī)構(gòu)8進(jìn)行。即，X射線真空管2、X射線檢測器3、分析器4、觀察系統(tǒng)5、焦點切換驅(qū)動機(jī)構(gòu)6以及激光部7整體搭載在測定頭部11，測定頭部移動機(jī)構(gòu)8能夠利用測定頭部11，沿著1次X射線Xl的前進(jìn)路徑方向(高度方向(Z方向))進(jìn)行移動。因此，測定頭部11在Z 方向上相對于試樣臺1進(jìn)退，從而調(diào)整試樣S到X射線真空管2及X射線檢測器3的距離。 試樣臺1的移動以及利用測定頭部移動機(jī)構(gòu)8的測定頭部11的移動，是通過使用與其相連接或內(nèi)置的球頭螺釘或帶子等傳動裝置驅(qū)動步進(jìn)馬達(dá)等而進(jìn)行。試樣臺1和測定頭部移動機(jī)構(gòu)8相當(dāng)于權(quán)利要求中的“移動機(jī)構(gòu)”?？刂朴嬎銠C(jī)9包括控制部主體9a，從分析器4傳送的能譜中判別與特定元素對應(yīng)的X射線強(qiáng)度；顯示部％，據(jù)此顯示分析結(jié)果；操作部9c，能輸入照射點Pl的位置輸入等各種命令或分析條件等。此外，控制部主體9a還包括對焦點切換驅(qū)動機(jī)構(gòu)6、測定頭部移動機(jī)構(gòu)8等進(jìn)行通信控制的功能。控制部主體9a包括公知的CPU、ROM、RAM、硬盤等記錄介質(zhì)，以及使激光部7工作與停止的控制電路基板9d。此外，控制計算機(jī)9按照圖3所示的方式調(diào)整試樣S到X射線真空管2及X射線檢測器3的距離。首先，控制計算機(jī)9從激光部7取得高度T信息。然后，當(dāng)高度T低于1 次X射線Xl的標(biāo)準(zhǔn)照射位置P2的高度時，控制計算機(jī)9使測定頭部移動機(jī)構(gòu)8工作以消除T與P2的差分D的距離。據(jù)此，使照射點Pl與P2 —致。這里，標(biāo)準(zhǔn)照射位置P2位于來自X射線真空管2的1次X射線Xl的照射軸和X 射線檢測器3的(最佳靈敏度的)方向的交叉點。而且，標(biāo)準(zhǔn)照射位置P2(的高度)預(yù)先存儲到控制計算機(jī)9。而且，控制計算機(jī)9按照圖4所示的方式也同時基于從激光部7取得的高度T調(diào)整觀察系統(tǒng)5的焦點位置。即，為消除上述差分D的距離，而使焦點切換機(jī)構(gòu)6工作，從而調(diào)整觀察系統(tǒng)5的焦點位置。據(jù)此，作業(yè)人員無需為觀察試樣S而手動調(diào)整觀察系統(tǒng)5的焦點位置。利用控制計算機(jī)9的焦點切換機(jī)構(gòu)6的工作控制，例如能夠?qū)⒂^察系統(tǒng)5的圖像對比度最大的位置視為焦點位置。此外，控制計算機(jī)9將標(biāo)準(zhǔn)照射位置P2也作為焦點切換驅(qū)動機(jī)構(gòu)6的原點位置 (圖示略)而預(yù)先存儲，能夠基于焦點切換驅(qū)動機(jī)構(gòu)6從原點位置的位移量求出高度T，觀察系統(tǒng)5也能作為距離測定單元起作用。焦點切換驅(qū)動機(jī)構(gòu)6的位移量能夠通過例如運算驅(qū)動用的步進(jìn)馬達(dá)等的輸入脈沖數(shù)、或者來自編碼器的輸出脈沖數(shù)而求出。然后，控制計算機(jī)9設(shè)定為，根據(jù)從作為距離測定單元的觀察系統(tǒng)5求出的高度T算出的差分D，由控制計算機(jī)9修正定量計算所使用的X射線照射距離等參數(shù)。此外，利用控制計算機(jī)9對焦點切換驅(qū)動機(jī)構(gòu)6和測定頭部移動機(jī)構(gòu)8進(jìn)行的控制，可為同時或獨立的控制。接著，參考圖5來說明使用熒光X射線分析裝置100的X射線分析。圖5示出控制計算機(jī)9進(jìn)行的控制流程(位置對準(zhǔn)以及距離測定流程)。首先，控制計算機(jī)9從門開關(guān)探測部21取得探測信息，判定門20是否為開狀態(tài) (步驟Si)。如果門20為開狀態(tài)，說明作業(yè)人員將新的試樣S承放在試樣臺1上。從而，如果步驟Sl為“Yes (是)”，則控制計算機(jī)9使激光部7工作，對照射點Pl照射可見光激光 (步驟S3)。激光部7接受照射點Pl產(chǎn)生的2次激光L2，取得距離(從試樣臺1起的試樣 S的高度T)信息，且發(fā)送到控制計算機(jī)9?？刂朴嬎銠C(jī)9基于取得的照射點Pl的高度T信息算出差分D，使測定頭部移動機(jī)構(gòu)8工作以消除差分D (步驟S5)。據(jù)此，使照射點Pl與P2 —致，調(diào)整試樣S與放射線源2 之間的距離。同時，為消除差分D，控制計算機(jī)9使焦點切換機(jī)構(gòu)6工作，從而調(diào)整觀察系統(tǒng) 5的焦點(步驟S5)。步驟S5結(jié)束之后，回到步驟Si。接著，在門20關(guān)閉的狀態(tài)下，將試樣S放置在試樣臺1之后，作業(yè)人員通過觀察系統(tǒng)5觀察試樣S的表面，從而確認(rèn)X射線分析的點。如果此時照射可見光激光，則成為輝點而妨礙觀察或者使作業(yè)人員的眼睛疲勞。從而，如果步驟Sl為“No (否)”，則控制計算機(jī)9 停止激光部7，關(guān)閉可見光激光的照射(步驟S7)。接著，控制計算機(jī)判定試樣S是否在X、Y、Z中的至少一個方向上移動(步驟S9)。 試樣S在X、Y、Z中的至少一個方向上移動的情況下，作業(yè)人員邊通過觀察系統(tǒng)5觀察試樣 S的表面，邊移動X射線分析的點。即，有必要對上述步驟S3、S5中調(diào)整的距離或焦點進(jìn)行重新調(diào)整而修正。從而，如果步驟S9為“是”，則回到步驟S3，控制計算機(jī)9重新調(diào)整距離或焦點。而且，試樣S是否移動，能夠通過驅(qū)動使試樣臺1或測定頭部移動機(jī)構(gòu)8工作的步進(jìn)馬達(dá)等傳動裝置而判定。而且，在門20關(guān)閉后移動試樣S的情況下，邊看著可見光激光的輝點，邊觀察試樣S的表面，但與打開門20最初將試樣S承放到試樣臺1上的情況相比較，試樣S的移動量少，因此看到可見光激光的輝點的時間也少，對作業(yè)人員的影響小。另一方面，如果步驟S9為“否”，則需要決定X射線分析的新點，因此作業(yè)人員以從操作部9c指示“位置對準(zhǔn)結(jié)束”為條件(步驟Sll為“是”)，結(jié)束處理。此外，如果步驟Sll為“否”，說明位置對準(zhǔn)并未結(jié)束，回到步驟Si。按照以上的方法，在位置對準(zhǔn)以及距離測定流程結(jié)束后，還可進(jìn)一步進(jìn)行X射線分析。χ射線分析本身是公知的，首先，利用X射線真空管2發(fā)出的1次X射線Xl照射試樣S，在X射線檢測器3檢測產(chǎn)生的特征X射線和散射X射線。檢測到X射線的X射線檢測器3將此信號送到分析器4，分析器4從此信號取出能譜，且輸出到控制計算機(jī)9?？刂撇恐黧w9a從分析器4送出的能譜中判別出與特定元素對應(yīng)的X射線強(qiáng)度，將這些分析結(jié)果顯示在顯示部9b上。圖6是示出負(fù)責(zé)激光部7的工作和停止的控制電路基板9d的邏輯構(gòu)成的方框圖?？刂齐娐坊?d包括3個分別由OR( “或”)電路構(gòu)成的晶體管91 93，晶體管91和92的輸出被輸入到晶體管93。對晶體管91進(jìn)入以門20的開狀態(tài)為“1”且以試樣S在X方向發(fā)生移動(動作)的狀態(tài)為“1”的輸入。而且，對晶體管92進(jìn)入以試樣S在Y、Z方向發(fā)生移動(動作)的狀態(tài)分別為“1”的輸入。從而，門20為開狀態(tài)和試樣S在Χ、Υ、Ζ至少任一方向上移動的情況下，晶體管93輸出激光部7的工作(“1”)。此外，激光部7的工作和停止，既可通過上述控制電路基板9d實現(xiàn)，也可通過軟件進(jìn)行條件判定。如上所述，依據(jù)本實施方式的熒光X射線分析裝置，在打開門20向殼體10內(nèi)的試樣臺1承放試樣S時，照射作為可見光的1次激光Li，因此照射點Pl作為激光斑點，能夠用肉眼確認(rèn)，從而容易進(jìn)行試樣S的定位。然后，在進(jìn)行試樣S的定位后，停止1次激光Ll的照射，所以在定位后觀察試樣時，可見光激光的輝點不會進(jìn)入作業(yè)人員的眼中，從而不會妨礙觀察或者使作業(yè)人員的眼睛疲勞。而且，如果利用照射的1次激光Ll來測定照射點Pl的高度T，則能夠在照射用于定位的激光斑點的同時取得高度T信息，不需要手動調(diào)整試樣到X射線源的距離，從而提高作業(yè)效率。此外，激光斑點的照射和高度T信息的測定可用一個激光部7進(jìn)行，所以裝置變得緊湊和簡易，且擴(kuò)大試樣到X射線源的距離的調(diào)整范圍(100mm量級)。進(jìn)而，如果基于取得的高度T信息同時對觀察系統(tǒng)5的焦點位置進(jìn)行調(diào)整，則作業(yè)人員無需手動調(diào)整觀察系統(tǒng)5的焦點。此外，如果利用激光部7進(jìn)行高度T的測定，則能夠非接觸地正確測定試樣S的高度T，且由于是在試樣臺1上放置有試樣S的狀態(tài)(X射線分析狀態(tài))下進(jìn)行的試樣S的高度T的測定，所以分析時能夠更加正確的得到試樣S到X射線真空管2及X射線檢測器3之間的距離。
而且，試樣S在X、Y、Z至少任一方向上移動時，對試樣S到X射線真空管2及X射線檢測器3的距離或觀察系統(tǒng)5的焦點進(jìn)行重新調(diào)整，例如，像有凹凸的試樣那樣，試樣移動，從而僅僅稍微改變照射點而引起上述距離或焦點變動的情況下，也能夠自動調(diào)整距離或焦點，從而能夠精度良好地進(jìn)行的X射線分析。此外，當(dāng)照射點Pl的高度T為既定閾值以下時，優(yōu)選使控制計算機(jī)(移動機(jī)構(gòu)控制部)9進(jìn)行停止移動機(jī)構(gòu)1、8的控制。據(jù)此，能夠防止試樣S與觀察系統(tǒng)5或X射線真空管2等的構(gòu)成部分相接觸。此外，上述實施方式中，為消除差分D而相對移動試樣S，使1次X射線Xl在標(biāo)準(zhǔn)照射位置Ρ2照射試樣S，然而，在更加簡便(迅速)地進(jìn)行X射線分析的情況下，也可僅進(jìn)行差分D的計算，而不相對移動試樣S。這種情況下，不相對移動試樣S，而使1次X射線Xl在照射點Pl (的高度Τ)照射試樣S。此時控制計算機(jī)9從分析器4得到的能譜的峰值數(shù)據(jù)，對應(yīng)于差分D修正定量分析的計算使用的參數(shù)，使用修正值計算與特定元素對應(yīng)的X射線強(qiáng)度。當(dāng)然，更不用說也可以基于差分D進(jìn)行觀察系統(tǒng)5的焦點位置調(diào)整。這里，如果1次X射線Xl的照射位置從標(biāo)準(zhǔn)照射位置Ρ2向照射點Pl的高度變化，則χ射線真空管2與照射點Pl的距離、照射點Pl與X射線檢測器3的距離、X射線檢測器3的方向(檢測方向)與照射點Pl的夾角角度等變化。然后，隨之而來的是照射在試樣S上的1次X射線Xl的能量密度或照射區(qū)域變化。具體而言，從試樣S放出的熒光X射線或散射X射線的強(qiáng)度等變化，或者X射線檢測器3檢測出的熒光X射線或散射X射線的強(qiáng)度變化。這里，由于對這些X射線真空管2與照射點Pl的距離、照射點Pl與X射線檢測器3的距離、X射線檢測器3的朝向與照射點Pl的夾角角度等參數(shù)進(jìn)行修正(以下，也稱為修正參數(shù))，所以能夠正確的進(jìn)行定量分析。此外，控制計算機(jī)9能夠存儲各個照射點Pl相關(guān)的高度Τ。這種情況下，通過邊以1次激光Ll照射試樣S邊移動試樣臺1，取得試樣S的二維方向的高度T的數(shù)據(jù)，能夠得到試樣的二維方向的高度變化(凹凸形狀)。接著，參考圖7說明本發(fā)明的第二實施方式的熒光X射線分析裝置102。圖7是示出熒光X射線分析裝置102的構(gòu)成的方框圖。熒光X射線分析裝置102，除在第一實施方式的熒光X射線分析裝置100的各構(gòu)成部分之外，還包括第二激光部7χ，并且控制計算機(jī)9χ進(jìn)行的控制流程(位置對準(zhǔn)和距離測定流程)不同，除此之外，與熒光X射線分析裝置100相同，所以相同構(gòu)成部分添加相同符號而省略說明。此外，為與第二激光部7χ區(qū)分，將激光部 稱為“第一激光部7”。第一激光部7照射可見光激光，第二激光部7χ照射非可見光激光。非可見光是除可見光的波長范圍以外的波長的光?？墒沟诙す獠?χ與第一激光部7具有相同的構(gòu)成(激光位移傳感器等)。圖7中，第二激光部7χ配置于激光部7的相對上方，且X射線真空管2的相對下方。第二激光部7χ設(shè)定為能橫向照射非可見光激光，非可見光激光的光軸在反射鏡5d向下方反射，從而與1次X射線Xl的光軸同軸。即，為使非可見光激光的光軸與1次X射線Xl的光軸同軸，將反射鏡5d配置于1次激光Ll的光軸上。但是，由于反射鏡5d為可動式，所以在利用X射線進(jìn)行分析時，可從1次X射線Xl的前進(jìn)路徑(光軸)上卸除。第二實施方式中，在打開門20將試樣S放置在試樣臺1時，第一激光部7與第一實施方式同樣地照射可見光激光，因此照射點Pl作為激光斑點而能夠用肉眼確認(rèn)。另一方面，在門20關(guān)閉后試樣S在X、Y、Z中至少任一方向上移動時，使用第二激光部7χ對試樣S到X射線真空管2及X射線檢測器3的距離或觀察系統(tǒng)5的焦點進(jìn)行重新調(diào)整。即，作業(yè)人員在觀察試樣時，使用非可見光激光測定上述距離，所以可見光激光的輝點不會進(jìn)入作業(yè)人員的眼中，且能夠重新調(diào)整上述距離或焦點。此外，利用第二激光部7χ的距離(高度Τ)測定方法與激光部7相同，與已描述的同樣。圖8是示出第二實施方式中由控制計算機(jī)9x進(jìn)行的控制流程(位置對準(zhǔn)和距離測定流程)。首先，控制計算機(jī)9x從門開關(guān)探測部21取得探測信息，判定門20是否為開狀態(tài)(步驟S101)。如果步驟SlOl中為“是”，則控制計算機(jī)虹使第一激光部7工作，對照射點Pl照射可見光激光(步驟S103)。第一激光部7接受照射點Pl發(fā)出的2次激光L2，取得距離(試樣S相對試樣臺1的高度T)信息并發(fā)送到控制計算機(jī)9x?？刂朴嬎銠C(jī)9x基于取得的照射點Pl的高度T信息算出差分D，使測定頭部移動機(jī)構(gòu)8工作以消除差分D (步驟S105)。據(jù)此，使照射點Pl與P2 —致，調(diào)整試樣S到放射線源2的距離。同時，為消除差分D，控制計算機(jī)9x使焦點切換機(jī)構(gòu)6工作，調(diào)整觀察系統(tǒng)5的焦點(步驟S105)。步驟S105結(jié)束后，回到步驟S101。接著，如果步驟SlOl為“否”，則控制計算機(jī)虹停止第一激光部7，關(guān)閉可見光激光的照射(步驟S107)。此外，步驟SlOl S107與第一實施方式的步驟Sl S7是相同的流程。接著，控制計算機(jī)虹判斷試樣S是否在X、Y、Z至少任一方向上移動(步驟S109)。這里，如果步驟S109為“是”，則控制計算機(jī)9χ使第二激光部7χ工作，以非可見光激光照射試樣S移動后的新照射點Pl (步驟S111)。第二激光部7χ接受由照射點Pl發(fā)出的非可見光構(gòu)成的2次激光L2，取得距離(試樣S相對試樣臺1的高度Τ)信息，并發(fā)送到控制計算機(jī)9χ。 控制計算機(jī)9χ基于取得的照射點Pl的高度T信息計算出差分D，使測定頭部移動機(jī)構(gòu)8工作以消除差分D (步驟Sl 13)。據(jù)此，使照射點Pl與Ρ2 —致，調(diào)整試樣S到放射線源2的距離。同時，控制計算機(jī)9χ為消除差分D而使焦點切換機(jī)構(gòu)6工作，調(diào)整觀察系統(tǒng)5的焦點(步驟S113)。步驟S113結(jié)束后，回到步驟S101。如上所述，如果步驟S109為“是”，則代替第一激光部7而使第二激光部7χ工作，所以即便作業(yè)人員邊利用觀察系統(tǒng)觀察試樣S的表面，邊變更X射線分析的點，也不產(chǎn)生激光輝點，從而能抑制對作業(yè)人員的影響。此外，試樣S到X射線真空管2及X射線檢測器3的距離或觀察系統(tǒng)5的焦點的重新調(diào)整，能通過非可見光激光來進(jìn)行，所以不需要由作業(yè)人員手動對其進(jìn)行重新調(diào)整，這點與第一實施方式相同。另一方面，如果步驟S109為“否”，說明需要決定X射線分析的新點，作業(yè)人員以從操作部9c得到的“位置對準(zhǔn)結(jié)束”的指示為條件(步驟S115為“是”)，控制計算機(jī)9x停止第二激光部7x(步驟S117)，結(jié)束處理。此外，如果步驟S115為“否”，則說明位置對準(zhǔn)并未結(jié)束，回到步驟SlOl。圖9是示出第二實施方式的負(fù)責(zé)第一激光部7、第二激光部7x的工作和停止的控制電路基板9d的邏輯構(gòu)成的方框圖?？刂齐娐坊?d包括2個分別由OR電路構(gòu)成的晶體管95、96，由AND(“與”)電路構(gòu)成的晶體管97，以及二極管98。晶體管95的輸出以及以試樣S在X方向發(fā)生移動(動作)的狀態(tài)為“1”的輸入被輸入到晶體管96。此外，晶體管96與二極管98的輸出被輸入到晶體管97。此外，二極管98是進(jìn)行信號邏輯反轉(zhuǎn)的元件。以門20的開狀態(tài)為“1”的輸入，直接用作第一激光部7的開閉信號的作用條件，且輸入到二極管98。對晶體管95進(jìn)入以試樣S在Y、Z方向產(chǎn)生移動(動作)的狀態(tài)分別為“1”的輸入。從而，門20為開狀態(tài)的情況下，第一激光部7工作(“1”)。另一方面，試樣S在X、Y、Z至少任一方向上移動，且門20為關(guān)閉的情況下，晶體管97輸出第二激光部7χ的工作(“1，，)。此外，第一激光部7、第二激光部7χ的工作和停止，既可由上述控制電路基板9d實現(xiàn)，也可由軟件進(jìn)行條件判定。此外，本發(fā)明的技術(shù)范圍并不限定于上述的實施方式，在不脫離本發(fā)明思想的范圍內(nèi)，可做出各種變更。例如，上述實施方式中，作為試樣S的高度測定機(jī)構(gòu)起作用的激光部使用三角測距方式的激光位移傳感器，然而，也可采用線性回歸型的激光位移傳感器。在使用線性回歸型的激光位移傳感器的情況下，2次激光回歸到與1次激光同軸，所以能減小反射鏡面積，且能簡化調(diào)整機(jī)構(gòu)。此外，上述實施方式中，光束分離器恥和反射鏡5c為可動式，分析時可從1次X射線Xi的前進(jìn)路徑上卸除，所以能在不衰減1次X射線強(qiáng)度的情況下照射試樣，然而，在1次X射線照射中實時觀察試樣狀態(tài)的情況下，也可以固定光束分離器恥和反射鏡5c的位置。這種情況下，以使一次X射線盡可能不衰減的方式，設(shè)定光束分離器恥和反射鏡5c的厚度，使1次X射線通過這些部件而透過。據(jù)此，1次X射線照射中能夠?qū)崟r觀察試樣的狀態(tài)。此外，優(yōu)選由激光部兼作高度測定機(jī)構(gòu)，但也可以采用超聲波傳感器。此外，上述實施方式中，以殼體內(nèi)為減壓氣氛進(jìn)行分析，但也可以在不為真空(減壓)氣氛的狀態(tài)下進(jìn)行分析。此外，上述實施方式中，熒光X射線分析裝置為能量分散型的熒光X射線分析裝置，然而，也可以為例如使用波長分散型的熒光X射線分析裝置或使用電子束作為照射的放射線并且也能夠得到二次電子像的SEM-EDS (掃描型電子顯微鏡/能量分散型X射線分析)裝置。此外，上述實施方式中，X射線檢測器使用半導(dǎo)體檢測器，然而，也可以使用比例計數(shù)管，本發(fā)明也可適用于熒光X射線膜厚計。附圖標(biāo)記說明1...試樣臺；2. .. X射線真空管(放射線源)；3. . . X射線檢測器；4...分析器；5...觀察系統(tǒng)；6...焦點切換驅(qū)動機(jī)構(gòu)；7...激光位移傳感器(激光部)；7x...第二激光部；8...移動機(jī)構(gòu)；9...控制計算機(jī)(移動機(jī)構(gòu)控制部、激光部工作控制部、高度測定機(jī)構(gòu)工作控制部、觀察系統(tǒng)焦點控制部)；10...殼體；IOa...開口 ；100、102...熒光X射線分析裝置；Pl. · ·照射點；S. · ·試樣；T. · ·試樣的高度。
權(quán)利要求
1.一種熒光X 射線分析裝置，其特征在于，包括 放射線源，對試樣上的照射點照射放射線；X射線檢測器，檢測所述試樣放出的特征X射線和散射X射線，且輸出含有該特征X射線和散射X射線的能量信息的信號； 分析器，分析所述信號； 試樣臺，放置所述試樣；移動機(jī)構(gòu)，能夠?qū)⑺鲈嚇优_上的所述試樣相對于所述放射線源和所述X射線檢測器移動；殼體，至少收容所述放射線源、所述試樣臺以及所述移動機(jī)構(gòu)； 門，開關(guān)用于所述試樣進(jìn)出所述殼體內(nèi)外的開口 ； 高度測定機(jī)構(gòu)，能夠測定所述試樣上的所述照射點的高度；移動機(jī)構(gòu)控制部，基于測定的所述照射點的高度使所述移動機(jī)構(gòu)工作，調(diào)整所述試樣到所述放射線源及所述X射線檢測器的距離； 激光部，以可見光激光照射所述照射點； 門開關(guān)探測部，探測所述門的開關(guān)狀態(tài)；激光部工作控制部，當(dāng)利用所述門開關(guān)探測部探測到所述門為開狀態(tài)時，使所述激光部工作以照射所述可見光激光，且當(dāng)利用所述門開關(guān)探測部探測到所述門為關(guān)狀態(tài)時，停止所述激光部；以及高度測定機(jī)構(gòu)工作控制部，當(dāng)利用所述門開關(guān)探測部探測到所述門為開狀態(tài)時，使所述高度測定機(jī)構(gòu)工作以測定所述照射點的高度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的熒光X射線分析裝置，其特征在于，所述激光部兼用作所述高度測定機(jī)構(gòu)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的熒光X射線分析裝置，其特征在于，所述激光部工作控制部在利用所述門開關(guān)探測部探測到所述門為關(guān)狀態(tài)，且探測到所述移動機(jī)構(gòu)工作時，所述激光部兼用作所述高度測定機(jī)構(gòu)，使其工作以利用所述可見光激光測定所述照射點的高度，且在探測到所述移動機(jī)構(gòu)的工作停止時，停止所述激光部。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的熒光X射線分析裝置，其特征在于， 所述激光部兼用作所述高度測定機(jī)構(gòu)；該激光部包括照射所述可見光激光的第一激光部以及照射所述可見光以外的非可見光激光的第二激光部；所述第二激光部兼用作所述高度測定機(jī)構(gòu)；并且所述激光部工作控制部在利用所述門開關(guān)探測部探測到所述門為開狀態(tài)時，使所述第一激光部工作以照射所述可見光激光，且在利用所述門開關(guān)探測部探測到所述門為關(guān)狀態(tài)時，停止所述第一激光部。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的熒光X射線分析裝置，其特征在于，所述移動機(jī)構(gòu)控制部在所述照射點的高度變?yōu)榧榷ㄩ撝狄韵聲r，停止所述移動機(jī)構(gòu)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的熒光X射線分析裝置，其特征在于，從所述放射線源放射的所述放射線的光軸與所述激光部的光軸同軸，對所述試樣照射所述放射線以及所述激光部出射的可見光激光。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的熒光X射線分析裝置，其特征在于，還包括 觀察系統(tǒng)，觀察所述試樣；焦點切換驅(qū)動機(jī)構(gòu)，切換所述觀察系統(tǒng)的焦點；以及觀察系統(tǒng)焦點控制部，基于利用所述高度測定機(jī)構(gòu)測定的所述照射點的高度，使所述焦點切換驅(qū)動機(jī)構(gòu)工作，調(diào)整所述觀察系統(tǒng)的焦點位置。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的熒光X射線分析裝置，其特征在于，從所述放射線源放射的所述放射線的光軸、所述觀察系統(tǒng)的光軸、以及所述激光部的光軸為同軸，對所述試樣照射所述放射線以及從所述激光部出射的可見光激光。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的熒光X射線分析裝置，其特征在于，包括 反射鏡，用于將所述激光部的光軸同軸地置于所述放射線的光軸上；光束分離器，用于將所述放射線的光軸、所述激光部的光軸、所述觀察系統(tǒng)的光軸置于同軸。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的熒光X射線分析裝置，其特征在于，所述高度測定機(jī)構(gòu)在所述試樣臺上放置有所述試樣的狀態(tài)下，能夠測定所述照射點的高度。
11.一種熒光X射線檢測方法，其特征在于，用于包括以下部分的熒光X射線分析裝置試樣臺，放置試樣；移動機(jī)構(gòu)，能夠?qū)⒃撛嚇优_上的所述試樣相對于放射線源和X射線檢測器移動； 殼體，至少收容所述放射線源、所述試樣臺以及所述移動機(jī)構(gòu)；以及門，開關(guān)用于所述試樣進(jìn)出所述殼體內(nèi)外的開口，利用所述放射線源對試樣上的照射點照射放射線，利用所述X射線檢測器檢測出所述試樣放出的特征X射線和散射X射線且輸出含有該特征X射線和散射X射線的能量信息的信號，并且分析所述信號，所述熒光X射線檢測方法，其中包括激光部工作控制步驟，當(dāng)探測到所述門為開狀態(tài)時，照射所述可見光激光，以及當(dāng)探測到所述門為關(guān)狀態(tài)時，停止照射所述激光可見光激光；照射點高度測定步驟，當(dāng)探測到所述門為開狀態(tài)時，測定所述照射點的高度； 移動機(jī)構(gòu)控制步驟，基于測定的所述照射點的高度，使所述移動機(jī)構(gòu)工作，調(diào)整所述試樣到所述放射線源及所述X射線檢測器的距離。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的熒光X射線分析方法，其特征在于，還具有觀察系統(tǒng)焦點調(diào)整步驟，基于測定的所述照射點的高度，對觀察所述試樣的觀察系統(tǒng)的焦點位置進(jìn)行調(diào)整。
全文摘要
本發(fā)明提供作業(yè)效率高且安全地進(jìn)行試樣測定的熒光X射線分析裝置和熒光X射線分析方法。熒光X射線分析裝置(100)包括放射線源(2)，對試樣(S)上的照射點(P1)照射放射線；X射線檢測器(3)；移動機(jī)構(gòu)(8)，能將試樣相對于放射線源和X射線檢測器移動；殼體(10)；門(20)，開關(guān)試樣進(jìn)出殼體內(nèi)外的開口(10a)；高度測定機(jī)構(gòu)(7)，能測定照射點的高度；移動機(jī)構(gòu)控制部(9)，基于測定的照射點高度調(diào)整試樣到放射線源及X射線檢測器的距離；激光部(7)，對照射點照射可見光激光；激光部工作控制部(9)，門為開狀態(tài)時，使激光部工作以照射可見光激光，且門為關(guān)狀態(tài)時，停止激光部；以及高度測定機(jī)構(gòu)工作控制部(9)，門為開狀態(tài)時，使高度測定機(jī)構(gòu)工作以測定照射點高度。
文檔編號G01N23/223GK102384924SQ201110270780
公開日2012年3月21日 申請日期2011年8月31日 優(yōu)先權(quán)日2010年8月31日
發(fā)明者一宮豐, 瀧口英樹, 長谷川清 申請人:精工電子納米科技有限公司