專(zhuān)利名稱(chēng)：磁體勻場(chǎng)導(dǎo)引軌的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種導(dǎo)引軌，尤其是一種在磁共振設(shè)備中運(yùn)用的磁體勻場(chǎng)導(dǎo)引 軌。
背景技術(shù)：
近二十年來(lái)，隨著磁體技術(shù)、超導(dǎo)技術(shù)、低溫技術(shù)、電子技術(shù)和計(jì)算機(jī)技術(shù)等相關(guān) 技術(shù)的進(jìn)步，磁共振成像術(shù)得到了快速發(fā)展，廣泛應(yīng)用于臨床，成為現(xiàn)代醫(yī)學(xué)影像領(lǐng)域中不 可缺少的一員。醫(yī)用磁共振成像設(shè)備通常由主磁體系統(tǒng)、梯度系統(tǒng)、射頻系統(tǒng)、計(jì)算機(jī)系統(tǒng) 及其他輔助設(shè)備等五部分構(gòu)成。主磁體系統(tǒng)是提供靜磁場(chǎng)；梯度系統(tǒng)是提供線性度良好、可 達(dá)到高梯度磁場(chǎng)強(qiáng)度、并可快速開(kāi)關(guān)的梯度場(chǎng)，以便動(dòng)態(tài)地、依次遞增地修改主磁場(chǎng)的磁場(chǎng) 強(qiáng)度，實(shí)現(xiàn)成像體素的空間定位和層面的選擇，產(chǎn)生梯度回波，施加擴(kuò)散加權(quán)梯度場(chǎng)，進(jìn)行 流動(dòng)補(bǔ)償，進(jìn)行液體的流速相位編碼；射頻系統(tǒng)是發(fā)射射頻脈沖，使磁化的質(zhì)子吸收能量產(chǎn) 生共振，并接收質(zhì)子在弛豫過(guò)程中釋放的能量，而產(chǎn)生磁共振成像需的信號(hào)。由于磁共振掃描成像技術(shù)不僅要求較高的恒定磁場(chǎng)，還要求恒定磁場(chǎng)有較高的均 勻性。盡管對(duì)磁體系統(tǒng)的設(shè)計(jì)投入了大量的精力，但由于制造公差不可避免的使線圈偏移 了設(shè)計(jì)位置，所采用的材料的性質(zhì)不可能完全與設(shè)計(jì)時(shí)假定的特性相同，磁共振系統(tǒng)的磁 場(chǎng)均勻性還無(wú)法滿足要求。為了提高磁場(chǎng)均勻度，需要對(duì)磁共振系統(tǒng)進(jìn)行進(jìn)一步的勻場(chǎng)。 磁共振系統(tǒng)的勻場(chǎng)方法已知有兩種無(wú)源勻場(chǎng)和有源勻場(chǎng)。磁體包括梯度線圈組件，無(wú)源 勻場(chǎng)就是在磁體的孔洞內(nèi)壁上添加專(zhuān)用的勻場(chǎng)小片以使實(shí)際磁場(chǎng)變形，這種孔洞稱(chēng)為勻場(chǎng) 孔，使其更接近所設(shè)計(jì)的磁場(chǎng)，達(dá)到所需的磁場(chǎng)均勻度，此種勻場(chǎng)技術(shù)無(wú)需電源，稱(chēng)為無(wú)源 勻場(chǎng)。無(wú)源勻場(chǎng)時(shí)，基本是在有場(chǎng)的情況下手持勻場(chǎng)體盤(pán)(shim tray)直接插入孔內(nèi)，勻場(chǎng) 體盤(pán)較長(zhǎng)，沿著其長(zhǎng)度方向包括許多凹槽(pocket)，所以剛度不大，凹槽中放置勻場(chǎng)體片， 一般為扁平的正方形或矩形鋼片。由于電磁力的作用，勻場(chǎng)體盤(pán)會(huì)有一定程度的擺動(dòng)，很難 直接將勻場(chǎng)體盤(pán)對(duì)準(zhǔn)要插入的孔，并插入孔內(nèi)，不僅操作起來(lái)有難度，需要更加注意安全， 而且需要更多的時(shí)間。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種在無(wú)源勻場(chǎng)時(shí)方便操作的磁體勻場(chǎng) 導(dǎo)引軌。本實(shí)用新型解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的磁體勻場(chǎng)導(dǎo)引軌，包括基板和設(shè)置在基板上 的連接結(jié)構(gòu)，所述連接結(jié)構(gòu)與梯度線圈組件相匹配，所述基板內(nèi)側(cè)設(shè)置有導(dǎo)引槽，導(dǎo)引槽的 形狀與梯度線圈組件上的勻場(chǎng)孔的形狀相適配。進(jìn)一步的是，基板的橫截面呈圓弧狀，所述導(dǎo)引槽軸向方向與基板的軸向方向相 同。進(jìn)一步的是，連接結(jié)構(gòu)設(shè)置在基板背面，由前端支撐和末端支撐組成，所述前端支 撐和末端支撐分別設(shè)置在基板軸向的兩端，所述末端支撐呈鉤狀并與梯度線圈組件壁相適配。進(jìn)一步的是，還包括至少兩個(gè)直限位板，所述導(dǎo)引槽是通過(guò)限位板連接到基板內(nèi) 側(cè)形成的。進(jìn)一步的是，導(dǎo)引槽設(shè)置有2-4個(gè)。本實(shí)用新型的有益效果是利用連接結(jié)構(gòu)將基板固定在梯度線圈組件上，再將勻 場(chǎng)體盤(pán)沿著導(dǎo)引槽插入到勻場(chǎng)孔內(nèi)，由于導(dǎo)引槽的限制作用，勻場(chǎng)體盤(pán)在磁場(chǎng)的作用下也 不會(huì)產(chǎn)生晃動(dòng)，從而可以順利的插入到勻場(chǎng)孔中，導(dǎo)引槽還具有一定的支撐效果，可以防止 勻場(chǎng)體盤(pán)受到磁場(chǎng)作用而產(chǎn)生彎曲?；暹€可以設(shè)置為圓弧狀，從而與梯度線圈組件相匹 配，方便操作。連接結(jié)構(gòu)分為前端支撐和末端支撐，從而在前后均穩(wěn)固住基板，使得操作的 時(shí)候更加穩(wěn)當(dāng)。

圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是本實(shí)用新型的主視圖；圖3是圖2的左視圖；圖4是圖2的俯視圖；圖5是梯度線圈組件的示意圖；圖中零部件、部位及編號(hào)基板1、連接結(jié)構(gòu)2、導(dǎo)引槽3、直限位板4、前端支撐21、 末端支撐22、梯度線圈組件5、勻場(chǎng)孔51。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說(shuō)明。如圖1所示，本實(shí)用新型包括基板1和設(shè)置在基板1上的連接結(jié)構(gòu)2，所述連接結(jié) 構(gòu)2與梯度線圈組件5相匹配，所述基板1內(nèi)側(cè)設(shè)置有導(dǎo)引槽3，導(dǎo)引槽3的形狀與梯度線 圈組件5上的勻場(chǎng)孔51的形狀相適配。也就是磁體上的勻場(chǎng)孔51。在使用時(shí)，首先將連接 結(jié)構(gòu)2連接在梯度線圈組件5上從而將基板1固定，此時(shí)再將勻場(chǎng)體盤(pán)沿著導(dǎo)引槽3插入勻 場(chǎng)孔51，導(dǎo)引槽3形狀與勻場(chǎng)孔51形狀相適配，也即與勻場(chǎng)體盤(pán)形狀相適配，導(dǎo)引槽3就為 勻場(chǎng)體盤(pán)提供了一段無(wú)磁性的過(guò)渡區(qū)。由于勻場(chǎng)體盤(pán)受到導(dǎo)引槽3的限制，因此在磁場(chǎng)的 作用下也不會(huì)發(fā)生晃動(dòng)，這就使得操作更加方便，也防止了勻場(chǎng)體盤(pán)與梯度線圈組件碰撞， 防止了對(duì)設(shè)備的損傷。磁共振系統(tǒng)的梯度線圈組件一般為圓形階梯狀，從節(jié)約材料出發(fā)，如圖1、圖2和 圖5所示，基板1的橫截面呈圓弧狀，所述導(dǎo)引槽3軸向方向與基板1的軸向方向相同?；?板1所呈的弧形與梯度線圈組件5外層的弧形相似，也就是在使用中，基板1能夠按照其形 狀與梯度線圈組件5階梯的外層貼合，即軸線重合，導(dǎo)引槽3沿著軸線設(shè)置正好與勻場(chǎng)孔51 連通，從而方便的將勻場(chǎng)體盤(pán)引導(dǎo)到勻場(chǎng)孔51中。雖然基板1設(shè)置為方形仍然可以使用， 但圓弧狀可以更好的貼合梯度線圈組件5，也節(jié)約了材料，減輕了重量。作為本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式，如圖1、圖4所示，連接結(jié)構(gòu)2設(shè)置在基板1背 面，由前端支撐21和末端支撐22組成，所述前端支撐21和末端支撐22分別設(shè)置在基板1 軸向的兩端，所述末端支撐22呈鉤狀并與梯度線圈組件5壁相適配。連接結(jié)構(gòu)2與導(dǎo)引槽3分別設(shè)置在基板1的兩側(cè)，這樣就可以互不沖突。末端支撐22呈鉤狀能夠卡在梯度線圈 組件5上，前端支撐21可以起到輔助支撐作用，保證本實(shí)用新型更加平穩(wěn)。具體的，如圖2和圖3所示，還包括至少兩個(gè)直限位板4，所述導(dǎo)引槽3是通過(guò)直限 位板4連接到基板1內(nèi)側(cè)形成的。此時(shí)就避免在基板1上加工槽來(lái)形成導(dǎo)引槽3，而直接將 直限位板4連接到基板1上即可，直限位板4可以通過(guò)焊接、螺釘?shù)确绞竭B接到基板1上。 這就使得加工更加方便，基板1的重量也得到減輕。根據(jù)磁體的實(shí)際情況，導(dǎo)引槽數(shù)量還可以更多，但是這會(huì)增加加工難度和本實(shí)用 新型的重量。從上述兩個(gè)方便考慮，導(dǎo)引槽3設(shè)置有2-4個(gè)，最好設(shè)置3個(gè)。
權(quán)利要求1.磁體勻場(chǎng)導(dǎo)引軌，其特征在于包括基板(1)和設(shè)置在基板(1)上的連接結(jié)構(gòu)0)， 所述連接結(jié)構(gòu)O)與梯度線圈組件(5)相匹配，所述基板(1)內(nèi)側(cè)設(shè)置有導(dǎo)引槽(3)，導(dǎo)引 槽(3)的形狀與梯度線圈組件(5)上的勻場(chǎng)孔(51)的形狀相適配。
2.如權(quán)利要求1所述的磁體勻場(chǎng)導(dǎo)引軌，其特征在于所述基板(1)的橫截面呈圓弧 狀，所述導(dǎo)引槽⑶軸向方向與基板⑴的軸向方向相同。
3.如權(quán)利要求1或2所述的磁體勻場(chǎng)導(dǎo)引軌，其特征在于所述連接結(jié)構(gòu)(2)設(shè)置在基 板(1)背面，由前端支撐和末端支撐0 組成，所述前端支撐和末端支撐02) 分別設(shè)置在基板(1)軸向的兩端，所述末端支撐0 呈鉤狀并與梯度線圈組件( 壁相適 配。
4.如權(quán)利要求1或2所述的磁體勻場(chǎng)導(dǎo)引軌，其特征在于還包括至少兩個(gè)直限位板 G)，所述導(dǎo)引槽C3)是通過(guò)直限位板(4)連接到基板(1)內(nèi)側(cè)形成的。
5.如權(quán)利要求1或2所述的磁體勻場(chǎng)導(dǎo)引軌，其特征在于所述導(dǎo)引槽(3)設(shè)置有2-4個(gè)。
專(zhuān)利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種導(dǎo)引軌，尤其是一種在磁共振設(shè)備中運(yùn)用的磁體勻場(chǎng)導(dǎo)引軌。本實(shí)用新型提供了一種在無(wú)源勻場(chǎng)時(shí)方便操作的磁體勻場(chǎng)導(dǎo)引軌，包括基板和設(shè)置在基板上的連接結(jié)構(gòu)，所述連接結(jié)構(gòu)與梯度線圈組件相匹配，所述基板內(nèi)側(cè)設(shè)置有導(dǎo)引槽，導(dǎo)引槽的形狀與梯度線圈組件上勻場(chǎng)孔的形狀相適配利用連接結(jié)構(gòu)將基板固定在梯度線圈組件上，再將勻場(chǎng)體盤(pán)沿著導(dǎo)引槽插入到勻場(chǎng)孔內(nèi)，由于導(dǎo)引槽的限制作用，勻場(chǎng)體盤(pán)在磁場(chǎng)的作用下也不會(huì)產(chǎn)生晃動(dòng)，從而可以順利的插入到勻場(chǎng)孔中，導(dǎo)引槽還具有一定的支撐效果，可以防止勻場(chǎng)體盤(pán)受到磁場(chǎng)作用而產(chǎn)生彎曲?；暹€可以設(shè)置為圓弧狀，從而與梯度線圈組件相匹配，方便操作。
文檔編號(hào)G01R33/387GK201936000SQ20102069355
公開(kāi)日2011年8月17日 申請(qǐng)日期2010年12月31日 優(yōu)先權(quán)日2010年12月31日
發(fā)明者李建志, 王志剛, 王贊明, 黃延慶, 龍興華 申請(qǐng)人:奧泰醫(yī)療系統(tǒng)有限責(zé)任公司