專利名稱：彈簧片孔深測(cè)量固定裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種測(cè)量裝置，特別涉及一種彈簧片孔深測(cè)量固 定裝置。
背景技術(shù)：
54cmFS彈簧片孔深是衡量彈簧片技術(shù)性能的非常重要指標(biāo)，孔 深尺寸對(duì)框架組件配屏、蔭罩組件熱靈敏度、CPT的三色會(huì)聚及色純 裕量均有重大影響。因此孔深測(cè)量準(zhǔn)確度的高低顯得異常重要。彈簧 片孔深測(cè)量一直使用左手扶握彈簧片焊接部，另一端(翻邊)放在圓 形基座孔內(nèi)，右手調(diào)整百分表測(cè)量，顯然，這樣測(cè)量孔深時(shí)水平度靠 檢驗(yàn)員左手調(diào)整，測(cè)量誤差大，準(zhǔn)確度低，同時(shí)孔深測(cè)量所需要的時(shí) 間長(zhǎng)， 一般測(cè)一件孔深需要120秒左右。 發(fā)明內(nèi)容
為了克服上述現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實(shí)用新型的目的在于提供一種 彈簧片孔深測(cè)量固定裝置，具有測(cè)量精確快捷的特點(diǎn)。
為了達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型的技術(shù)方案是
彈簧片孔深測(cè)量固定裝置，其特征在于，包括基座1，基座1 的工作曲面上開(kāi)有讓位槽3和凹槽4，凹槽4內(nèi)裝有磁塊2。
所述的基座1的工作曲面與待測(cè)彈簧片曲面相似且平行。
所述的基座1底面平面度為0.01。
本實(shí)用新型利用基座1的工作曲面將待測(cè)彈簧片固定，克服了人每件提高到80秒每件，降低檢驗(yàn)員的勞動(dòng)強(qiáng)度，具有測(cè)量精確快捷的特點(diǎn)。


附圖是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)原理圖。
具體實(shí)施方式
下面參照附圖對(duì)本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)原理和工作原理作詳細(xì)敘述。 參照附圖，彈簧片孔深測(cè)量固定裝置，包括基座1，基座1的工作曲面上開(kāi)有讓位槽3和凹槽4，凹槽4內(nèi)裝有磁塊2，基座1的 工作曲面與待測(cè)彈簧片曲面相似且平行，基座1底面平面度為0.01。 本實(shí)用新型的工作原理是待測(cè)彈簧片憑重力及磁塊2的磁力快 速與基座1接觸，待測(cè)彈簧片的孔翻邊在重力及磁力作用下導(dǎo)入讓位 槽3中，使得彈簧片穩(wěn)定地形成水平狀態(tài)，水平度依靠基座1的工作 曲面保證，無(wú)需檢驗(yàn)員手工調(diào)整，確保了測(cè)量所需要的平面度。
權(quán)利要求1、彈簧片孔深測(cè)量固定裝置，包括基座(1)，其特征在于，基座(1)的工作曲面上開(kāi)有讓位槽(3)和凹槽(4)，凹槽(4)內(nèi)裝有磁塊(2)。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的彈簧片孔深測(cè)量固定裝置，其特征在于，所述的基座(1)的工作曲面與待測(cè)彈簧片曲面相似且平行。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的彈簧片孔深測(cè)量固定裝置，其特征在于，所述的基座(1)底面平面度為0.01。
專利摘要彈簧片孔深測(cè)量固定裝置，包括基座1，基座1的工作曲面上開(kāi)有讓位槽3和凹槽4，凹槽4內(nèi)裝有磁塊2，基座1的工作曲面與待測(cè)彈簧片曲面相似且平行，基座1底面平面度為0.01，使用時(shí)，將待測(cè)彈簧片憑重力及磁塊2的磁力快速與基座1接觸，使得彈簧片穩(wěn)定地形成水平狀態(tài)，無(wú)需檢驗(yàn)員手工調(diào)整，確保了測(cè)量所需要的平面度，具有測(cè)量精確快捷的特點(diǎn)。
文檔編號(hào)G01B5/02GK201407974SQ20092003324
公開(kāi)日2010年2月17日 申請(qǐng)日期2009年5月21日 優(yōu)先權(quán)日2009年5月21日
發(fā)明者何永科, 魯東見(jiàn) 申請(qǐng)人:彩虹集團(tuán)電子股份有限公司