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一種吸附區(qū)域可調(diào)的真空吸盤的制作方法

文檔序號:5619278閱讀:485來源:國知局
專利名稱:一種吸附區(qū)域可調(diào)的真空吸盤的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及吸盤,特別涉及一種吸附區(qū)域可調(diào)的真空吸盤。
背景技術(shù)
現(xiàn)有技術(shù)中,在工業(yè)生產(chǎn)中往往需要用到真空吸盤,通過真空吸盤將產(chǎn)品吸附起來,以便于進行下一加工工序。由于不同產(chǎn)品的尺寸大小不一樣,現(xiàn)有市面上的真空吸盤一般都是為了一款產(chǎn)品專門設(shè)計,所以,當在生產(chǎn)中對需要對不同產(chǎn)品進行吸附時,往往需要更換不同的真空吸盤。由于真空吸盤不通用,往往導致廠家中需要配備大量不同規(guī)格的真空吸盤,增加了生產(chǎn)成本,占據(jù)了大量的存儲空間,并且頻繁地更換真空吸盤,耽誤了正常的生產(chǎn)作業(yè),降低了企業(yè)的生產(chǎn)效率。

實用新型內(nèi)容本實用新型的目的在于,針對上述問題,提供一種設(shè)計合理的吸附區(qū)域可調(diào)的真空吸盤,其通用性高,可以實現(xiàn)在大范圍尺寸的調(diào)節(jié),從而能夠用于吸附不同尺寸大小的物品,其結(jié)構(gòu)簡單,調(diào)節(jié)、安裝簡單,能夠降低企業(yè)的生產(chǎn)成本,提高生產(chǎn)效率。本實用新型為實現(xiàn)上述目的所采用的技術(shù)方案為一種吸附區(qū)域可調(diào)的真空吸盤,其包括吸盤本體,所述吸盤本體包括相互扣合的上吸盤和下吸盤,該上吸盤與下吸盤之間形成抽真空腔體,于該下吸盤的下表面上均勻分布著若干個與該抽真空腔體相連通的吸附凹槽,于該吸附凹槽中可拆卸地設(shè)有一帶真空孔的第一堵頭或一不帶真空孔的第二堵頭。所述第一堵頭包括第一堵塊,所述真空孔設(shè)于該第一堵塊的中軸位置,該第一堵塊的頂端與該吸附凹槽的底部之間設(shè)有密封圈。所述第二堵頭包括第二堵塊,該第二堵塊的中軸位置為實心,該第二堵塊的頂端與該吸附凹槽的底部之間設(shè)有密封圈。所述吸附凹槽為圓柱形,該第一堵頭、第二堵頭的外形與該吸附凹槽相適配。本實用新型的有益效果為本實用新型結(jié)構(gòu)合理,其通用性高,可以實現(xiàn)在大范圍尺寸的調(diào)節(jié),從而能夠用于吸附不同尺寸大小的物品,其調(diào)節(jié)、安裝簡單,能夠降低企業(yè)的生產(chǎn)成本,提高生產(chǎn)效率。
以下結(jié)合附圖與實施例,對本實用新型進一步說明。

圖1是本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖1 ;圖2是本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖2 ;圖3是圖1中的A部放大示意圖。
具體實施方式
[0014]實施例見圖1至圖3,本實用新型一種吸附區(qū)域可調(diào)的真空吸盤,其包括吸盤本體,所述吸盤本體包括相互扣合的上吸盤I和下吸盤2,該上吸盤I與下吸盤2之間形成抽真空腔體3,于該下吸盤2的下表面上均勻分布著若干個與該抽真空腔體3相連通的吸附凹槽4,于該吸附凹槽4中可拆卸地設(shè)有一帶真空孔51的第一堵頭5或一不帶真空孔的第二堵頭6。所述第一堵頭5包括第一堵塊,所述真空孔51設(shè)于該第一堵塊的中軸位置,該第一堵塊的頂端與該吸附凹槽4的底部之間設(shè)有密封圈7。所述第二堵頭6包括第二堵塊,該第二堵塊的中軸位置為實心,該第二堵塊的頂端與該吸附凹槽4的底部之間設(shè)有密封圈7。所述吸附凹槽4為圓柱形,該第一堵頭5、第二堵頭6的外形與該吸附凹槽4相適配。當需要調(diào)整吸附區(qū)域大小時,根據(jù)所需要吸附產(chǎn)品的大小,在吸附凹槽4中相對應放置第一堵頭5或第二堵頭6即可。本實用新型結(jié)構(gòu)合理,其通用性高,可以實現(xiàn)在大范圍尺寸的調(diào)節(jié),從而能夠用于吸附不同尺寸大小的物品,其調(diào)節(jié)、安裝簡單,能夠降低企業(yè)的生產(chǎn)成本,提高生產(chǎn)效率。如本實用新型實施例所述,與本實用新型相同或相似結(jié)構(gòu)的其他吸附區(qū)域可調(diào)的真空吸盤,均在本實用新型保護范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種吸附區(qū)域可調(diào)的真空吸盤,其包括吸盤本體,其特征在于:所述吸盤本體包括相互扣合的上吸盤和下吸盤,該上吸盤與下吸盤之間形成抽真空腔體,于該下吸盤的下表面上均勻分布著若干個與該抽真空腔體相連通的吸附凹槽,于該吸附凹槽中可拆卸地設(shè)有一帶真空孔的第一堵頭或一不帶真空孔的第二堵頭。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸附區(qū)域可調(diào)的真空吸盤,其特征在于,所述第一堵頭包括第一堵塊,所述真空孔設(shè)于該第一堵塊的中軸位置,該第一堵塊的頂端與該吸附凹槽的底部之間設(shè)有密封圈。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸附區(qū)域可調(diào)的真空吸盤,其特征在于,所述第二堵頭包括第二堵塊,該第二堵塊的中軸位置為實心,該第二堵塊的頂端與該吸附凹槽的底部之間設(shè)有密封圈。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸附區(qū)域可調(diào)的真空吸盤,其特征在于,所述吸附凹槽為圓柱形,該第一堵頭、第二堵頭的外形與 該吸附凹槽相適配。
專利摘要本實用新型公開了一種吸附區(qū)域可調(diào)的真空吸盤,其包括吸盤本體,所述吸盤本體包括相互扣合的上吸盤和下吸盤,該上吸盤與下吸盤之間形成抽真空腔體,于該下吸盤的下表面上均勻分布著若干個與該抽真空腔體相連通的吸附凹槽,于該吸附凹槽中可拆卸地設(shè)有一帶真空孔的第一堵頭或一不帶真空孔的第二堵頭。本實用新型結(jié)構(gòu)合理,其通用性高,可以實現(xiàn)在大范圍尺寸的調(diào)節(jié),從而能夠用于吸附不同尺寸大小的物品,其調(diào)節(jié)、安裝簡單,能夠降低企業(yè)的生產(chǎn)成本,提高生產(chǎn)效率。
文檔編號F16B47/00GK202914510SQ201220511968
公開日2013年5月1日 申請日期2012年10月8日 優(yōu)先權(quán)日2012年10月8日
發(fā)明者梁添貴, 張斌 申請人:梁添貴
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