用于離子反應(yīng)鍍膜液體自動(dòng)循環(huán)裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及機(jī)械領(lǐng)域，尤其涉及一種用于離子反應(yīng)鍍膜液體自動(dòng)循環(huán)裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)時(shí)電鍍加工過(guò)程中，由于鍍膜的不均，電鍍液的濃差極化高，允許印記電流密封上限較低，因而電鍍速度低。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]本實(shí)用新型的目的在于提供一種能防止了鍍膜不均的用于離子反應(yīng)鍍膜液體自動(dòng)循環(huán)裝置，從而降低電鍍液的濃差極化，提高允許的陰極電流密度上限，從而提高了電鍍速度。
[0004]為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型的技術(shù)方案為:提供一種用于離子反應(yīng)鍍膜液體自動(dòng)循環(huán)裝置，包括離子反應(yīng)槽、輸出管道、磁力循環(huán)過(guò)濾機(jī)、輸入管道、離子反應(yīng)鍍膜件前后的循環(huán)鈦管，所述離子反應(yīng)槽的底部設(shè)有槽體液體出口及循環(huán)鈦管連接孔，所述輸出管道的輸入端及輸出端分別與所述槽體液體出口及所述磁力循環(huán)過(guò)濾機(jī)的輸入端密封相接，所述循環(huán)鈦管的輸入端密封插設(shè)于所述循環(huán)鈦管連接孔中，且與所述輸入管道的輸出端密封相接，所述輸入管道的輸入端與所述磁力循環(huán)過(guò)濾機(jī)的輸出端密封相接。
[0005]所述輸出管道及所述輸入管道上分別設(shè)有調(diào)節(jié)閥。
[0006]所述循環(huán)鈦管的數(shù)量為兩條。
[0007]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型用于離子反應(yīng)鍍膜液體自動(dòng)循環(huán)裝置將離子反應(yīng)槽的液體通過(guò)經(jīng)磁力循環(huán)過(guò)濾機(jī)輸送到均勻的循環(huán)鈦管至被鍍件周?chē)乐沽隋兡さ牟痪?，降低電鍍液的濃差極化，提高允許的陰極電流密度上限，從而提高了電鍍速度。
[0008]通過(guò)以下的描述并結(jié)合附圖，本實(shí)用新型將變得更加清晰，這些附圖用于解釋本實(shí)用新型的實(shí)施例。
【附圖說(shuō)明】
[0009]圖1為本實(shí)用新型用于離子反應(yīng)鍍膜液體自動(dòng)循環(huán)裝置的結(jié)構(gòu)圖。
【具體實(shí)施方式】
[0010]參考圖1，本實(shí)用新型用于離子反應(yīng)鍍膜液體自動(dòng)循環(huán)裝置100包括離子反應(yīng)槽10、輸出管道20、磁力循環(huán)過(guò)濾機(jī)30、輸入管道40、離子反應(yīng)鍍膜件前后的循環(huán)鈦管50。
[0011]所述離子反應(yīng)槽10的底部設(shè)有槽體液體出口 11及循環(huán)鈦管連接孔12。所述輸出管道20的輸入端及輸出端分別與所述槽體液體出口 11及所述磁力循環(huán)過(guò)濾機(jī)30的輸入端密封相接。所述循環(huán)鈦管50的輸入端密封插設(shè)于所述循環(huán)鈦管連接孔12中，且與所述輸入管道40的輸出端密封相接。所述輸入管道40的輸入端與所述磁力循環(huán)過(guò)濾機(jī)30的輸出端密封相接。所述輸出管道20及所述輸入管道40上分別設(shè)有調(diào)節(jié)閥60。本實(shí)施例中，所述循環(huán)鈦管50的數(shù)量為兩條。
[0012]本實(shí)用新型用于離子反應(yīng)鍍膜液體自動(dòng)循環(huán)裝置將離子反應(yīng)槽10的液體通過(guò)經(jīng)磁力循環(huán)過(guò)濾機(jī)30輸送到均勻的循環(huán)鈦管50至被鍍件周?chē)?，防止了鍍膜的不均，降低電鍍液的濃差極化，提高允許的陰極電流密度上限，從而提高了電鍍速度，尤其適用于連續(xù)電鍍。
[0013]以上結(jié)合最佳實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行描述，但本實(shí)用新型并不局限于以上揭示的實(shí)施例，而應(yīng)當(dāng)涵蓋各種根據(jù)本實(shí)施例的本質(zhì)進(jìn)行的修改、等效組合。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種用于離子反應(yīng)鍍膜液體自動(dòng)循環(huán)裝置，其特征在于:包括離子反應(yīng)槽、輸出管道、磁力循環(huán)過(guò)濾機(jī)、輸入管道、離子反應(yīng)鍍膜件前后的循環(huán)鈦管，所述離子反應(yīng)槽的底部設(shè)有槽體液體出口及循環(huán)鈦管連接孔，所述輸出管道的輸入端及輸出端分別與所述槽體液體出口及所述磁力循環(huán)過(guò)濾機(jī)的輸入端密封相接，所述循環(huán)鈦管的輸入端密封插設(shè)于所述循環(huán)鈦管連接孔中，且與所述輸入管道的輸出端密封相接，所述輸入管道的輸入端與所述磁力循環(huán)過(guò)濾機(jī)的輸出端密封相接。2.如權(quán)利要求1所述的用于離子反應(yīng)鍍膜液體自動(dòng)循環(huán)裝置，其特征在于:所述輸出管道及所述輸入管道上分別設(shè)有調(diào)節(jié)閥。3.如權(quán)利要求1所述的用于離子反應(yīng)鍍膜液體自動(dòng)循環(huán)裝置，其特征在于:所述循環(huán)鈦管的數(shù)量為兩條。
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)一種用于離子反應(yīng)鍍膜液體自動(dòng)循環(huán)裝置，包括離子反應(yīng)槽、輸出管道、磁力循環(huán)過(guò)濾機(jī)、輸入管道、離子反應(yīng)鍍膜件前后的循環(huán)鈦管，離子反應(yīng)槽的底部設(shè)有槽體液體出口及循環(huán)鈦管連接孔，輸出管道的輸入端及輸出端分別與槽體液體出口及磁力循環(huán)過(guò)濾機(jī)的輸入端密封相接，循環(huán)鈦管的輸入端密封插設(shè)于循環(huán)鈦管連接孔中，且與輸入管道的輸出端密封相接，輸入管道的輸入端與磁力循環(huán)過(guò)濾機(jī)的輸出端密封相接。本實(shí)用新型用于離子反應(yīng)鍍膜液體自動(dòng)循環(huán)裝置將離子反應(yīng)槽的液體通過(guò)經(jīng)磁力循環(huán)過(guò)濾機(jī)輸送到均勻的循環(huán)鈦管至被鍍件周?chē)乐沽隋兡さ牟痪?，降低電鍍液的濃差極化，提高允許的陰極電流密度上限，從而提高了電鍍速度。
【IPC分類(lèi)】C25D21/10, C25D21/06
【公開(kāi)號(hào)】CN204690156
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520375885
【發(fā)明人】張德友
【申請(qǐng)人】東莞市明谷一納米材料有限公司
【公開(kāi)日】2015年10月7日
【申請(qǐng)日】2015年6月3日