本實(shí)用新型涉及鍍膜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種地磚多弧離子磁控鍍膜機(jī)。

背景技術(shù)：

隨著科技的不斷發(fā)展，物料表面的鍍膜技術(shù)也在不斷地發(fā)展，起始的鍍膜技術(shù)，一般都是先對(duì)物料表面進(jìn)行烘烤，然后把需要鑲嵌的膜貼敷在物料表面，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)物料表面鍍膜的目的。但是這種鍍膜方法使用條件有限，而且所鍍的膜容易脫落。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的目的在于提供一種地磚多弧離子磁控鍍膜機(jī)，以解決上述背景技術(shù)中提出的鍍膜技術(shù)使用條件有限和鍍膜不牢固的問(wèn)題。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案，一種地磚多弧離子磁控鍍膜機(jī)，包括進(jìn)料口、瓷磚監(jiān)測(cè)頭、閥門控制器、閥門、真空室、物料承接板、磁場(chǎng)線圈、水冷容器、輸送裝置、電機(jī)、出料口、陽(yáng)極接地導(dǎo)線、陰極導(dǎo)線和控制開(kāi)關(guān)，所述進(jìn)料口上端設(shè)有瓷磚監(jiān)測(cè)頭，且瓷磚監(jiān)測(cè)頭上端連接閥門控制器，所述閥門控制器右端安裝有閥門，且閥門右端設(shè)有真空室，所述真空室下表面設(shè)有物料承接板，且物料承接板下端設(shè)有磁場(chǎng)線圈，所述磁場(chǎng)線圈下部安裝有水冷容器，所述物料承接板左右兩側(cè)連接輸送裝置，其輸送裝置下部設(shè)有電機(jī)，且輸送裝置右側(cè)末端設(shè)有出料口，所述陽(yáng)極接地導(dǎo)線上端連接真空室，且其下端連接地面，所述陰極導(dǎo)線上端連接物料承接板，且其下端連接控制開(kāi)關(guān)。

優(yōu)選的，所述進(jìn)料口和出料口關(guān)于真空室對(duì)稱安置。

優(yōu)選的，所述閥門為活動(dòng)結(jié)構(gòu)。

優(yōu)選的，所述水冷容器與物料承接板銜接處填充有硅膠。

優(yōu)選的，所述控制開(kāi)關(guān)為螺旋調(diào)節(jié)形式，且其電壓調(diào)節(jié)范圍0-1KV,其電流調(diào)節(jié)范圍0-75A。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是：該地磚多弧離子磁控鍍膜機(jī)在真空的條件下，對(duì)物料進(jìn)行通電，利用陰粒子在磁場(chǎng)的環(huán)境下向著陽(yáng)極吸附實(shí)現(xiàn)鍍膜，不僅能夠提高鍍膜的牢固性，還不受物料的材質(zhì)局限，實(shí)現(xiàn)鍍膜。在對(duì)物料鍍膜前，負(fù)偏壓先去除物料表面所沾染的氣體和污染物，在涂層期間，又為離子提供能量，使涂層與物料緊密結(jié)合，控制開(kāi)關(guān)為螺旋調(diào)節(jié)形式，可以根據(jù)不同的物料，來(lái)選擇涂層顆粒物的大小和數(shù)量，水冷容器與物料承接板銜接處填充有硅膠，能夠在設(shè)備在涂層期間，更好吸附真空室內(nèi)的溫度，避免溫度過(guò)高，而對(duì)物料造成損壞。

附圖說(shuō)明

圖1為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中：1、進(jìn)料口，2、瓷磚監(jiān)測(cè)頭，3、閥門控制器，4、閥門，5、真空室，6、物料承接板，7、磁場(chǎng)線圈，8、水冷容器，9、輸送裝置，10、電機(jī)，11、出料口，12、陽(yáng)極接地導(dǎo)線，13、陰極導(dǎo)線，14、控制開(kāi)關(guān)。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本實(shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。

請(qǐng)參閱圖1，本實(shí)用新型提供一種技術(shù)方案：一種地磚多弧離子磁控鍍膜機(jī)，包括進(jìn)料口1、瓷磚監(jiān)測(cè)頭2、閥門控制器3、閥門4、真空室5、物料承接板6、磁場(chǎng)線圈7、水冷容器8、輸送裝置9、電機(jī)10、出料口11、陽(yáng)極接地導(dǎo)線12、陰極導(dǎo)線13和控制開(kāi)關(guān)14，進(jìn)料口1上端設(shè)有瓷磚監(jiān)測(cè)頭2，且瓷磚監(jiān)測(cè)頭2上端連接閥門控制器3，進(jìn)料口1和出料口11關(guān)于真空室5對(duì)稱安置，閥門控制器3右端安裝有閥門4，且閥門4右端設(shè)有真空室5，閥門4為活動(dòng)結(jié)構(gòu)，真空室5下表面設(shè)有物料承接板6，且物料承接板6下端設(shè)有磁場(chǎng)線圈7，磁場(chǎng)線圈7下部安裝有水冷容器8，水冷容器8與物料承接板6銜接處填充有硅膠，能夠在設(shè)備在涂層期間，更好吸附真空室5內(nèi)的溫度，物料承接板6左右兩側(cè)連接輸送裝置9，其輸送裝置9下部設(shè)有電機(jī)10，且輸送裝置9右側(cè)末端設(shè)有出料口11，陽(yáng)極接地導(dǎo)線12上端連接真空室5，且其下端連接地面，陰極導(dǎo)線13上端連接物料承接板6，且其下端連接控制開(kāi)關(guān)14，控制開(kāi)關(guān)14為螺旋調(diào)節(jié)形式，且其電壓調(diào)節(jié)范圍0-1KV,其電流調(diào)節(jié)范圍0-75A，可以根據(jù)不同的物料，來(lái)選擇涂層顆粒物的大小和數(shù)量。

工作原理：在使用該地磚多弧離子磁控鍍膜機(jī)時(shí)，先給設(shè)備接通電源，然后從進(jìn)料口1放入所需要涂層的物料，輸送裝置9在電機(jī)10的作用下，對(duì)物料進(jìn)行運(yùn)輸，在物料運(yùn)輸至瓷磚監(jiān)測(cè)頭2下部時(shí)，瓷磚監(jiān)測(cè)頭2檢測(cè)到物料，然后把信息傳送給閥門控制器3，閥門4在閥門控制器3的作用下開(kāi)啟，隨后物料被輸送裝置9運(yùn)輸至真空室5內(nèi)，然后通過(guò)控制開(kāi)關(guān)14給物料承接板6接通電流，物料在負(fù)偏壓的作用下，表面的空氣和污染物被去除，真空室5內(nèi)的陰極離子向著物料吸附，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)物料表面涂層鍍膜的目的，物料鍍膜結(jié)束后，從出料口11運(yùn)輸至設(shè)備外。

盡管參照前述實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行了詳細(xì)的說(shuō)明，對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，其依然可以對(duì)前述各實(shí)施例所記載的技術(shù)方案進(jìn)行修改，或者對(duì)其中部分技術(shù)特征進(jìn)行等同替換,凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。