專利名稱：：一種三價鍍鉻工藝及其鍍液的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及電鍍領(lǐng)域，具體涉及一種三價鍍鉻工藝及其鍍液。
背景技術(shù)：
：目前，鍍鉻已經(jīng)成為電鍍行業(yè)中應(yīng)用最廣泛的鍍種之一，電鍍鉻利用鍍液中的鉻離子在陰極上還原而得到金屬鉻鍍層，屬于一種陰極電鍍過程；長期以來，鍍鉻使用鉻酸，鉻酸毒性很大，且是致癌物質(zhì)，已引起人們的廣泛關(guān)注，隨著人們對環(huán)保意識的增強(qiáng)，三價鉻電鍍的研究和應(yīng)用，越來越受到人們的青睞。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的是提供一種三價鍍鉻工藝，使用該鍍鉻工藝的毒性低，環(huán)保節(jié)約，得到的電鍍層細(xì)致光亮、結(jié)合力牢固、孔隙率低。本發(fā)明的一種三價鍍鉻工藝，包括以下步驟-a、以鉛銀合金為陽極，以需鍍鉻的基體為陰極；b、以35-45g/L的Cr3+,48-54g/L的A12(S04)3，20-30g/L的Na2C204，59-64g/L的Na2S04,25-35g/L的NaF，20-40g/L的^803為陰極電鍍液，以16-25g/L的Cr6+，48_54g/L的Al2(S04)3，20-30g/L的Na2C204，59_64g/L的N&S04，25-35g/L的NaF，20-40g/L的1^03為陽極電鍍液；c、分別將陰極和陽極插入帶隔膜的雙室電解槽中，保持極間距為40-50mm，通電開始電鍍。本發(fā)明的一種三價鍍鉻工藝，以鉛銀合金為陽極，鉛銀合金取材方便，價格便宜，電鍍效率和電鍍效果都非常好，以需鍍鉻的基體為陰極，在電鍍之前先對陰極基體進(jìn)行打磨、除油、水洗、稀酸浸泡等處理，確保電鍍時得到的鍍層具有足夠大的附著力，以硫酸鉻、硫酸鋁、草酸鈉、硫酸鈉、氟化鈉和硼酸為電鍍液，保持陰陽極間距為40-50nim，可減小槽電壓，在帶有隔膜的雙室電解槽中通電開始電鍍，可防止陰極電鍍液和陽極電鍍液相混合影響反應(yīng)，本發(fā)明三價鍍鉻的反應(yīng)原理如下在陰極，Cr"在電極表面得電子發(fā)生還原反應(yīng)，首先生成C+，進(jìn)一步還原得到金屬鉻的電鍍物，陽極主要是水放電生成氫離子和氧氣，詳見反應(yīng)式(l)禾口(2)，同時電鍍液中的草酸鈉、氟化鈉可提高電流效率，硫酸鉻、硫酸鋁可減少電能的消耗，提高電鍍液的分散能力，硼酸可調(diào)節(jié)電鍍液pH的穩(wěn)定，所以使用本發(fā)明鍍鉻工藝的毒性低，環(huán)保節(jié)約，得到的電鍍層細(xì)致光亮、結(jié)合力牢固、孔隙率低。陰極反應(yīng)Cr3++3e——Cr(1)陽極反應(yīng)2H20-4e——02+4H+(2)本發(fā)明的另一目的是提供一種三價鍍鉻的電鍍液，使用該電鍍液的電鍍效率高，環(huán)保節(jié)約，得到的電鍍層細(xì)致光亮、結(jié)合力牢固、孔隙率低。本發(fā)明的一種三價鍍鉻的電鍍液，其組成如下陰極電鍍液含有35-45g/L的Cr3+，48-54g/L的Al2(S04)"20-30g/L的Na2CA,59-64g/L的Na2S04，25-35g/L的NaF，20-40g/L的H3B03;陽極電鍍液含有16-25g/L的Cr6+，48-54g/L的Al2(S04)3,20-30g/L的Na2CA，59-64g/L的Na2S04，25-35g/L的NaF，20-40g/L的H3B03。本發(fā)明的一種三價鍍鉻的電鍍液，以草酸鈉為絡(luò)合劑，可以獲得具有塑性，沒有裂紋的鉻鍍層，提高陰極電流效率，同時加入氟化鈉，氟離子可進(jìn)一步提高陰極電流效率，硫酸鈉和硫酸鋁作為導(dǎo)電鹽，可減少電能的消耗，提高電鍍液的分散能力，用硼酸作緩沖劑，維持電鍍液PH的穩(wěn)定，此外硫酸鋁也具有良好的導(dǎo)電性和緩沖能力，電鍍液的濃度保持在一定的范圍內(nèi)，可以確保本發(fā)明的電鍍液的電鍍效率高，環(huán)保節(jié)約，得到的電鍍層細(xì)致光亮、結(jié)合力牢固、孔隙率低。圖1是本發(fā)明中電鍍時間為15分鐘鍍層的SEM圖；圖2是本發(fā)明中電鍍時間為30分鐘鍍層的SEM圖；圖3是本發(fā)明中電流效率隨電流密度的變化示意圖4是本發(fā)明中電流效率隨pH的變化示意圖。具體實施例方式本發(fā)明的一種三價鍍鉻工藝，包括以下步驟a、以鉛銀合金為陽極，以需鍍鉻的基體為陰極；b、以35-45g/L的Cr3+，48-54g/L的A12(S04)3，20_30g/L的Na2C204，59-64g/L的Na2S04,25-35g/L的NaF，20-40g/L的1^03為陰極電鍍液，以16-25g/L的Cr6+，48-54g/L的A12(S04)3，20_30g/L的Na2C204，59_64g/L的Na2S04，25-35g/L的NaF，20-40g/L的}^03為陽極電鍍液；c、分別將陰極和陽極插入帶隔膜的雙室電解槽中，保持極間距為40-50ram，通電開始電鍍。本發(fā)明的一種三價鍍鉻工藝，以鉛銀合金為陽極，鉛銀合金取材方便，價格便宜，電鍍效率和電鍍效果都非常好，以需鍍鉻的基體為陰極，在電鍍之前先對陰極基體進(jìn)行打磨、除油、水洗、稀酸浸泡等處理，確保電鍍時得到的鍍層具有足夠大的附著力，以硫酸鉻、硫酸鋁、草酸鈉、硫酸鈉、氟化鈉和硼酸為電鍍液，保持陰陽極間距為40-50mm，可減小槽電壓，在帶有隔膜的雙室電解槽中通電開始電鍍，可防止陰極電鍍液和陽極電鍍液相混合影響反應(yīng)，本發(fā)明三價鍍鉻的反應(yīng)原理如下在陰極，Cr"在電極表面得電子發(fā)生還原反應(yīng)，首先生成02+，進(jìn)一步還原得到金屬鉻的鍍物，陽極主要是水放電生成氫離子和氧氣，詳見反應(yīng)式(l)和(2)，同時電鍍液中的草酸鈉、氟化鈉可提高電流效率，硫酸鉻、硫酸鋁可減少電能的消耗，提高電鍍液的分散能力，硼酸可調(diào)節(jié)電鍍液pH的穩(wěn)定，所以使用本發(fā)明鍍鉻工藝的毒性低，環(huán)保節(jié)約，得到的電鍍層細(xì)致光亮、結(jié)合力牢固、孔隙率低。陰極反應(yīng)Cr3++3e——Cr(1)陽極反應(yīng)t2H20-4e——02+4H+(2)在本發(fā)明中，所述的陰極面積稍大于陽極面積。采用這樣的技術(shù)方案，陰極面積稍大于陽極面積，可以防止因電流分布不均勻產(chǎn)生邊緣效應(yīng)，避免生成枝晶。本發(fā)明中，所述的陰極電鍍液加入十六垸基三甲基氯化銨，十六烷基三甲基氯化銨的加入量是10-30g/L。采用這樣的技術(shù)方案，十六垸基三甲基氯化銨也稱作1631，電鍍過程是一個在極化狀態(tài)下的還原過程，要使金屬在陰極表面還原鍍，必須使陰極的電極電位偏離其平衡電位而產(chǎn)生負(fù)移，并負(fù)移到金屬析出電位時，才可能發(fā)生金屬電鍍；在與H+競爭析出過程中，盡可能使H+極化增大，減小析氫，從而增加金屬鉻析出，促使陰極極化的方法很多，如加大陰極電流密度、加入特種絡(luò)合劑、加入表面活性劑等，本發(fā)明中是加入1631作為阻氫劑，阻氫劑的加入量是10-30g/L，陰極析氫極化作用特別強(qiáng)，原理是阻氫劑能在金屬電極上進(jìn)行特性吸附，而使電極過程受到阻礙，從而使反應(yīng)速度大大降低，也就是使陰極產(chǎn)生了極化，同時，有機(jī)表面的活性物質(zhì)可以被吸附在陰極表面的氫的還原活性的位置上，使放電反應(yīng)所占有的陰極面積減小，所以加入阻氫劑可以減少氫的析出，提高金屬鍍鉻的電流效率，同時可降低界面張力，消除或減少鍍層表面的針孔和麻點。在本發(fā)明中，所述的陰極電鍍液和陽極電鍍液用濃硫酸和濃氨水調(diào)節(jié)pH值在1.5-2.0之間。采用這樣的技術(shù)方案，采用濃硫酸和濃氨水調(diào)節(jié)電鍍液的PH值，可以避免pH值過低或過高生成氫氣過多或生成氫氧化鉻沉淀，同時硫酸根離子和銨根離子不會透過雙室電鍍槽的離子交換膜而影響陰、陽極室的比重，如圖4所示，35"C時，以30A/dm2的電流密度對pH為1.5-1.9的電鍍液進(jìn)行30min的電鍍，得到不同pH值對電流效率的影響，由圖4可知，pH較小時，電鍍液中氫離子濃度較高，析氫的濃差極化小，氫的析出電位較正，容易發(fā)生析氫副反應(yīng)，因此，此時金屬鉻電鍍的效率較低，隨著電鍍液中氫離子濃度較低，析氫副反應(yīng)的劇烈程度下降，電鍍鉻效率不斷升高，當(dāng)pH超過1.7時，極板附近產(chǎn)生的0H—來不及擴(kuò)散，使C+以綠色的Cr(OH)3沉淀的形式附著在電極表面，阻礙了Cr3+在陰極上放電，使得電鍍效率下降，因此，優(yōu)選生產(chǎn)中應(yīng)將電鍍液pH值控制在1.6-1.7之間。在本發(fā)明中，所述的陰極電鍍液和陽極電鍍液的溫度為30-45°C。采用這樣的技術(shù)方案，可將電鍍液加熱到30-45'C開始電鍍，本發(fā)明一般優(yōu)選水浴加熱，調(diào)節(jié)電鍍液pH4.65,以27.5A/dm2的電流密度，分別對溫度為30。C，35°C，40°C，45nC時的電鍍液進(jìn)行30min的電鍍，由表l可見，當(dāng)電鍍溫度為35"C時電流效率最大，溫度升高有利于電極反應(yīng)的進(jìn)行，當(dāng)溫度從3(TC升高到35r的過程中，三價鉻離子向陰極的擴(kuò)散速度加快，減小了析鉻的濃差極化，所以電流效率增加，但隨著溫度的繼續(xù)升高，電流效率又有所降低，這是由兩方面的原因造成的一是，升高溫度使得氫從鉻電極脫附活化能減少，析氫更容易；二是，升高溫度加快了已經(jīng)鍍到陰極上的金屬鉻的化學(xué)溶解，導(dǎo)致電流效率降低，所以本發(fā)明中優(yōu)選的溫度范圍為35-40°C。表l:溫度對電流效率的影響<table>tableseeoriginaldocumentpage8</column></row><table>本發(fā)明中，所述的陽極和陰極插入雙室電解槽是指陰極和陽極帶電插入雙室電解槽。采用這樣的技術(shù)方案，所謂陰極和陽極帶電插入雙室電解槽，就是將預(yù)處理后的陰極基體接電鍍電源的負(fù)極，陽極接電源正極，在接通電源的情況下，將陰極迅速插入雙室電解槽中開始電鍍，這樣將陰、陽極帶電插入電解槽避免了出現(xiàn)雙性電極現(xiàn)象，也就避免了鍍件上靠近陰極一側(cè)的表面在通電前發(fā)生陽極反應(yīng)而生成氧化膜影響電鍍。本發(fā)明中，所述的開始電鍍是先在正常電流密度的1.5-3.0倍的電流密度下電鍍30-60秒，然后恢復(fù)正常電流密度25-40安培每平方分米鍍鉻。采用這樣的技術(shù)方案，對于高碳鋼、合金鋼等材料制成的陰極基體，以及形狀復(fù)雜、有凹腔和表面粗糙的陰極基體，在電鍍開始時需要使用沖擊電流，即在剛開始電鍍時，對鍍件施加比正常情況下高1.5-3.0倍的電流密度，使鍍件表面迅速沉積上一薄層微細(xì)鍍層后，迅速恢復(fù)到正常的電流密度，這樣可使零件表面的鍍層分布均勻且結(jié)合牢固，如圖3所示，在本發(fā)明中，所述的電流密度為27.5-30A/dm2。在35。C，pH=1.65時，分別以25-37.5A/dm2的陰極電流密度對電鍍液進(jìn)行30min的電鍍操作，得到不同陰極電流密度對電流效率的影響，由圖3可知，隨著電流密度的增大，金屬鉻電鍍的電流效率也不斷升高，在電流密度為30A/dm2左右時，電流效率達(dá)到最高值，繼續(xù)增大電流密度，陰極電流密度下降，這是由于電流密度的增加，使陰極極化變大，陰極的析氫過電位隨電流密度的加大不斷升高，析氫電位隨之負(fù)移，阻礙了析氫副反應(yīng)的發(fā)生，電流密度的增加也使金屬鉻的析出電位負(fù)移，當(dāng)電流密度小于30A/dm2時，電流密度的增加對析氫過電位的影響比對析鉻過電位的影響大，即此時析氫平衡單位負(fù)移程度要大于析鉻平衡單位負(fù)移的程度，所以金屬鉻電鍍的電流效率隨電流密度增加有所提高；當(dāng)電流密度大于30A/dm2時，析鉻平衡電位負(fù)移程度又會略大于析氫平衡電位負(fù)移程度，表現(xiàn)為金屬鉻電鍍的效率又稍有下降，此時由于電流密度過大，使極板上鍍的絡(luò)金屬被燒焦，發(fā)黑，金屬的結(jié)晶質(zhì)量差，有鼓泡現(xiàn)象，所以本發(fā)明優(yōu)選的電流密度為27.5-30A/dm2。如圖1、2所示，在本發(fā)明中，所述的電鍍時間為10-30分鐘。在電鍍液pH值4.61，以34.5A/dm2的電流密度，對溫度為35"C時的電鍍液分別進(jìn)行15min和30min的電鍍，電流效率分別為29.46%和21.9%，由此可見，隨著電鍍時間的持續(xù)，電鍍效率降低，這是因為隨著電鍍的進(jìn)行，陽極產(chǎn)生的H+濃度增大，破壞了溶液中H+濃度平衡，由于濃差使得陽極的H+向陰極擴(kuò)散，導(dǎo)致陰極附近pH降低，放氫加大，使鍍的金屬鉻減少，并且實驗發(fā)現(xiàn)隨著電鍍時間延長，鍍層光澤度變差，如圖1所示，電鍍時間為15min鍍層的SEM圖，可以看到鍍層微粒呈明顯的立方結(jié)構(gòu)，顆粒大小分布均勻，晶粒輪廓清晰，沒有明顯的結(jié)塊，表面不存在雜相；如圖2所示，電鍍時間為30min的SEM圖，可以看到晶體的晶形明顯變差，顆粒分布不太均勻，輪廓比較模糊，所以本發(fā)明的電鍍時間優(yōu)選15分鐘，這樣得到的鍍層質(zhì)量好，避免了電鍍時間過短而造成的鍍鉻不充分，同時也避免了電鍍時間過長而造成的鍍層分布不均等問題。本發(fā)明的一種三價鍍鉻的電鍍液，其組成如下陰極電鍍液含有35-45g/L的Cr3、48-54g/L的AL(S04)3，20-30g/L的Na2CA，59-64g/L的Na2S04，25-35g/L的NaF，20-40g/L的H3B(X;陽極電鍍液含有16-25g/L的Cr6+，48-54g/L的Al2(S04)3，20-30g/L的Na2G04，59-64g/L的Na2S04，25-35g/L的NaF，20-40g/L的H3B03。本發(fā)明的一種三價鍍鉻的電鍍液，以草酸鈉為絡(luò)合劑，可以獲得具有塑性，沒有裂紋的鉻鍍層，提高陰極電流效率，同時加入氟化鈉，氟離子可進(jìn)一步提高陰極電流效率，硫酸鈉和硫酸鋁作為導(dǎo)電鹽，可減少電能的消耗，提高電鍍液的分散能力，用硼酸作緩沖劑，維持電鍍液pH的穩(wěn)定，此外硫酸鋁也具有良好的導(dǎo)電性和緩沖能力，電鍍液的濃度保持在一定的范圍內(nèi)，可以確保本發(fā)明的電鍍液的電鍍效率高，環(huán)保節(jié)約，得到的電鍍層細(xì)致光亮、結(jié)合力牢固、孔隙率低。在本發(fā)明的一種三價鍍鉻的電鍍液中，所述的陰極電鍍液中含有10-30g/L的十六烷基三甲基氯化銨。采用這樣的技術(shù)方案，在陰極電鍍液中加入1631，，可阻止陰極氫氣的析出，提高陰極電流效率，同時可降低界面張力，消除和減少鍍層表面的針孔和麻點，一般1631的加入量為10-30g/L，可確保電鍍效果達(dá)到最佳。實施例1以鉛銀合金為陽極，以需鍍鉻的基體為陰極；陽極電鍍液組成Cr6+16g/L，Al2(S04)348g/L，Na2C20420g/L，Na2S0459g/L，NaF25g/L;陰極電鍍液組成Cr3+35g/L，Al2(S04)348g/L，Na2C20420g/L，Na2S0459g/L，NaF25g/L，10g/L1631，H3B0320g/L;電解槽的溫度控制在36'C士0.5，接通電路，同時倒入陰極電鍍液和陽極電鍍液各250ml放入帶隔膜的雙室電解槽中，電流密度40Adm—2，電流2.04A，陰極電鍍液pH值為1.91，陰極初始重量3.2165g，隨著電鍍反應(yīng)的進(jìn)行，陰極有氣泡析出，即是氫氣的析出，陽極有氧氣析出，電解0.5小時達(dá)到終點后，分別倒出陰極電鍍液和陽極電鍍液，這時陰極電鍍液的pH值為1.97，在陰極上鍍有金屬光澤的鉻鍍層，同時有少許的綠色沉淀物在陰極板上，洗滌后干燥稱得陰極重量3.3623g，電鍍效率22.09%。實施例2以鉛銀合金為陽極，以需鍍鉻的基體為陰極；陽極電鍍液組成Cr6+20g/L，Al2(S04)351g/L，Na2C20430g/L，Na2S0460g/L，NaF35g/U陰極電鍍液組成Cr3+40g/L，Al2(S04)351g/L，Na2CA20-30g/L，Na2S0460g/L，NaF35g/L，20g/L1631，H3B0330g/L;電解槽的溫度控制在35t:土l，接通電路，同時倒入陰極電鍍液和陽極電鍍液各250ml放入帶隔膜的雙室電解槽中，電流密度34.5A*dm—2，電流1.76A,陰極電鍍液pH值為1.61，陰極初始重量3.2485g，隨著電鍍反應(yīng)的進(jìn)行，陰極有氣泡析出，即是氫氣的析出，陽極有氧氣析出，電鍍15分鐘達(dá)到終點后，分別倒出陰極電鍍液和陽極電鍍液，這時陰極電鍍液的pH值為1.70，在陰極上鍍有金屬光澤的鉻鍍層，洗滌后干燥稱得陰極重量3.3295g，電鍍效率29.46%。實施例3以鉛銀合金為陽極，以需鍍鉻的基體為陰極；陽極電鍍液組成Cr6+20g/L，Al2(S04)351g/L，Na2C20430g/L，Na2S0460g/L，NaF35g/L;陰極電鍍液組成Cr3+40g/L，Al2(S04)351g/L，Na2C20420-30g/L，Na2S0460g/L，NaF35g/L，20g/L1631，H3B0330g/L;電解槽的溫度控制在35。C士1，接通電路，同時倒入陰極電鍍液和陽極電鍍液各250ml放入帶隔膜的雙室電解槽中，電流密度30Adm—2,，陰極初始重量3.1914g，隨著電鍍的進(jìn)行，陰極有氣泡析出，即是氫氣的析出，陽極有氧氣析出，電鍍30分鐘達(dá)到終點后，分別倒出陰極電鍍液和陽極電鍍液，這時陰極電鍍液的pH值為1.71，在陰極上鍍有金屬光澤的鉻鍍層，洗滌后干燥稱得陰極重量3.2760g，電鍍效率17.09%。實施例4以鉛銀合金為陽極，以需鍍鉻的基體為陰極；陽極電鍍液組成Cr6+25g/L，Al2(S04)354g/L，Na2C20430g/L，Na2S0464g/L，NaF35g/L;陰極電鍍液組成Cr3+45g/L，Al2(S04)354g/L，Na2CA30g/L,Na2S0464g/L，NaF35g/L，H3B0340g/L;電解槽的溫度控制在35°C±1，接通電路，同時倒入陰極電鍍液和陽極電鍍液各250ml放入帶隔膜的雙室電解槽中，電流密度27.5A'dm—2，電流1.40A,陰極電鍍液pH值為1.69，陰極初始重量3.0739g，隨著電鍍反應(yīng)的進(jìn)行，陰極有大量氣泡析出，即是氫氣的析出，陽極有氧氣析出，電鍍30分鐘達(dá)到終點后，分別倒出陰極電鍍液和陽極電鍍液，這時陰極電鍍液的pH值為1.74，在陰極上鍍有金屬光澤的鉻鍍層，洗滌后干燥稱得陰極重量3.1188g，電鍍效率10%。實施例5以鉛銀合金為陽極，以需鍍鉻的基體為陰極；陽極電鍍液組成Cr6+25g/L，Al"S04)354g/L，Na2C20425g/L，Na2S0464g/L，NaF35g/L;陰極電鍍液組成Cr3+45g/L，Al2(S04)354g/L，Na2CA25g/L，Na2S0464g/L,NaF35g/L，30g/L1631，H3B0340g/L。電解槽的溫度控制在35°C±1，接通電路，同時倒入陰極電鍍液和陽極電鍍液各250ml放入帶隔膜的雙室電解槽中，電流密度32.5A*dm—2，電流1.66A,陰極電鍍液pH值為1.65，陰極初始重量3.1254g，隨著電鍍的進(jìn)行，陰極有氣泡析出，即是氫氣的析出，陽極有氧氣析出，電鍍30分鐘達(dá)到終點后，分別倒出陰極電鍍液和陽極電鍍液，這時陰極電鍍液的pH值為1.68，在陰極上鍍有金屬光澤的鉻鍍層，洗滌后干燥稱得陰極重量3.2475g，電鍍效率22.87%。權(quán)利要求1、一種三價鍍鉻工藝，包括以下步驟a、以鉛銀合金為陽極，以需鍍鉻的基體為陰極；b、以35-45g/L的Cr3+，48-54g/L的Al2(SO4)3，20-30g/L的Na2C2O4，59-64g/L的Na2SO4，25-35g/L的NaF，20-40g/L的H3BO3為陰極電鍍液，以16-25g/L的Cr6+，48-54g/L的Al2(SO4)3，20-30g/L的Na2C2O4，59-64g/L的Na2SO4，25-35g/L的NaF，20-40g/L的H3BO3為陽極電鍍液；c、分別將陰極和陽極插入帶隔膜的雙室電解槽中，保持極間距為40-50mm，通電開始電鍍。2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的三價鍍鉻工藝，其特征在于所述的陰極的面積稍大于陽極的面積。3、根據(jù)權(quán)利要求1所述的三價鍍鉻工藝，其特征在于所述的陰極電鍍液加入十六烷基三甲基氯化銨，十六烷基三甲基氯化銨的加入量是10-30g/L。4、根據(jù)權(quán)利要求1所述的三價鍍鉻工藝，其特征在于所述的陰極電鍍液和陽極電鍍液用濃硫酸和濃氨水調(diào)節(jié)pH值在1.5-2.0之間。5、根據(jù)權(quán)利要求1所述的三價鍍鉻工藝，其特征在于所述的陰極電鍍液和陽極電鍍液的溫度為30-45°C。6、根據(jù)權(quán)利要求1所述的三價鍍鉻工藝，其特征在于所述的陽極和陰極插入雙室電解槽是指陰極和陽極帶電插入雙室電解槽。7、根據(jù)權(quán)利要求1所述的三價鍍鉻工藝，其特征在于所述的開始電鍍是先在正常電流密度的1.5-3.0倍的電流密度下電鍍30-60秒，然后恢復(fù)正常電流密度25-40安培每平方分米鍍鉻。8、根據(jù)權(quán)利要求1所述的三價鍍鉻工藝，其特征在于所述的電鍍時間為10-3()分鐘。9、一種三價鍍鉻的電鍍液，其特征在于陰極電鍍液含有35-45g/L的Cr3+，48-54g/L的A12(S04)3，20_30g/L的Na2C204，59-64g/L的Na2S04，25-35g/L的NaF，20—40g/L的H3B03;陽極電鍍液含有16-25g/L的Cr6+，48-54g/L的A12(S0》3，20-30g/L的Na2C204，59-64g/L的Na2S04，25-35g/L的NaF，20-40g/L的HsB03。10、根據(jù)權(quán)利要求9所述的電鍍液，其特征在于所述的陰極電鍍液中含有10-30g/L的十六垸基三甲基氯化銨。全文摘要本發(fā)明涉及電鍍領(lǐng)域，具體涉及一種三價鍍鉻工藝及其鍍液。本發(fā)明的一種三價鍍鉻工藝，包括以下步驟以鉛銀合金為陽極，以需鍍鉻的基體為陰極；以35-45g/L的Cr³⁺，48-54g/L的Al₂(SO₄)₃，20-30g/L的Na₂C₂O₄，59-64g/L的Na₂SO₄，25-35g/L的NaF，20-40g/L的H₃BO₃為陰極電鍍液，以16-25g/L的Cr⁶⁺，48-54g/L的Al₂(SO₄)₃，20-30g/L的Na₂C₂O₄，59-64g/L的Na₂SO₄，25-35g/L的NaF，20-40g/L的H₃BO₃為陽極電鍍液；分別將陰極和陽極插入帶隔膜的雙室電解槽中，保持極間距為40-50mm，通電開始電鍍。本發(fā)明的三價鍍鉻工藝的毒性低，環(huán)保節(jié)約，得到的電鍍層細(xì)致光亮、結(jié)合力牢固、孔隙率低。文檔編號C25D3/02GK101629311SQ20091014444公開日2010年1月20日申請日期2009年8月10日優(yōu)先權(quán)日2009年8月10日發(fā)明者濤劉,杜榮斌申請人:安慶師范學(xué)院