專利名稱：電鍍系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，尤其涉及電鍍系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，電鍍(ECP)通常是指在晶圓上鍍膜的工藝。電鍍工藝一般在 電鍍?cè)O(shè)備上進(jìn)行，由于其工藝條件為常溫常壓，因此ECP設(shè)備設(shè)置為敞口 ，如果外部有污染 氣體，則容易對(duì)電鍍?cè)斐蓳p壞。 例如目前業(yè)界生產(chǎn)車間內(nèi)，ECP設(shè)備通常與物理沉積(PVD)設(shè)備鄰近，如圖1所 示，圖1為現(xiàn)有ECP設(shè)備及PVD設(shè)備的一種布局示意圖，圖中標(biāo)號(hào)10 13為ECP設(shè)備，標(biāo) 號(hào)14 15為PVD設(shè)備。在PVD工藝過(guò)程中，將有氯氣(Cl2) 、 IPA、氯化氫(HC1)及(次氯 酸)HCL0等污染氣體從PVD設(shè)備擴(kuò)散出來(lái)，如圖1箭頭所示，因此ECP設(shè)備中的晶圓容易經(jīng) 常受到上述氣體污染，造成晶圓表面腐蝕，對(duì)ECP制程造成潛在危險(xiǎn)，導(dǎo)致晶圓在后續(xù)化學(xué) 機(jī)械研磨(CMP)工藝中出現(xiàn)大量缺陷，嚴(yán)重影響產(chǎn)品良率的穩(wěn)定性等。
為避免上述問(wèn)題，現(xiàn)有方案是通過(guò)含量測(cè)定系統(tǒng)(VOC)監(jiān)測(cè)空氣中部分物質(zhì)的含 量，在含量過(guò)高時(shí)，對(duì)電鍍進(jìn)行控制。但是這種方法一方面要維持VOC系統(tǒng)長(zhǎng)時(shí)間工作，浪 費(fèi)資源，另一方面效果不佳，上述問(wèn)題仍然能夠嚴(yán)重降低形成的產(chǎn)品的質(zhì)量，使得產(chǎn)品瑕疵 程度較高。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供電鍍系統(tǒng)，以提高電鍍質(zhì)量，減少產(chǎn)品瑕疵。 本發(fā)明提出了電鍍系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括電鍍?cè)O(shè)備，還包括隔離裝置，用于隔離電鍍 設(shè)備，電鍍?cè)O(shè)備置于隔離裝置內(nèi)，該隔離裝置具備主進(jìn)出口及進(jìn)氣口 ；輸氣裝置，用于從所 述進(jìn)氣口向隔離裝置輸送入氣體，并保持隔離裝置內(nèi)氣壓大于隔離裝置外氣壓，防止外部 污染氣體從所述主進(jìn)出口進(jìn)入隔離裝置；以及過(guò)濾裝置，用于過(guò)濾所述氣體，防止外部污染 氣體從所述進(jìn)氣口進(jìn)入隔離裝置。 本發(fā)明通過(guò)將電鍍?cè)O(shè)備隔離的隔離裝置實(shí)現(xiàn)電鍍?cè)O(shè)備的隔離，并通過(guò)用于從所述 進(jìn)氣口向隔離裝置輸送入氣體，并保持隔離裝置內(nèi)氣壓大于隔離裝置外氣壓的輸氣裝置實(shí) 現(xiàn)外部污染氣體無(wú)法從所述主進(jìn)出口進(jìn)入隔離裝置，以及通過(guò)用于過(guò)濾所述氣體的過(guò)濾裝 置，實(shí)現(xiàn)外部污染氣體無(wú)法從所述進(jìn)氣口進(jìn)入隔離裝置，從而避免了現(xiàn)有方案中電鍍?cè)O(shè)備 工作時(shí)有污染氣體腐蝕晶圓，導(dǎo)致晶圓在后續(xù)化學(xué)機(jī)械研磨(CMP)工藝中出現(xiàn)大量缺陷， 影響產(chǎn)品良率的穩(wěn)定性等問(wèn)題，大幅度提高了電鍍質(zhì)量，極大減少了產(chǎn)品瑕疵；此外還節(jié)約 了現(xiàn)有電鍍過(guò)程中始終需要維護(hù)VOC系統(tǒng)運(yùn)轉(zhuǎn)的能源，提高了資源利用率。


圖1為現(xiàn)有ECP設(shè)備及PVD設(shè)備的一種布局示意圖；
圖2為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例電鍍系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意3
圖3為本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施例中電鍍系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施例方式
盡管下面將參照附圖對(duì)本發(fā)明進(jìn)行更詳細(xì)的描述，其中表示了本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施
例，應(yīng)該理解本領(lǐng)域技術(shù)人員可以修改在此描述的本發(fā)明而仍然實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的有利效果。 因此，下列描述應(yīng)當(dāng)被理解為對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員的廣泛知道，而并不作為對(duì)本發(fā)明的限 制。 為了清楚，不描述實(shí)際實(shí)施例的全部特征。在下列描述中，不詳細(xì)描述公知的功能 和結(jié)構(gòu)，因?yàn)樗鼈儠?huì)是本發(fā)明由于不必要的細(xì)節(jié)而混亂。應(yīng)當(dāng)認(rèn)為在任何實(shí)際實(shí)施例的開 發(fā)中，必須做出大量實(shí)施細(xì)節(jié)以實(shí)現(xiàn)開發(fā)者的特定目標(biāo)，例如按照有關(guān)系統(tǒng)或有關(guān)商業(yè)的 限制，由一個(gè)實(shí)施例改變?yōu)榱硪粋€(gè)實(shí)施例。另外，應(yīng)當(dāng)認(rèn)為這種開發(fā)工作可能是復(fù)雜和耗費(fèi) 時(shí)間的，但是對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員來(lái)說(shuō)僅僅是常規(guī)工作。 在下列段落中參照附圖以舉例方式更具體地描述本發(fā)明。根據(jù)下面說(shuō)明和權(quán)利要 求書，本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)和特征將更清楚。需說(shuō)明的是，附圖均采用非常簡(jiǎn)化的形式且均使用非 精準(zhǔn)的比率，僅用以方便、明晰地輔助說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例的目的。 圖2為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例電鍍系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖，結(jié)合該圖，本實(shí)施例中電鍍系 統(tǒng)包括電鍍?cè)O(shè)備10 13 ;還包括 隔離裝置20，用于隔離電鍍?cè)O(shè)備10 13，電鍍?cè)O(shè)備10 13置于隔離裝置20內(nèi)， 該隔離裝置20具備主進(jìn)出口 21及進(jìn)氣口 22 ; 其中隔離裝置20的材質(zhì)可以有多種選擇，采用制作隔離室、房屋及封閉裝置等用 的常見材料即可。較佳的本實(shí)施例采用無(wú)塵室的制作材料作為隔離裝置20的材質(zhì)。
主進(jìn)出口 21用以向電鍍?cè)O(shè)備10 13送入需要電鍍的晶圓，該主進(jìn)出口 21的大 小通常需滿足操作人員進(jìn)入，當(dāng)然如果能夠在操作人員無(wú)需進(jìn)入隔離裝置20的情況下，也 能把晶圓送入電鍍?cè)O(shè)備10 13電鍍，且能夠?qū)㈦婂冊(cè)O(shè)備10 13取出維護(hù)等工作要求，則 該主進(jìn)出口 21的大小也無(wú)需滿足能夠讓操作人員進(jìn)入的條件。 進(jìn)氣口 22設(shè)置的位置通?？拷綦x裝置20頂部，以能夠使得隔離裝置20內(nèi)氣體 流通達(dá)到預(yù)定標(biāo)準(zhǔn)為準(zhǔn)，所述預(yù)定標(biāo)準(zhǔn)根據(jù)實(shí)施情況設(shè)定，例如普通室內(nèi)流通標(biāo)準(zhǔn)。通常情 況下，以隔離裝置20底部為基準(zhǔn)，設(shè)置于隔離裝置20的所述進(jìn)氣口 22的高度需大于隔離 裝置20高度的2/3。 由于隔離裝置20設(shè)置主進(jìn)出口 21及進(jìn)氣口 22，因此為防止外部污染氣體進(jìn)入隔 離裝置20，該電鍍系統(tǒng)還需包括 輸氣裝置23，用于從所述進(jìn)氣口 22向隔離裝置20輸送入氣體，并保持隔離裝置 20內(nèi)氣壓大于隔離裝置20外氣壓，防止外部污染氣體從所述主進(jìn)出口 21進(jìn)入隔離裝置
20 ;以及 過(guò)濾裝置24，用于過(guò)濾所述氣體，防止外部污染氣體從所述進(jìn)氣口 22進(jìn)入隔離裝 置20。 本實(shí)施例中，過(guò)濾裝置24可以設(shè)置于隔離裝置20外部，輸氣裝置23輸送的氣體 經(jīng)過(guò)過(guò)濾裝置24過(guò)濾后，再送入進(jìn)氣口 22，繼而進(jìn)入隔離裝置20，如圖2所示；過(guò)濾裝置24 也可以置于隔離裝置20內(nèi)，例如進(jìn)氣口 22端口處，進(jìn)入進(jìn)氣口 22的氣體經(jīng)過(guò)過(guò)濾裝置24過(guò)濾后，從過(guò)濾裝置24輸送至隔離裝置24。 本實(shí)施例中，輸氣裝置23為空氣壓縮機(jī)，將隔離裝置外部的空氣壓縮后，從進(jìn)氣 口 22輸入到隔離裝置，同時(shí)能夠保持隔離裝置20內(nèi)氣壓大于隔離裝置20外氣壓。
通過(guò)這輸氣裝置23保持隔離裝置20內(nèi)氣壓大于隔離裝置20外氣壓，可以使得隔 離裝置20外部的污染氣體無(wú)法從主進(jìn)出口 21進(jìn)入隔離裝置20，且通過(guò)過(guò)濾裝置24過(guò)濾經(jīng) 由進(jìn)氣口 22進(jìn)入的氣體，可以避免隔離裝置20外部的污染氣體經(jīng)由進(jìn)氣口 22進(jìn)入隔離裝 置20，因此就能夠避免外部污染氣體進(jìn)入隔離裝置20，解決電鍍過(guò)程中污染氣體腐蝕晶圓 的問(wèn)題，且無(wú)需位置VOC系統(tǒng)長(zhǎng)時(shí)間運(yùn)轉(zhuǎn)，節(jié)約了資源。 上述實(shí)施例中隔離裝置20隔離全部電鍍?cè)O(shè)備10 13，實(shí)際上，由于電鍍?cè)O(shè)備 10 13的布局有時(shí)很分散，用一個(gè)隔離裝置20隔離將可能導(dǎo)致占用生產(chǎn)空間，浪費(fèi)隔離裝 置20材質(zhì)等問(wèn)題，因此本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施例中，電鍍系統(tǒng)包括多個(gè)隔離裝置，分別隔離部 分電鍍?cè)O(shè)備。 圖3為本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施例中電鍍系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖，結(jié)合該圖，該電鍍系統(tǒng)包 括三個(gè)隔離裝置30 32，分別置有電鍍?cè)O(shè)備10、11及12 13。 輸氣裝置可以有一個(gè)或多個(gè)，如果是一個(gè)，則能夠節(jié)省輸氣裝置數(shù)目，有利于降低 成本，如果是多個(gè)，則有利于安裝實(shí)施，無(wú)需用一個(gè)輸氣裝置連接至多個(gè)隔離裝置的進(jìn)氣 口，圖3示意出了一個(gè)輸氣裝置的情況，該輸氣裝置33通過(guò)進(jìn)氣口 33 35分別向隔離裝 置30 32輸送氣體。 過(guò)濾裝置也可以有一個(gè)或多個(gè)，如果過(guò)濾裝置設(shè)置于隔離裝置內(nèi)，則通常各個(gè)隔 離裝置都需要有一個(gè)過(guò)濾裝置；如果過(guò)濾裝置設(shè)置于隔離裝置外部，則可以有一個(gè)或多個(gè) 過(guò)濾裝置。采用一個(gè)過(guò)濾裝置，則方便過(guò)濾裝置的維護(hù)，并能夠節(jié)約資源，采用多個(gè)過(guò)濾裝 置，則能夠避免過(guò)濾裝置損壞使得進(jìn)入全部隔離裝置的氣體都無(wú)法過(guò)濾的風(fēng)險(xiǎn)，例如當(dāng)一 個(gè)過(guò)濾裝置損壞時(shí)，還有其他過(guò)濾裝置能正常工作，也就不會(huì)導(dǎo)致進(jìn)入全部隔離裝置的氣 體可能有污染氣體。圖3示意出了過(guò)濾裝置設(shè)置于隔離裝置外部，且有兩個(gè)過(guò)濾裝置的情 況，圖中過(guò)濾裝置36及37分別過(guò)濾將要進(jìn)入隔離裝置30及31 32的氣體。
上述實(shí)施例中，通過(guò)進(jìn)氣口進(jìn)入隔離裝置的氣體通常為空氣。 顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)本發(fā)明進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本發(fā)明的精 神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍 之內(nèi)，則本發(fā)明 意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。
權(quán)利要求
一種電鍍系統(tǒng)，包括電鍍?cè)O(shè)備，其特征在于，還包括隔離裝置，用于隔離電鍍?cè)O(shè)備，電鍍?cè)O(shè)備置于隔離裝置內(nèi)，該隔離裝置具備主進(jìn)出口及進(jìn)氣口；輸氣裝置，用于從所述進(jìn)氣口向隔離裝置輸送入氣體，并保持隔離裝置內(nèi)氣壓大于隔離裝置外氣壓，防止外部污染氣體從所述主進(jìn)出口進(jìn)入隔離裝置；以及過(guò)濾裝置，用于過(guò)濾所述氣體，防止外部污染氣體從所述進(jìn)氣口進(jìn)入隔離裝置。
2. 如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述隔離裝置有多個(gè)，各個(gè)隔離裝置內(nèi)分別 置有部分電鍍?cè)O(shè)備。
3. 如權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述輸氣裝置有一個(gè)或多個(gè)。
4. 如權(quán)利要求2或3所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述過(guò)濾裝置有一個(gè)或多個(gè)。
5. 如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述隔離裝置有一個(gè)，該隔離裝置內(nèi)置有全 部電鍍?cè)O(shè)備。
6. 如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，進(jìn)氣口設(shè)置于隔離裝置的位置需滿足條件 能夠使得隔離裝置內(nèi)氣體流通達(dá)到預(yù)定標(biāo)準(zhǔn)。
7. 如權(quán)利要求4所述的系統(tǒng)，其特征在于，以隔離裝置底部為基準(zhǔn)，設(shè)置于隔離裝置的 所述進(jìn)氣口的高度需大于隔離裝置高度的2/3。
8. 如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，過(guò)濾裝置置于隔離裝置內(nèi)部，過(guò)濾已進(jìn)入進(jìn) 氣口的所述氣體。
9. 如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，過(guò)濾裝置置于隔離裝置外部，過(guò)濾待進(jìn)入進(jìn) 氣口的所述氣體。
10. 如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述氣體為空氣，所述輸氣裝置為空氣壓 縮機(jī)。
全文摘要
本發(fā)明提供電鍍系統(tǒng)，以提高電鍍質(zhì)量，避免產(chǎn)品瑕疵。該系統(tǒng)包括電鍍?cè)O(shè)備，還包括隔離裝置，用于隔離電鍍?cè)O(shè)備，電鍍?cè)O(shè)備置于隔離裝置內(nèi)，該隔離裝置具備主進(jìn)出口及進(jìn)氣口；輸氣裝置，用于從所述進(jìn)氣口向隔離裝置輸送入氣體，并保持隔離裝置內(nèi)氣壓大于隔離裝置外氣壓，防止外部污染氣體從所述主進(jìn)出口進(jìn)入隔離裝置；以及過(guò)濾裝置，用于過(guò)濾所述氣體，防止外部污染氣體從所述進(jìn)氣口進(jìn)入隔離裝置。
文檔編號(hào)C25D17/00GK101748458SQ20081020380
公開日2010年6月23日 申請(qǐng)日期2008年12月1日 優(yōu)先權(quán)日2008年12月1日
發(fā)明者張文峰 申請(qǐng)人:中芯國(guó)際集成電路制造(上海)有限公司