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一種貴金屬納米粒子間距可控的SERS襯底制備方法與流程

文檔序號(hào):11122471閱讀:來源:國知局

技術(shù)特征:

1.一種貴金屬納米粒子間距可控的SERS襯底制備方法,其特征在于,主要步驟為:

第一步:用稀釋的鹽酸清洗AAO模板;

第二步:基于第一步所清洗獲得的AAO模板,通過物理方法或化學(xué)方法獲得貴金屬納米粒子團(tuán)簇,使其填滿整個(gè)AAO模板的孔;

第三步:放置一塊PMMA,將第二步所獲得的AAO模板倒置放于PMMA上,貴金屬納米粒子團(tuán)簇向下落于PMMA表面,而后放入熱環(huán)境或者直接對(duì)PMMA加熱,使PMMA變軟,貴金屬納米粒子團(tuán)簇浸入PMMA中;

第四步:將第三步形成的整體放入稀釋的鹽酸洗滌,去除AAO模板后,放入真空干燥箱干燥,得到貴金屬納米粒子規(guī)則排布的SERS襯底。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種貴金屬納米粒子間距可控的SERS襯底制備方法,其特征在于,所述的貴金屬為金或銀或銅。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種貴金屬納米粒子間距可控的SERS襯底制備方法,其特征在于,所述的貴金屬納米粒子可以通過控制生長時(shí)間來調(diào)節(jié)納米顆粒的尺寸。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種貴金屬納米粒子間距可控的SERS襯底制備方法,其特征在于,所述的物理方法為原子蒸鍍,磁控濺射或者脈沖激光沉積。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種貴金屬納米粒子間距可控的SERS襯底制備方法,其特征在于,所述的化學(xué)方法為金屬離子的自組裝生長或利用電化學(xué)沉積。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種貴金屬納米粒子間距可控的SERS襯底制備方法,其特征在于,所述的AAO模板為單通AAO模板。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種貴金屬納米粒子間距可控的SERS襯底制備方法,其特征在于,所述的PMMA厚度小于1mm。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種貴金屬納米粒子間距可控的SERS襯底制備方法,其特征在于,所述的稀釋的鹽酸濃度小于5%。

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