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水基游離磨料切割液及其制備方法和應(yīng)用與流程

文檔序號(hào):11259322閱讀:284來(lái)源:國(guó)知局

本發(fā)明涉及石英晶片加工技術(shù)領(lǐng)域,具體的說(shuō),涉及了一種水基游離磨料切割液及其制備方法和應(yīng)用。



背景技術(shù):

在石英晶片切割過(guò)程中,切割液作為石英晶片切割過(guò)程中必須使用的一種輔料耗材產(chǎn)品,其用量隨著石英晶片加工行業(yè)的壯大而擴(kuò)展。切割液按成份分類主要包括油性切割液和水基切割液兩大類。油性切割液產(chǎn)品主要是以礦物油為主要成分的切割液,其中含有礦物油,防腐蝕劑,抗擠壓機(jī)等物質(zhì);且油性切割液本身易燃,對(duì)環(huán)境污染較大,同時(shí)清洗石英晶片時(shí)需要含氟的烷烴溶劑。水性切割液可以溶于水或被水分散,清洗石英晶片用水即可,不用有機(jī)溶劑,對(duì)人體和環(huán)境無(wú)損害。因此第二類水基切割液是目前使用較多的種類。但現(xiàn)有的水基切割液存在穩(wěn)定性不高,含水量較低,生產(chǎn)成本依然較高等問(wèn)題。

為了解決以上存在的問(wèn)題,人們一直在尋求一種理想的技術(shù)解決方案。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本發(fā)明的目的是針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足,從而提供一種成本低廉、能夠有效降低石英晶片表面的污漬和損傷應(yīng)力的水基游離磨料切割液及其制備方法和應(yīng)用。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明所采用的技術(shù)方案是:一種水基游離磨料切割液,它的原料包括切割砂、切割液原液、防銹劑和純水,所述切割液原液由質(zhì)量比為1:(0.5~2)的丙三醇和二乙二醇組成。

基于上述,所述切割砂、所述切割液原液、所述防銹劑和所述純水的質(zhì)量比為(1~3):(0.5~3):0.1:1.2。

基于上述,所述切割砂為1000目~1200目的綠碳化硅。

基于上述,所述防銹劑為亞硝酸鈉、亞硫酸鈉、十二烷基磺酸鈉中的一種或幾種的組合。

基于上述,所述防銹劑為亞硝酸鈉。

本發(fā)明還提供一種水基游離磨料切割液的制備方法,其步驟包括:

首先在攪拌條件下,向切割液原液中加入防腐劑和純水形成原料預(yù)混液;然后在攪拌條件下向所述原料預(yù)混液中緩慢加入切割砂,制得所述水基游離磨料切割液;其中上述步驟中,所述切割砂、所述切割液原液、所述防銹劑和所述純水質(zhì)量比為(1~3):(0.5~3):0.1:1.2;所述切割液原液由質(zhì)量比為1:(0.5~2)的丙三醇和二乙二醇組成。

本發(fā)明還提供一種水基游離磨料切割液的應(yīng)用,其特征在于:所述水基游離磨料切割液作為石英晶片線切割加工工藝中的切割液進(jìn)行應(yīng)用。

本發(fā)明相對(duì)現(xiàn)有技術(shù)具有突出的實(shí)質(zhì)性特點(diǎn)和顯著的進(jìn)步,具體的說(shuō),本發(fā)明所提供的水基游離磨料切割液具有無(wú)色無(wú)味,使用過(guò)程中不會(huì)對(duì)員工呼吸道產(chǎn)生傷害,且利用該切割液切割完石英晶片之后,設(shè)備表面積砂少,線切割的線棍表面及滑輪表面均無(wú)油跡,清理時(shí)比使用油切割時(shí)容易的多,采用自來(lái)水直接清洗即可,無(wú)需經(jīng)過(guò)煤油淋洗和洗衣粉清洗,故不影響后道工序的加工;在杜絕切割油和煤油的使用、避免了油的排放和對(duì)環(huán)境的污染的同時(shí),也縮短了晶砣清洗時(shí)間,提高了晶砣表面的潔凈度,解決了因?yàn)橛蜐n造成的現(xiàn)場(chǎng)“5s”管理困難的局面。

具體實(shí)施方式

下面通過(guò)具體實(shí)施方式,對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案做進(jìn)一步的詳細(xì)描述。

實(shí)施例1

本實(shí)施例提供一種水基游離磨料切割液,它的原料包括切割砂、切割液原液、亞硝酸鈉和純水,其中所述切割液原液由質(zhì)量比為1:1的丙三醇和二乙二醇組成;所述切割砂、所述切割液原液、所述亞硝酸鈉和所述純水的質(zhì)量比為2.25:2.25:0.1:1.2;所述切割砂為1000目的綠碳化硅微粉。

本實(shí)施例還提供一種制備上述水基游離磨料切割液的制備方法,具體步驟包括:

首先在攪拌條件下,向切割液原液中加入防腐劑和純水形成原料預(yù)混液;然后在攪拌條件下向所述原料預(yù)混液中緩慢加入切割砂,制得所述水基游離磨料切割液;其中上述步驟中,所述切割砂、所述切割液原液、所述亞硝酸鈉和所述純水的質(zhì)量比為2.25:2.25:0.1:1.2;所述切割液原液由質(zhì)量比為1:1的丙三醇和二乙二醇組成。

本實(shí)施例還提供一種上述水基游離磨料切割液的應(yīng)用,該水基游離磨料切割液作為石英晶片線切割加工工藝中的切割液進(jìn)行應(yīng)用。

實(shí)施例2

本實(shí)施例提供一種水基游離磨料切割液,具體原料組成與實(shí)施例1中的原料組成大致相同,不同之處在于:本實(shí)施例中,所述水基游離磨料切割液由質(zhì)量比為3:1:0.1:1.2的1200目的綠碳化硅微粉、水基切割液原液、亞硝酸鈉和純水組成;所述水基切割液原液由質(zhì)量比為1:2的丙三醇和二乙二醇組成。

本實(shí)施例還提供制備上述水基游離磨料切割液的方法和應(yīng)用,具體制備方法和應(yīng)用于實(shí)施例1中的相同。

實(shí)施例3

本實(shí)施例提供一種水基游離磨料切割液,具體原料組成與實(shí)施例1中的原料組成大致相同,不同之處在于:本實(shí)施例中,所述水基游離磨料切割液由質(zhì)量比為1.5:3:0.1:1.2的1050目的綠碳化硅微粉、水基切割液原液、亞硫酸鈉和純水組成;所述水基切割液原液由質(zhì)量比為1:1.5的丙三醇和二乙二醇組成。

本實(shí)施例還提供制備上述水基游離磨料切割液的方法和應(yīng)用,具體制備方法和應(yīng)用于實(shí)施例1中的相同。

最后應(yīng)當(dāng)說(shuō)明的是:以上實(shí)施例僅用以說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)方案而非對(duì)其限制;盡管參照較佳實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了詳細(xì)的說(shuō)明,所屬領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解:依然可以對(duì)本發(fā)明的具體實(shí)施方式進(jìn)行修改或者對(duì)部分技術(shù)特征進(jìn)行等同替換;而不脫離本發(fā)明技術(shù)方案的精神,其均應(yīng)涵蓋在本發(fā)明請(qǐng)求保護(hù)的技術(shù)方案范圍當(dāng)中。



技術(shù)特征:

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種水基游離磨料切割液,它的原料包括質(zhì)量比為(1~3):(0.5~3):0.1:1.2的切割砂、切割液原液、防銹劑和純水。本發(fā)明還提供一種制備上述水基游離磨料切割液的方法,具體步驟包括首先在攪拌條件下按照上述質(zhì)量比向切割液原液中加入所述防銹劑和純水形成原料預(yù)混液;然后在攪拌條件下按照上述質(zhì)量比向所述原料預(yù)混液中緩慢加入所述切割砂,制得所述水基游離磨料切割液。該水基游離磨料切割液可作為石英晶片線切割加工工藝中的切割液進(jìn)行應(yīng)用。該水基游離磨料切割液能夠有效降低晶片表面污漬和損傷應(yīng)力而且成本低廉。

技術(shù)研發(fā)人員:李健;董振峰;趙鵬程
受保護(hù)的技術(shù)使用者:濟(jì)源石晶光電頻率技術(shù)有限公司
技術(shù)研發(fā)日:2017.05.11
技術(shù)公布日:2017.09.19
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