一種v形管路scr脫硝裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種除塵器用脫硝裝置，應(yīng)用于鍋爐煙氣治理，具體涉及一種V形管路SCR脫硝裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]在電廠鍋爐脫硝工程中，廣泛使用SCR (選擇性催化還原方法)脫硝裝置，以氨水或尿素溶液為脫硝還原劑，采用噴霧方式進(jìn)入催化劑層與煙氣進(jìn)行混合，還原氮氧化物。催化劑層是SCR的核心部件；催化劑主要由金屬氧化物構(gòu)成，價值高，在傳統(tǒng)SCR裝置布置中，催化劑層一般為2-3層，層與層之間容易堵灰，造成催化劑活性降低，還可能引起可燃粉塵燃燒，進(jìn)一步降低催化劑活性；此外，傳統(tǒng)布置方法不易于對催化劑層進(jìn)行檢修。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實用新型所要解決的技術(shù)問題是提供一種V形管路SCR脫硝裝置，通過分層布置對催化劑層進(jìn)行有效保護(hù)，有效利用空間布局，結(jié)構(gòu)簡單直觀、安裝方便、經(jīng)濟(jì)環(huán)保。
[0004]本實用新型解決技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:一種V形管路SCR脫硝裝置，包括進(jìn)氣口、煙氣管路、脫硝區(qū)管路、還原劑管路和出氣口，所述進(jìn)氣口與鍋爐連接，所述出氣口與除塵器連接，所述脫硝區(qū)管路呈V形，所述脫硝區(qū)管路內(nèi)分開布置有催化劑層I和催化劑層II，所述催化劑層I和催化劑層II分別匹配設(shè)有一組噴嘴I和一組噴嘴II，所述還原劑管路設(shè)置兩路并分別與噴嘴I和噴嘴II連接。
[0005]作為進(jìn)一步的改進(jìn)，所述V形脫硝區(qū)管路底部設(shè)有檢修口。
[0006]本實用新型整體或局部與鍋爐DCS連接，并通過氮氧化物實時控制還原劑噴射量。
[0007]本實用新型的有益效果:通過分層布置設(shè)置兩層催化劑層，對催化劑層進(jìn)行有效保護(hù)，每層催化劑層分別對應(yīng)一組噴嘴，有效減少粉塵原因?qū)е碌拇呋瘎┦Щ?；整體全自動控制、結(jié)構(gòu)簡單直觀、空間利用率高、安裝方便、經(jīng)濟(jì)環(huán)保。同時提供催化劑層的檢修口，用于清理飛灰及催化劑檢修。
【附圖說明】
[0008]圖1為本實用新型實施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0009]下面結(jié)合附圖對本實用新型做進(jìn)一步說明。
【具體實施方式】
[0010]如附圖1所示，一種V形管路SCR脫硝裝置，包括進(jìn)氣口、煙氣管路1、脫硝區(qū)管路、還原劑管路4和出氣口，所述進(jìn)氣口與鍋爐連接，所述出氣口與除塵器連接，所述脫硝區(qū)管路呈V形，所述脫硝區(qū)管路內(nèi)分開布置有催化劑層I 3和催化劑層II 6，催化劑層I 3和催化劑層II 6分別匹配設(shè)有三個噴嘴I 2和三個噴嘴II 5，，所述還原劑管路4設(shè)置兩路并分別與噴嘴I 2和噴嘴II 5連接。在V形脫硝區(qū)管路底部設(shè)有檢修口 7。
【主權(quán)項】
1.一種V形管路SCR脫硝裝置，包括進(jìn)氣口、煙氣管路(1)、脫硝區(qū)管路、還原劑管路(4)和出氣口，所述進(jìn)氣口與鍋爐連接，所述出氣口與除塵器連接，其特征在于:所述脫硝區(qū)管路呈V形，所述脫硝區(qū)管路內(nèi)分開布置有催化劑層I (3)和催化劑層II (6)，所述催化劑層I (3)和催化劑層II (6)分別匹配設(shè)有一組噴嘴I (2)和一組噴嘴II (5)，所述還原劑管路(4)設(shè)置兩路并分別與噴嘴I (2)和噴嘴II (5)連接。2.如權(quán)利要求1所述的V形管路SCR脫硝裝置，其特征在于:所述V形脫硝區(qū)管路底部設(shè)有檢修口(7)。
【專利摘要】本實用新型公開了一種V形管路SCR脫硝裝置，包括進(jìn)氣口、煙氣管路、脫硝區(qū)管路、還原劑管路和出氣口，所述進(jìn)氣口與鍋爐連接，所述出氣口與除塵器連接，所述脫硝區(qū)管路呈V形，所述脫硝區(qū)管路內(nèi)分開布置有催化劑層Ⅰ和催化劑層Ⅱ，所述催化劑層Ⅰ和催化劑層Ⅱ分別匹配設(shè)有一組噴嘴Ⅰ和一組噴嘴Ⅱ，所述還原劑管路設(shè)置兩路并分別與噴嘴Ⅰ和噴嘴Ⅱ連接。本實用新型通過分層布置對催化劑層進(jìn)行有效保護(hù)，有效利用空間布局，結(jié)構(gòu)簡單直觀、安裝方便、經(jīng)濟(jì)環(huán)保。
【IPC分類】B01D53/90, B01D53/56
【公開號】CN204865546
【申請?zhí)枴緾N201520603811
【發(fā)明人】邱乾勝, 孫立, 倪成德
【申請人】潔華控股股份有限公司
【公開日】2015年12月16日
【申請日】2015年8月12日