專利名稱:改善涂布層均勻質(zhì)量的工藝方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種涂布方法，尤其涉及一種利于控制壓力環(huán)境(含涂料流體外部壓力或其內(nèi)部壓力分布)變化，以控制涂布珠上游的新月長度，進(jìn)而消除涂布于基板上的材料的云紋(mura or barring)缺陷，進(jìn)而提高工藝良品率的一種改善涂布層均勻質(zhì)量的工藝方法。
背景技術(shù)：
為了配合市場應(yīng)用與制造經(jīng)濟(jì)效益的需求，面板廠所制造的液晶面板尺寸也逐漸往上提升，近年來，面板尺寸的大小已經(jīng)從一代廠的300×400mm玻璃基板演至目前的第七代的1870×2200mm，而且具有逐步加大的趨勢。為了使面板廠可以抗衡市場競爭來獲利，產(chǎn)能需不斷的提升，但一方面又要兼顧成本，因此工藝速度與良品率的改善絕對是必要面對的挑戰(zhàn)。而在面板的工藝?yán)?，即屬陣?array)工藝段的光阻劑涂布為工藝的重要瓶頸，所以各大廠家，無不致力于涂布速度的改善與良品率的提升。
如圖1所示利用細(xì)縫式涂布機(jī)來進(jìn)行濕式涂布，在涂布的工藝中，影響涂布的質(zhì)量莫過于涂布珠3的幾何尺寸、涂布間隙a(涂布頭與基板2的距離)、供料間隙b以及涂布頭與基板間的相對速度u所影響。
請參閱圖2A所示，該圖為現(xiàn)有技術(shù)的研究成果所呈顯出的涂布窗域(coating window)以及缺陷區(qū)域示意圖。所謂涂布窗域40代表在涂布過程中，涂布環(huán)境壓力與涂布層(圖1的32)厚度導(dǎo)數(shù)關(guān)系圖中，所決定出使工藝穩(wěn)定的區(qū)域40，只要在涂布窗域40的范圍內(nèi)，就不會在工藝中產(chǎn)生缺陷；反之，則因各種不同的不穩(wěn)定因素而容易生成涂布缺陷。接下來配合圖1以及圖2A所示，簡介在涂布工藝下，容易產(chǎn)生缺陷的種類，當(dāng)周遭真空度過高且涂布層厚度厚時，也就是在邊界溢流區(qū)域41的范圍內(nèi)，則容易產(chǎn)生上游新月(meniscus)邊界30的溢流(swelling)現(xiàn)象。如在空氣卷入?yún)^(qū)域42時，則容易產(chǎn)生空氣卷入缺陷。此外還有如肋條與河川區(qū)域43所示的肋條(ribbing)與河川(rivulets)的缺陷現(xiàn)象。
在區(qū)域44所發(fā)生的缺陷為云紋(mura or barring)現(xiàn)象。如圖2B所示，所謂云紋33缺陷，一般而言，在真空度不足，而涂布層32厚度薄時會產(chǎn)生的一種缺陷。如圖2C所示，云紋33為有規(guī)律周期性的瑕疵，使得涂布層32厚度產(chǎn)生周期性的變化，通常與某些涂布參數(shù)，如涂布頭移動的速度有關(guān)。而在2001年富士膠卷驗(yàn)證了云紋現(xiàn)象是由涂布珠受到外部擾動，使下游產(chǎn)生變化，進(jìn)而使涂布層厚度形成周期性的變化。在該研究報(bào)告中，還提出了云紋頻率的估算公式用以估算云紋缺陷所發(fā)生的頻率。
在公開的文獻(xiàn)中，如美國專利US.Pat.No.4445458所揭露的一種涂布頭，其特征在于其下游唇體10具有八字形的設(shè)計(jì)，以助于涂布層膜厚的均一性。又有如美國專利US.Pat.No.5728430所揭露的技術(shù)是以涂布頭上游唇體11、下游唇體10的設(shè)計(jì)，以達(dá)到調(diào)節(jié)涂布流壓力梯度與改善涂布精度與質(zhì)量的目的。這是因?yàn)檫m當(dāng)?shù)膲毫Ψ植伎梢苑€(wěn)定涂布層的分離線，所以該技術(shù)提出利用涂布流隨著涂布方向而漸縮可以幫助提升涂布質(zhì)量，尤其是避免肋條(ribbing)等缺陷的出現(xiàn)。然而，此方式會影響涂布珠的流體力學(xué)行為，因?yàn)闈u縮過劇時會導(dǎo)致涂布的逆向壓力過大，導(dǎo)致涂布流場向上游推擠，產(chǎn)生上游溢流(upstream leakage)的問題。
雖然前述的技術(shù)多為提升涂布珠穩(wěn)定的方向以改善涂布質(zhì)量，不過對于涂布時產(chǎn)生云紋缺陷的問題并無法有效的改善。為了解決云紋缺陷的問題，一般解決方式都是利用壓抑涂布設(shè)備的振動以及降低基板與涂布頭間的相對速度。不過降低速度，會直接降低面板的制造產(chǎn)能，進(jìn)而影響到生產(chǎn)效率，而降低市場的競爭力。
綜合上述，急需一種改善涂布層均勻質(zhì)量的工藝方法來解決現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)。

發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題在于提供一種改善涂布層均勻質(zhì)量的工藝方法，利用調(diào)節(jié)涂布珠的壓力環(huán)境來控制涂料流體上游新月長度，進(jìn)而使工藝落于涂布窗域內(nèi)，達(dá)到解決云紋缺陷問題的目的。
本發(fā)明的次要目的是提供一種改善涂布層均勻質(zhì)量的工藝方法，利用調(diào)節(jié)涂布珠的壓力環(huán)境來控制其上游新月長度或穩(wěn)定度，進(jìn)而使工藝落于涂布窗域內(nèi)，以解決云紋缺陷問題，達(dá)到縮短涂布工藝時間，以增加生產(chǎn)效率的目的。
為了實(shí)現(xiàn)上述的目的，本發(fā)明提供一種改善涂布層均勻質(zhì)量的工藝方法，其包括有下列步驟首先，提供一涂布頭以及一基板，利用該涂布頭與該基板間的一相對運(yùn)動使從該涂布頭輸出的涂料流體可以涂布于基板上。然后，以一控制調(diào)節(jié)方式，使控制該基板與該涂布頭間一涂料流體的壓力環(huán)境，以調(diào)整該涂料流體的一上游新月長度，使工藝落于一涂布窗域內(nèi)。
較佳的是，該控制調(diào)節(jié)方式還包括一調(diào)整該涂布頭的上游區(qū)域的一真空度至適當(dāng)范圍，使調(diào)整該涂料流體的上游新月長度，使工藝落于一涂布窗域內(nèi)。其中該真空度可選擇為一定值以及動態(tài)改變值其中之一?；蛘呤窃摽刂普{(diào)節(jié)方式，還可同時控制下游區(qū)域的真空度。前述的真空度是可通過在該涂布頭的上游區(qū)域設(shè)置一低壓裝置以降低上游區(qū)域的氣壓來控制。
較佳的是，該涂布頭，可為一上游唇體以及一下游唇體，該上游唇體與該下游唇體間還具有至少一槽孔，且上游唇體以及該下游唇體與該基板相對的一面上具有一連續(xù)曲面的設(shè)計(jì)，以控制調(diào)節(jié)涂布流體的壓力梯度，以調(diào)整該涂料流體的一上游新月長度，使工藝落于一涂布窗域內(nèi)。其中該連續(xù)曲面可選擇具有至少一凹面以降低壓力梯度以及一凸面以增加壓力梯度其中之一?；蛘呤瞧渲性撨B續(xù)曲面為凹面與凸面的組合，以控制調(diào)節(jié)涂料流體的壓力梯度。
較佳的是，該控制調(diào)節(jié)方式還包括有在涂布過程中，以一調(diào)整方式改變該涂布頭與該基板間的一攻角角度的步驟。調(diào)整攻角的方式有兩種，第一種方式為使該基板保持一水平方向，然后在涂布過程中，移動該涂布頭，以動態(tài)改變該攻角角度。第二種則為使該涂布頭保持一重力方向；然后在涂布過程中，移動該基板，以動態(tài)改變該攻角角度；其中該基板設(shè)置于一傾斜調(diào)整裝置上，該傾斜調(diào)整裝置具有一平行機(jī)構(gòu)承載該基板，該平行機(jī)構(gòu)還連接于一可沿重力方向進(jìn)行往復(fù)運(yùn)動的位置調(diào)整體上以調(diào)整該攻角。該攻角角度可介于四度至零度之間。此外，該傾斜調(diào)整裝置的另一種實(shí)施方式可使用具有一承載板以承載該基板，該承載板的一側(cè)還連接于可沿重力方向進(jìn)行往復(fù)運(yùn)動的一位置調(diào)整體上以調(diào)整該攻角。
較佳的是，控制調(diào)節(jié)方式包括有下列步驟提供形成一云紋的頻率；接著以一波形產(chǎn)生器，產(chǎn)生與該形成頻率具有一相位差的一波形。最后，使該波形消除該基板與該涂布頭間一涂布珠的下游月形邊界振動。
較佳的是，該相位差為180度。
較佳的是，該相位差為165度至195度。
較佳的是，該波形產(chǎn)生器為一聲波產(chǎn)生器。
以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)描述，但不作為對本發(fā)明的限定。
圖1為涂布工藝示意圖；圖2A為現(xiàn)有技術(shù)的研究成果所呈顯出的涂布窗域(coating window)以及缺陷區(qū)域示意圖；圖2B以及圖2C為云紋缺陷示意圖；圖3為本發(fā)明改善涂布層均勻質(zhì)量的方法的流程示意圖；圖4A為本發(fā)明改善涂布層均勻質(zhì)量的方法的第一較佳實(shí)施例示意圖；圖4B為本發(fā)明改善涂布層均勻質(zhì)量的方法的第一較佳實(shí)施例涂布窗域示意圖；圖5A為本發(fā)明改善涂布層均勻質(zhì)量的方法的第二較佳實(shí)施例示意圖；圖5B為回流現(xiàn)象示意圖；圖6為本發(fā)明改善涂布層均勻質(zhì)量的方法的第三較佳實(shí)施例以及改善涂布層均勻質(zhì)量裝置第一較佳實(shí)施例示意圖；圖7為本發(fā)明改善涂布層均勻質(zhì)量的方法的第四較佳實(shí)施例以及改善涂布層均勻質(zhì)量裝置第二較佳實(shí)施例示意圖；圖8A為本發(fā)明改善涂布層均勻質(zhì)量的方法的第五較佳實(shí)施例流程示意圖；圖8B為本發(fā)明第五較佳實(shí)施例的波形產(chǎn)生器配置示意圖；圖8C為本發(fā)明第五較佳實(shí)施例的相位差示意圖。
其中，附圖標(biāo)記1-涂布頭10-下游唇體11-上游唇體
12-低壓裝置13-波形產(chǎn)生器130-波形2-基板3-涂布珠30-上游新月31-下游新月32-涂布層33-云紋34-云紋產(chǎn)生頻率40-涂布窗域41-邊界溢流區(qū)42-空氣卷入?yún)^(qū)43-肋條與河川區(qū)44-云紋區(qū)60-改善涂布層均勻質(zhì)量的方法601~602-流程61-改善涂布層均勻質(zhì)量的方法611~614-流程50-上游區(qū)域51-下游區(qū)域7-涂布頭70-上游唇體71-下游唇體701、711-連續(xù)曲面72-槽孔8-傾角調(diào)整裝置80-平行機(jī)構(gòu)801-頂板802-承載板
81-位置條整體82-間隙調(diào)整機(jī)構(gòu)91-回流θ-攻角u-相對速度a-涂布間隙b-供料間隙具體實(shí)施方式
如圖3所示，本發(fā)明提供一種改善涂布層均勻質(zhì)量的工藝方法60，其是包括有下列步驟首先，如步驟601所示，提供一涂布頭以及一基板，利用該涂布頭與該基板間的一相對運(yùn)動使該涂布頭涂布至少一層涂料流體于該基板的上。然后如步驟602所示，以一控制方式調(diào)節(jié)該基板與該涂布頭間一涂布珠的壓力環(huán)境(壓力剃度)以控制該涂布珠的一上游新月長度或穩(wěn)定度，使工藝落于一無缺陷涂布窗域內(nèi)。接下來，將針對調(diào)整方式逐一介紹。
如圖4A所示，在本實(shí)施例中，利用與涂布機(jī)臺同步且設(shè)置于涂布珠3上游區(qū)域50的一低壓裝置12來提高涂布珠上游區(qū)域50的真空度，使得上游區(qū)域50以及下游區(qū)域51產(chǎn)生壓力差，以控制上游新月30長度或穩(wěn)定度。如圖4B所示，利用此方式可使得涂布條件進(jìn)入到涂布窗域40內(nèi)，進(jìn)而改善涂布質(zhì)量而解決云紋缺陷的問題。為了使涂布珠3更加穩(wěn)定，起始的真空度可以較高，而隨著工藝時間逐步降低至某默認(rèn)值，至于真空度變化的曲線與涂布速度則必須配合實(shí)際的需求而定。另外，也可以在涂布過程中維持起始的真空度。
從圖2A中可以了解，云紋缺陷是在涂布窗域40的下部穩(wěn)定極限邊界，所以可見云紋現(xiàn)象是出現(xiàn)于低真空壓力的情形下。而現(xiàn)行的光阻劑涂布多在常壓環(huán)境下進(jìn)行，因此可推論涂布珠的上游月形長度確實(shí)為形成云紋的因素。所以如在涂布上游區(qū)建立低壓區(qū)，則可以使改善云紋現(xiàn)象，使涂布條件進(jìn)入到涂布窗域40。因此，通過本較佳實(shí)施例的方式，通過以該低壓裝置12來調(diào)整上游區(qū)域50的真空度，可以有效控制云紋缺陷的問題。
如圖5A所示，在本實(shí)施例中，利用動態(tài)移動涂布頭1與該基板2之間的攻角θ，進(jìn)而改變涂布流的壓力分布。所謂動態(tài)移動涂布頭1也即在涂布工藝中逐漸地改變涂布頭的攻角θ。在隨著涂布頭1的動態(tài)移動中，可以改變涂布珠3的上游新月30長度或穩(wěn)定度。在本較佳實(shí)施例中該攻角θ可從4度逐漸改變至0度，但不在此限。如圖5B所示，在調(diào)整攻角θ角度時，要注意避免角度太大而產(chǎn)生負(fù)壓，使得涂布流內(nèi)部產(chǎn)生回流91。所謂回流91即為涂布流先回向上游溢流，然后在往下游方向流動。此外，也要注意如果壓力梯度太低的話也會引發(fā)涂布流不穩(wěn)定的現(xiàn)象。所以通過適當(dāng)?shù)慕嵌茸兓?，而產(chǎn)生適當(dāng)?shù)膲毫Ψ植歼M(jìn)而控制上游新月長度。
如圖6所示，在本實(shí)施例中，其精神也是改變基板2與該涂布頭1之間的夾角，與前述的實(shí)施例不同的是，本實(shí)施例利用移動基板來改變涂布頭的攻角。在移動基板2時，涂布頭1仍朝向重力方向。在圖標(biāo)中，移動該基板2的方式是通過一傾角調(diào)整裝置8來改變基板2與涂布頭1的角度。該傾角調(diào)整裝置8包括有一承載基板2的一平行機(jī)構(gòu)80，該平行機(jī)構(gòu)80還具有一頂板801以及一承載板802，頂板801與承載板802之間還具有一間隙調(diào)整機(jī)構(gòu)82，以調(diào)整該頂板801與承載板802之間的距離。該平行機(jī)構(gòu)80的一側(cè)還連接有一位置調(diào)整體81，該位置調(diào)整體81可進(jìn)行一重力方向的往復(fù)運(yùn)動，以改變該基板2與涂布頭1之間的夾角。
如圖7所示，在本實(shí)施例中，利用變化涂布頭7的幾何外型設(shè)計(jì)來改變涂布珠內(nèi)的壓力分布，使得流場趨向穩(wěn)定以及不會產(chǎn)生回流。通過涂布頭7的外形設(shè)計(jì)適當(dāng)產(chǎn)生適當(dāng)?shù)膲毫Ψ植?，來控制上下游新?1涂布液面，達(dá)到擴(kuò)充涂布窗域的目的。該涂布頭7包括有一上游唇體70以及一下游唇體71，該上游唇體70與該下游唇體71間還具有至少一槽孔72，使該至少一層涂料流體通過該槽孔72涂布于該基板2上。在本實(shí)施例中，涂布頭7的上、下游唇體70、71與該基板2相對的面為一連續(xù)曲面結(jié)構(gòu)701、711。其中曲面結(jié)構(gòu)701、711由至少一凸面以及至少一凹面所構(gòu)成。在本實(shí)施例中凸面具有可以增加當(dāng)?shù)氐膲毫?，其壓力梯度dp/dx＞0，而凹面可降低當(dāng)?shù)貕毫?，其壓力梯度dp/dx＜0。
為了更了解設(shè)計(jì)該上、下游唇體70、71表面設(shè)計(jì)，以下揭露一設(shè)計(jì)實(shí)施方法。欲達(dá)到dp/dx＞0的壓力梯度條件時，先假設(shè)以五階方程式來描述該上、下游唇體70、71的連續(xù)曲面結(jié)構(gòu)701、711如式(1)所示y＝ax5+bx4+cx3+dx2+ex+f.................................(1)同時，設(shè)定存在一反曲點(diǎn)位于x方向的2/3L長度點(diǎn)上。此外，其它所需的邊界條件如下y(O)＝H..................(2)y(L)＝3H.................(3)dy(O)/dx＝0..............(4)dy(L)/dx＝0..............(5)d2y/dx2＝0...............(6)其中H為涂布高度，L為槽孔72中心至上、下游唇體70、71的連續(xù)曲面結(jié)構(gòu)701、711端面的距離，如圖7所示。然后以上述(2)至(6)為邊界條件，求出式(1)的解，以H＝100μm，L＝1000μm為例，得到a＝-4.6×10-19b＝-9.24×10-15c＝3.39×10-10d＝0e＝0f＝100若想達(dá)到dp/dx＜0的條件，則僅需修改y(L)＝H/3的邊界條件即可。前述提供的實(shí)施例僅為達(dá)到本發(fā)明的精神的較佳實(shí)施方式，只要秉持前述的原則，就可獲得可達(dá)到壓力環(huán)境的上、下游唇體70、71的連續(xù)曲面結(jié)構(gòu)701、711。
如圖8A所示，云紋現(xiàn)象是一種周期性涂布層厚度變化而引起，云紋出現(xiàn)的頻率與涂布滯留時間有很強(qiáng)的關(guān)聯(lián)。因此本發(fā)明提供一種改善涂布層均勻質(zhì)量的工藝方法61，其包括有下列步驟首先以步驟611提供一涂布頭以及一基板，利用該涂布頭與該基板間的一相對運(yùn)動使該涂布頭涂布至少一層涂料流體于該基板之上。然后進(jìn)行步驟612，預(yù)測云紋的一形成頻率。該預(yù)測的方式可以事先建立云紋產(chǎn)生頻率34的數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)庫，然后是狀況來決定云紋產(chǎn)生的頻率。接下來進(jìn)行步驟613，以一波形產(chǎn)生器，產(chǎn)生與該形成頻率具有一相位差的一波形。最后進(jìn)行步驟614，使該波形消除該基板與該涂布頭間一涂布珠的下游月形邊界振動33。
請參閱圖8B所示，在本實(shí)施例中，該波形產(chǎn)生器13為一聲波產(chǎn)生器，該波形130為一聲波。如圖8C所示，該波形130與該涂布層32表面的云紋產(chǎn)生頻率34(也即涂布珠下游月形邊界的振動頻率)具有180度的相位差，進(jìn)而達(dá)到涂布層厚度均勻化的目標(biāo)。此外，該相位差也可為165度至195度。
當(dāng)然，本發(fā)明還可有其它多種實(shí)施例，在不背離本發(fā)明精神及其實(shí)質(zhì)的情況下，熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員當(dāng)可根據(jù)本發(fā)明作出各種相應(yīng)的改變和變形，但這些相應(yīng)的改變和變形都應(yīng)屬于本發(fā)明所附的權(quán)利要求
的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種改善涂布層均勻質(zhì)量的工藝方法，其特征在于，包括下列步驟提供一涂布頭以及一基板，利用該涂布頭與該基板間的一相對運(yùn)動使該涂布頭涂布至少一層涂料流體于該基板之上；以及以一控制調(diào)節(jié)方式，使控制該基板與該涂布頭間一涂布珠的壓力梯度，以調(diào)整該涂布珠的一上游新月長度，使工藝落于一涂布窗域內(nèi)。
2.根據(jù)權(quán)利要求
1所述的改善涂布層均勻質(zhì)量的工藝方法，其特征在于，該控制調(diào)節(jié)方式還包括一調(diào)整該涂布頭的上游區(qū)域的一真空度，使調(diào)整該涂料流體的上游新月長度，使工藝落于一涂布窗域內(nèi)。
3.根據(jù)權(quán)利要求
2所述的改善涂布層均勻質(zhì)量的工藝方法，其特征在于，該真空度可選擇為一定值以及動態(tài)改變值其中之一。
4.根據(jù)權(quán)利要求
2所述的改善涂布層均勻質(zhì)量的工藝方法，其特征在于，該控制調(diào)節(jié)方式還可同時控制下游區(qū)域的真空度。
5.根據(jù)權(quán)利要求
2所述的改善涂布層均勻質(zhì)量的工藝方法，其特征在于，其可通過在該涂布頭的上游區(qū)域設(shè)置一低壓裝置以降低上游區(qū)域的氣壓進(jìn)而調(diào)整該真空度。
6.根據(jù)權(quán)利要求
1所述的改善涂布層均勻質(zhì)量的工藝方法，其特征在于，該涂布頭可為一上游唇體以及一下游唇體，該上游唇體與該下游唇體間還具有至少一槽孔，且上游唇體以及該下游唇體與該基板相對的一面上具有一連續(xù)曲面的設(shè)計(jì)，以控制調(diào)節(jié)涂料流體的壓力梯度，以調(diào)整該涂料流體的一上游新月長度，使工藝落于一涂布窗域內(nèi)。
7.根據(jù)權(quán)利要求
6所述的改善涂布層均勻質(zhì)量的工藝方法，其特征在于，該連續(xù)曲面具有至少一凹面以降低壓力梯度以及一凸面以增加壓力梯度其中之一。
8.根據(jù)權(quán)利要求
6所述的改善涂布層均勻質(zhì)量的工藝方法，其特征在于，該連續(xù)曲面為凹面與凸面的組合，以控制調(diào)節(jié)涂料流體的壓力梯度。
9.根據(jù)權(quán)利要求
1所述的改善涂布層均勻質(zhì)量的工藝方法，其特征在于，該控制調(diào)節(jié)方式還包括在涂布過程中，以一調(diào)整方式改變該涂布頭與該基板間的一攻角角度。
10.根據(jù)權(quán)利要求
9所述的改善涂布層均勻質(zhì)量的工藝方法，其特征在于，該調(diào)整方式還包括下列步驟使該基板保持一水平方向；以及在涂布過程中，移動該涂布頭，以動態(tài)改變該攻角角度。
11.根據(jù)權(quán)利要求
10所述的改善涂布層均勻質(zhì)量的工藝方法，其特征在于，該攻角的角度介于四度至零度之間。
12.根據(jù)權(quán)利要求
9所述的改善涂布層均勻質(zhì)量的工藝方法，其特征在于，該調(diào)整方式還包括下列步驟使該涂布頭保持一重力方向；以及在涂布過程中，移動該基板，以動態(tài)改變該攻角角度。
13.根據(jù)權(quán)利要求
12所述的改善涂布層均勻質(zhì)量的工藝方法，其特征在于，該攻角的角度介于四度至零度之間。
14.根據(jù)權(quán)利要求
12所述的改善涂布層均勻質(zhì)量的工藝方法，其特征在于，該基板設(shè)置于一傾斜調(diào)整裝置上。
15.根據(jù)權(quán)利要求
14所述的改善涂布層均勻質(zhì)量的工藝方法，其特征在于，該傾斜調(diào)整裝置具有一承載板以承載該基板，該承載板的一側(cè)還連接于可沿重力方向進(jìn)行往復(fù)運(yùn)動的一位置調(diào)整體上，以調(diào)整該攻角。
16.根據(jù)權(quán)利要求
14所述的改善涂布層均勻質(zhì)量的工藝方法，其特征在于，該傾斜調(diào)整裝置具有一平行機(jī)構(gòu)承載該基板，該平行機(jī)構(gòu)一側(cè)還連接于可沿重力方向進(jìn)行往復(fù)運(yùn)動的一位置調(diào)整體上以調(diào)整該攻角。
17.根據(jù)權(quán)利要求
1所述的改善涂布層均勻質(zhì)量的工藝方法，其特征在于，該控制調(diào)節(jié)方式包括有下列步驟提供形成一云紋的頻率；以及以一波形產(chǎn)生器，產(chǎn)生與該云紋的頻率具有一相位差的一波形，使該波形消除該基板與該涂布頭間一涂布珠的下游月形邊界振動。
18.根據(jù)權(quán)利要求
17所述的改善涂布層均勻質(zhì)量的工藝方法，其特征在于，該相位差為180度。
19.根據(jù)權(quán)利要求
17所述的改善涂布層均勻質(zhì)量的工藝方法，其特征在于，該相位差為165度至195度之間。
20.根據(jù)權(quán)利要求
17所述的改善涂布層均勻質(zhì)量的工藝方法，其特征在于，該波形產(chǎn)生器為一聲波產(chǎn)生器。
專利摘要
本發(fā)明公開了一種改善涂布層均勻質(zhì)量的工藝方法，該方法包括下列步驟，首先提供一涂布頭以及一基板，利用該涂布頭與該基板間的一相對運(yùn)動使從該涂布頭輸出的涂料流體可以涂布于基板上；再以一控制方式調(diào)節(jié)該基板與該涂布頭間一涂布珠的壓力環(huán)境以控制該涂布珠的一上游新月長度或穩(wěn)定度，使工藝落于一無缺陷的涂布窗域內(nèi)。通過該方法，本發(fā)明分別設(shè)計(jì)了涂布頭的結(jié)構(gòu)以及調(diào)整基板與涂布頭間的攻角，進(jìn)而控制涂布珠的壓力梯度變化，以提升工藝的良品率。此外，本發(fā)明還提供一種方法，通過預(yù)測缺陷的頻率，并以與該缺陷的頻率具有一相位差的一波形來減低涂布珠下游月形的振動，進(jìn)而達(dá)到減少缺陷產(chǎn)生，提高工藝良品率的目的。
文檔編號B05C11/02GK1990121SQ200510137697
公開日2007年7月4日 申請日期2005年12月31日
發(fā)明者何無忌, 麥越漢 申請人:財(cái)團(tuán)法人工業(yè)技術(shù)研究院導(dǎo)出引文BiBTeX, EndNote, RefMan