一種反滲透膜超聲波清洗裝置制造方法
【專(zhuān)利摘要】一種反滲透膜超聲波清洗裝置，包括殼體和超聲波反應(yīng)器，殼體內(nèi)設(shè)有用以承托待清洗膜元件的橫板，所述殼體、橫板限定二空腔，橫板的上部為清洗空腔、下部為超聲波發(fā)生空腔，清洗空腔設(shè)有與之連通的排污口，超聲波反應(yīng)器設(shè)于超聲波發(fā)生空腔內(nèi)，所述洗空腔內(nèi)壁被內(nèi)襯層覆蓋，超聲波反應(yīng)器與橫板下部的換能器通過(guò)電纜連接。本實(shí)用新型在傳統(tǒng)膜清洗技術(shù)的基礎(chǔ)上，采用超聲波發(fā)生裝置進(jìn)行膜清洗，同時(shí)配置少量清洗藥液輔助其工作，使反滲透膜的清洗可以不用在離線(xiàn)清洗機(jī)內(nèi)進(jìn)行，并且減少藥劑的使用量，提高清洗效率，并且可以對(duì)污染特別嚴(yán)重的反滲透膜進(jìn)行清洗至正常使用。
【專(zhuān)利說(shuō)明】一種反滲透膜超聲波清洗裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種反滲透膜清洗裝置，尤其涉及一種反滲透膜超聲波清洗裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]反滲透膜是一項(xiàng)高新膜分離技術(shù)，反滲透膜孔徑小至納米級(jí)，大都小于10A，在一定的壓力下，水分子可以通過(guò)膜表面，而無(wú)機(jī)鹽、重金屬離子、有機(jī)物、膠體、細(xì)菌、病毒等雜質(zhì)無(wú)法通過(guò)，從而達(dá)到去除雜質(zhì)的目的，但同時(shí)反滲透膜上會(huì)殘留很多的污垢雜質(zhì)，這時(shí)就需要對(duì)反滲透膜進(jìn)行清洗。傳統(tǒng)的反滲透膜的清洗方法分為在線(xiàn)清洗和離線(xiàn)清洗2種。
[0003]當(dāng)反滲透系統(tǒng)參數(shù)出現(xiàn)如下變化，就要對(duì)反滲透膜做清洗:系統(tǒng)的段間壓差一段壓差< 0.2Mpa，二段壓差< 0.1Mpa ;在系統(tǒng)運(yùn)行參數(shù)不變的情況下，通過(guò)溫度校正系統(tǒng)的產(chǎn)水量恢復(fù)設(shè)計(jì)產(chǎn)水量的85%以上；產(chǎn)水脫鹽率變化不超過(guò)5%，此時(shí)需要進(jìn)行在線(xiàn)清洗。
[0004]在線(xiàn)清洗時(shí)，對(duì)于不同位置的反滲透膜的針對(duì)性差。由于一根膜殼中通常不是一根膜元件，所以這些膜元件的污染情況也存在差別，當(dāng)使用同樣濃度的清洗液去清洗不同污染情形的膜時(shí)，必然造成有的膜清洗過(guò)度，而有的膜清洗不足的情形，因此清洗效果差，而且還容易形成交叉污染。此時(shí)就需要進(jìn)行離線(xiàn)清洗。
[0005]傳統(tǒng)的離線(xiàn)清洗方法是主要是配制清洗溶液，并將其打入離線(xiàn)清洗機(jī)膜殼內(nèi)達(dá)到清洗干凈的效果。但是，清洗時(shí)間長(zhǎng)，使用清洗藥劑量多、清洗效率差、對(duì)一些污染結(jié)垢特別嚴(yán)重的膜清洗不徹底。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]為了解決現(xiàn)有技術(shù)中反滲透膜清洗時(shí)間長(zhǎng)，使用清洗藥劑量多、清洗效率差、對(duì)一些污染結(jié)垢特別嚴(yán)重的膜清洗不徹底的技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型提供一種反滲透膜超聲波清洗裝置，本技術(shù)在傳統(tǒng)膜清洗技術(shù)的基礎(chǔ)上，采用超聲波發(fā)生裝置進(jìn)行膜清洗，同時(shí)配置少量清洗藥液輔助其工作，使反滲透膜的清洗可以不用在離線(xiàn)清洗機(jī)內(nèi)進(jìn)行，并且減少藥劑的使用量，提高清洗效率，并且可以對(duì)污染特別嚴(yán)重的反滲透膜進(jìn)行清洗至正常使用。
[0007]—種反滲透膜超聲波清洗裝置，包括殼體I和超聲波反應(yīng)器7，殼體I內(nèi)設(shè)有用以承托待清洗膜元件6的橫板3，所述殼體1、橫板3限定二空腔，橫板3的上部為清洗空腔9、下部為超聲波發(fā)生空腔10，清洗空腔9設(shè)有與之連通的排污口 5，超聲波反應(yīng)器7設(shè)于超聲波發(fā)生空腔10內(nèi)，其特征在于，所述洗空腔9內(nèi)壁被內(nèi)襯層2覆蓋，超聲波反應(yīng)器7與橫板3下部的換能器11通過(guò)電纜連接。
[0008]進(jìn)一步的，所述橫板3下部的換能器11至少為一個(gè)。
[0009]進(jìn)一步的，所述內(nèi)襯層2為橡膠、鋼化玻璃、聚氨脂的任意一種。進(jìn)一步的，所述內(nèi)襯層2厚度為3毫米。
[0010]進(jìn)一步的 ，所述超聲波反應(yīng)器7連接于殼體I底部。
[0011]進(jìn)一步的，所述排污口 5靠近橫板3。[0012]進(jìn)一步的，所述清洗空腔9與超聲波發(fā)生空腔10的容積比為2:3。
[0013]通過(guò)以上技術(shù)方案的實(shí)施，本實(shí)用新型使得反滲透膜的清洗可以不用在離線(xiàn)清洗機(jī)內(nèi)進(jìn)行，并且減少藥劑的使用量，提高清洗效率，并且可以對(duì)污染特別嚴(yán)重的反滲透膜進(jìn)行清洗至正常使用。
【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0014]附圖1為本實(shí)用新型反滲透膜超聲波清洗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0015]附圖2為附圖1的俯視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0016]下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的具體實(shí)施做出詳細(xì)的說(shuō)明。
[0017]如圖1、圖2所示，本實(shí)用新型包括殼體I和超聲波反應(yīng)器7，殼體I內(nèi)設(shè)有用以承托待清洗膜元件6的橫板3，所述殼體1、橫板3限定二空腔，橫板3的上部為清洗空腔9、下部為超聲波發(fā)生空腔10，清洗空腔9設(shè)有與之連通的排污口 5，排污口 5靠近橫板3，超聲波反應(yīng)器7設(shè)于超聲波發(fā)生空腔10內(nèi)并連接于殼體I底部，所述洗空腔9內(nèi)壁被內(nèi)襯層2覆蓋，內(nèi)襯層2厚度為3毫米，材料為橡膠、鋼化玻璃、聚氨脂的任意一種，超聲波反應(yīng)器7與橫板3下部的換能器11通過(guò)電纜連接。
[0018]使用時(shí)，將反滲透膜提前放置于橫板3上，清洗空腔9內(nèi)存放有清洗液，超聲波發(fā)生器7將工頻電轉(zhuǎn)變成高頻電信號(hào)，通過(guò)電纜輸送到換能器11上，通過(guò)換能器轉(zhuǎn)換成了交頻機(jī)械振蕩而傳播到清洗液中，強(qiáng)力的超聲波在清洗液中以疏密相間的形式向反滲透膜輻射，產(chǎn)生“空化”現(xiàn)象，即在清洗液中產(chǎn)生“氣泡”形式，產(chǎn)生破裂現(xiàn)象。當(dāng)“空化”在達(dá)到被反滲透膜表面破裂的瞬間，產(chǎn)生遠(yuǎn)超過(guò)1000個(gè)大氣壓力的沖擊力，致使反滲透膜的面、孔、隙中的污垢被分散、破裂及剝落，使反滲透膜達(dá)到凈化清潔的效果，實(shí)現(xiàn)清潔目的的清洗液通過(guò)排污口 5排出。
[0019]本實(shí)用新型不限于對(duì)反滲透膜的清洗，同樣可以應(yīng)用于其他膜元件的清洗。
【權(quán)利要求】
1.一種反滲透膜超聲波清洗裝置，包括殼體(I)和超聲波反應(yīng)器(7)，殼體(I)內(nèi)設(shè)有用以承托待清洗膜元件(6)的橫板(3)，所述殼體(I)、橫板(3)限定二空腔，橫板(3)的上部為清洗空腔(9)、下部為超聲波發(fā)生空腔(10)，清洗空腔(9)設(shè)有與之連通的排污口(5)，超聲波反應(yīng)器(7)設(shè)于超聲波發(fā)生空腔(10)內(nèi)，其特征在于，所述洗空腔(9)內(nèi)壁被內(nèi)襯層(2 )覆蓋，超聲波反應(yīng)器(7 )與橫板(3 )下部的換能器(11)通過(guò)電纜連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反滲透膜超聲波清洗裝置，其特征在于，所述橫板(3)下部的換能器(11)至少為一個(gè)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的反滲透膜超聲波清洗裝置，其特征在于，所述內(nèi)襯層(2)為橡膠、鋼化玻璃、聚氨脂的任意一種。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的反滲透膜超聲波清洗裝置，其特征在于，所述內(nèi)襯層(2)厚度為3毫米。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4任一所述的反滲透膜超聲波清洗裝置，其特征在于，所述超聲波反應(yīng)器(7)連接于殼體(I)底部。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至4任一所述的反滲透膜超聲波清洗裝置，其特征在于，所述排污口(5)靠近橫板(3)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至4任一所述的反滲透膜超聲波清洗裝置，其特征在于，所述清洗空腔(9)與超聲波發(fā)生空腔(10)的容積比為2:3。
【文檔編號(hào)】B01D65/02GK203577650SQ201320707467
【公開(kāi)日】2014年5月7日 申請(qǐng)日期:2013年11月11日 優(yōu)先權(quán)日:2013年11月11日
【發(fā)明者】司洪亮, 溫建志, 袁香英, 柴惠臣, 楊濤 申請(qǐng)人:濟(jì)南沃特佳科技有限公司