專利名稱：干式脫硫脫硝裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及干式脫硫脫硝裝置。
背景技術(shù)：
來自使用化石燃料的設(shè)備(例如，火力發(fā)電設(shè)備及燒結(jié)設(shè)備)的廢氣，通過各種方法進(jìn)行脫硫及脫硝處理后，從煙 排出。實施該脫硫及脫硝處理的干式脫硫脫硝裝置(廢氣處理裝置)具有用于處理廢氣的吸附塔。在該吸附塔中，為了吸附廢氣中的有害物質(zhì)而使用了碳質(zhì)吸附劑。碳質(zhì)吸附劑包括活性炭、活性焦炭、活性木炭以及活性褐煤等。碳質(zhì)吸附劑通常價格較高。為此，干式脫硫脫硝裝置具有:用于利用碳質(zhì)吸附劑除去廢氣中的S O X、N O x、戴奧辛和汞等有害物質(zhì)的吸附塔；和用于對使用完的碳質(zhì)吸附劑進(jìn)行再生處理的再生塔。另外，干式脫硫脫硝裝置具有用于輸送向吸附塔或再生塔供給的碳質(zhì)吸附劑和從吸附塔或再生塔排出的碳質(zhì)吸附劑的輸送系統(tǒng)(輸送機(jī)械裝置)。該輸送系統(tǒng)包括傳送帶和滑槽。傳送帶被配置在吸附塔和再生塔的附近，對碳質(zhì)吸附劑進(jìn)行輸送?；?接合部)包括:用于從傳送帶向吸附塔或再生塔供給碳質(zhì)吸附劑的下落路徑；和用于從吸附塔或再生塔向傳送帶排出碳質(zhì)吸附劑的下落路徑。
S卩，由傳送帶輸送來的碳質(zhì)吸附劑，經(jīng)過滑槽向吸附塔或再生塔落下。另外，碳質(zhì)吸附劑從吸附塔或再生塔經(jīng)過滑槽向傳送帶落下。在滑槽中，存在連接有具有較大直徑(截面積)的上方滑槽和與該上方滑槽的下方連接的具有較小直徑(截面積)的下方滑槽的滑槽。在這種情況下，從上方滑槽高速排出的碳質(zhì)吸附劑在多數(shù)情況下會直接碰撞到下方滑槽的內(nèi)壁。因此，下方滑槽具有在短時間內(nèi)磨損破孔的傾向。若滑槽磨損破孔了，則為了對其進(jìn)行修補，而需要停止干式脫硫脫硝裝置。進(jìn)而，也要停止其上游側(cè)的作為主機(jī)的鍋爐和燒結(jié)機(jī)等。因此有時會產(chǎn)生很大的損失。

實用新型內(nèi)容本實用新型的干式脫硫脫硝裝置(本裝置)，利用碳質(zhì)吸附劑處理廢氣，其特征在于，具備:用于輸送碳質(zhì)吸附劑的輸送部；和作為該輸送部與干式脫硫脫硝裝置的其他部位之間的碳質(zhì)吸附劑路徑的滑槽，該滑槽包括:具有較大直徑的上方滑槽；和與該上方滑槽的下方連接并具有較小直徑的下方滑槽，在所述上方滑槽的與下方滑槽連接的連接部分設(shè)置有擱板襯墊，在該擱板襯墊的與下方滑槽的上部對應(yīng)的位置設(shè)有開口部。本裝置的輸送部，例如是傳送帶。輸送部將碳質(zhì)吸附劑向本裝置的其他部位輸送。該其他部位例如是本裝置所包含的用于從廢氣中除去有害物質(zhì)(例如S O x、粉塵和N O x)的吸附塔。而且，本裝置具備作為輸送部和其他部位之間的碳質(zhì)吸附劑路徑的滑槽。即，碳質(zhì)吸附劑通過滑槽在輸送部和其他部位之間被授受。在本裝置中，該滑槽包括具有較大直徑的上方滑槽、和與該上方滑槽的下方連接并具有較小直徑的下方滑槽。而且，在上方滑槽的與下方滑槽連接的連接部分設(shè)置有擱板襯墊。進(jìn)而，在該擱板襯墊的與下方滑槽的上部對應(yīng)的位置設(shè)有開口部。在本裝置中，由上方滑槽落下來的碳質(zhì)吸附劑沖撞擱板襯墊。而且，碳質(zhì)吸附劑在擱板襯墊中蓄積，或者通過擱板襯墊的開口部向下方滑槽落下。因此，本裝置能夠抑制從上方滑槽內(nèi)落下來的碳質(zhì)吸附劑直接接觸(碰撞)下方滑槽的內(nèi)壁的情況。另外，該擱板襯墊的開口部位于下方滑槽的上部。即，擱板襯墊具有使下方滑槽的上部空出那樣的形狀。因而，通過擱板襯墊輸送至下方滑槽的碳質(zhì)吸附劑能夠從下方滑槽的正上方落下。因此，在下方滑槽沿鉛垂方向延伸的情況下，通過擱板襯墊向下方滑槽輸送的碳質(zhì)吸附劑容易沿下方滑槽延伸的方向(鉛垂方向)落下。因此，能夠更好地抑制通過擱板襯墊落下的碳質(zhì)吸附劑與下方滑槽的內(nèi)壁接觸的情況。另外，優(yōu)選擱板襯墊的開口部的直徑比下方滑槽的直徑(內(nèi)徑)小。由此，容易使通過擱板襯墊向下方滑槽輸送的碳質(zhì)吸附劑沿下方滑槽延伸的方向落下。因此，能夠進(jìn)一步良好地抑制碳質(zhì)吸附劑與下方滑槽的內(nèi)壁接觸的情況。另外，上方滑槽也可以是傾斜延伸的傾斜滑槽。另外，下方滑槽也可以是在鉛垂方向延伸的鉛垂滑槽。在這種情況下，擱板襯墊也可以具有在覆蓋上方滑槽的截面的一部分(例如約一半)的板上設(shè)有所述開口部的形狀。進(jìn)而，該擱板襯墊也可以安裝于上方滑槽的的內(nèi)壁，且該內(nèi)壁為來自上方滑槽的碳質(zhì)吸附劑的下落方向的水平分量側(cè)的內(nèi)壁。另外，下方滑槽是圓形的滑槽，擱板襯墊的開口部也可以是半圓形的。另外，也可以在擱板襯墊的開口部設(shè)置有堰堤。

圖1是表示本實用新型的一實施方式的干式脫硫脫硝裝置的概略構(gòu)成的說明圖。圖2是表示上方滑槽與下方滑槽之間的連接部分的一例的說明圖。圖3是表示上方滑槽與下方滑槽之間的連接部分的其他例的說明圖。圖4是表示上方滑槽與下方滑槽之間的連接部分的又一其他例的說明圖。
具體實施方式
下面對作為本實用新型的一實施方式的干式脫硫脫硝裝置的一例的干式脫硫脫硝裝置(本裝置)進(jìn)行說明。圖1是表示本裝置概略構(gòu)成的說明圖。如該圖所示，本裝置具備副產(chǎn)品回收設(shè)備
5、脫附氣體洗滌設(shè)備7、NH3供給器9、碳質(zhì)吸附劑儲槽部11、吸附塔13、再生塔15、篩分機(jī)17、粉塵處理設(shè)備19、碳質(zhì)吸附劑補給用傳送帶(輸送部)21、碳質(zhì)吸附劑供給用傳送帶(輸送部)23、以及碳質(zhì)吸附劑回收用傳送帶(輸送部)25。此外，本裝置具備:第I補給用滑槽30、第2補給用滑槽31、向吸附塔供給的供給用滑槽33、從吸附塔排出的排出用滑槽35、向再生塔供給的供給用滑槽37、從再生塔排出的排出用滑槽39、以及再生碳質(zhì)吸附劑的供給用滑槽41。[0031]碳質(zhì)吸附劑儲槽部11是用于儲存本裝置中使用的碳質(zhì)吸附劑并且根據(jù)需要向其外部排出的槽。吸附塔13利用碳質(zhì)吸附劑對通過自身的廢氣進(jìn)行處理(凈化)。S卩，在吸附塔13中，碳質(zhì)吸附劑從其上層部向下層部流動。另外，吸附塔13中的碳質(zhì)吸附劑吸附廢氣中的硫氧化物(SOx)并且將氮氧化物(NOx)還原成N2。由此，從廢氣中除去有害物質(zhì)。然后,廢氣從吸附塔13排出并流向未圖示的煙囪。NH3供給器9向吸附塔13供給氨(NH3)。由此，被導(dǎo)入到吸附塔13的廢氣中混入氨(NH3)。因此,在吸附塔13中,利用NH3將廢氣中的氮氧化物(NOx)分解為氮(N2)。另外，廢氣中的二氧化硫(SOx)在碳質(zhì)吸附劑的細(xì)孔內(nèi)進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)。由此，生成硫酸(H2SO4),并吸附于碳質(zhì)吸附劑中。而且，該硫酸利用NH3而成為酸性硫酸銨或者硫酸銨，并吸附于碳質(zhì)吸附劑中。此外，本裝置的吸附塔13是橫流式的移動層。即，在吸附塔13中，碳質(zhì)吸附劑從上部供給并從底部排出。另外，廢氣沿大致與碳質(zhì)吸附劑的流動方向正交的方向在吸附塔13內(nèi)流動。吸附塔13利用從上部供給的碳質(zhì)吸附劑、以及NH3來除去廢氣中含有的硫氧化物及氮氧化物。吸附塔13將使用完的碳質(zhì)吸附劑(吸附了 SOx等的碳質(zhì)吸附劑)從其底部排出。再生塔15對使用完的碳質(zhì)吸附劑進(jìn)行再生(活化)處理。即，再生塔15將使用完的碳質(zhì)吸附劑加熱到400°C以上而進(jìn)行再生，以使得可再使用。再生塔15將再生后的碳質(zhì)吸附劑(再生碳質(zhì)吸附劑)和其他雜質(zhì)從其底部排出。該其他雜質(zhì)包括捕捉到的粉塵(廢氣中的塵土)和由于裂開或磨損等而產(chǎn)生的碳質(zhì)吸附劑的細(xì)粒和粉(以下，稱作碳質(zhì)吸附劑粉)。篩分機(jī)(振動篩)17從來自再生塔15的排出物中取出再生碳質(zhì)吸附劑。即，篩分機(jī)17通過把來自再生塔15的排出物進(jìn)行過篩，從來自再生塔15的排出物中除去捕捉粉塵和碳質(zhì)吸附劑粉。而且，篩分 機(jī)17將剩下的再生碳質(zhì)吸附劑排出。此外，被除去的捕捉粉塵和碳質(zhì)吸附劑粉被送到粉塵處理設(shè)備19。在再生塔15中，通過加熱碳質(zhì)吸附劑，硫酸與作為碳質(zhì)吸附劑的構(gòu)成元素的碳(C)反應(yīng)，而被分解為so2。而且，硫酸銨及酸性硫酸銨被分解成n2。另外，在這個過程中，生成NH3。S卩，在再生塔15中，產(chǎn)生了包含N2、SO2及NH3的脫附氣體(包含硫氧化物的氣體)。該脫附氣體被N2氣等惰性氣體稀釋。由此，脫附氣體作為具有10 30% -dry的SO2濃度的氣體被從再生塔15排出。脫附氣體洗滌設(shè)備7對從再生塔15排出的脫附氣體進(jìn)行洗滌。由此，從脫附氣體中除去NH3及粉塵。NH3被洗滌水吸收。洗滌后的脫附氣體被導(dǎo)入到副產(chǎn)品回收設(shè)備5。副產(chǎn)品回收設(shè)備5例如是硫酸制造設(shè)備或石膏制造設(shè)備中的任一種。碳質(zhì)吸附劑補給用傳送帶21接住從碳質(zhì)吸附劑儲槽部11供給的碳質(zhì)吸附劑，并輸送到碳質(zhì)吸附劑回收用傳送帶25。碳質(zhì)吸附劑回收用傳送帶(斗式傳送帶)25接住從吸附塔13排出的使用完的碳質(zhì)吸附劑。碳質(zhì)吸附劑回收用傳送帶25將該使用完的碳質(zhì)吸附劑和從碳質(zhì)吸附劑儲槽部11供給的碳質(zhì)吸附劑輸送至再生塔15。碳質(zhì)吸附劑供給用傳送帶(斗式傳送帶)23接住由篩分機(jī)17篩分出的再生碳質(zhì)吸附劑。碳質(zhì)吸附劑供給用傳送帶23將該再生碳質(zhì)吸附劑輸送到吸附塔13。[0044]第I補給用滑槽30是用于將從碳質(zhì)吸附劑儲槽部11供給的碳質(zhì)吸附劑裝載到碳質(zhì)吸附劑補給用傳送帶21的滑槽。第2補給用滑槽31是用于將由碳質(zhì)吸附劑補給用傳送帶21輸送來的碳質(zhì)吸附劑裝載到碳質(zhì)吸附劑回收用傳送帶25的滑槽。向吸附塔供給的供給用滑槽33是用于把由碳質(zhì)吸附劑供給用傳送帶23輸送來的碳質(zhì)吸附劑供給到吸附塔13的滑槽。從吸附塔排出的排出用滑槽35是用于把從吸附塔13排出的使用完的碳質(zhì)吸附劑裝載到碳質(zhì)吸附劑回收用傳送帶25的滑槽。向再生塔供給的供給用滑槽37是用于把由碳質(zhì)吸附劑回收用傳送帶25輸送來的碳質(zhì)吸附劑供給到再生塔15的滑槽。從再生塔排出的排出用滑槽39是用于把從再生塔15排出的碳質(zhì)吸附劑和雜質(zhì)供給到篩分機(jī)17的滑槽。再生碳質(zhì)吸附劑供給用的滑槽41是用于把由篩分機(jī)17篩分出的再生碳質(zhì)吸附劑裝載到碳質(zhì)吸附劑供給用傳送帶23的滑槽。篩分機(jī)17和從再生塔排出的排出用滑槽39及再生碳質(zhì)吸附劑供給用滑槽41利用橡膠等具有彈性的伸縮接頭連接在一起，以能夠吸收振動。然而，在圖1中將各個滑槽記述為在鉛垂方向延伸的一體性的滑槽。但是，實際上，各個滑槽包括多個局部滑槽和用于連接局部滑槽的連接部分。局部滑槽包括傾斜延伸的局部滑槽(傾斜滑槽)和大致沿鉛垂方向延伸的局部滑槽(鉛垂滑槽)。圖2是表示傾斜滑槽和鉛垂滑槽之間的連接部分J的說明圖。該連接部分J是方形滑槽(上方滑槽)51和其下方的圓形滑槽(下方滑槽)53之間的連接部分。方形滑槽51的上方(未圖示)是圖2中從右上方向左下方延伸的傾斜滑槽。因此，碳質(zhì)吸附劑從方形滑槽51上方的傾斜滑槽，如箭頭A所示，從右上方向左下方落下。圖2中的箭頭Xl表示該下落方向的水平分量。另外，箭頭X2表示與Xl相反的方向。方形滑槽51具有擱板襯墊55。該擱板襯墊55被設(shè)置于方形滑槽51中的箭頭Xl側(cè)的內(nèi)壁。擱板襯墊55抑制了從方形滑槽55上方的傾斜滑槽落下來的碳質(zhì)吸附劑直接與圓形滑槽53的內(nèi)壁碰撞。擱板襯墊55具有平板部61和堰堤63。平板部61具有如下形狀:在覆蓋方形滑槽51的截面的一部分(例如約一半)的板上設(shè)有半圓形的開口部(凹陷)65。開口部65設(shè)置于平板部61中的與圓形滑槽53的上部(圓形滑槽53的開口)對應(yīng)的位置。開口部65的直徑比圓形滑槽53的直徑小。堰堤63沿著該開口部65而形成。在圖2所示的構(gòu)成中，碳質(zhì)吸附劑從方形滑槽51上方的傾斜滑槽如箭頭A所示落下。而且，碳質(zhì)吸附劑被擱板襯墊55的平板部61接住。一部分碳質(zhì)吸附劑蓄積在那里并滯留。由堰堤63促進(jìn)了該碳質(zhì)吸附劑的蓄積及滯留。另外，其他的碳質(zhì)吸附劑在與平板部61、堰堤63或已滯留的碳質(zhì)吸附劑碰撞后，如箭頭B所示，通過開口部65向圓形滑槽53落下。另外也有時由于從傾斜滑槽落下來的碳質(zhì)吸附劑的下落沖擊，使滯留于平板部61的碳質(zhì)吸附劑通過開口部65向圓形滑槽53流動并落下。如上所述，在本裝置中，從方形滑槽51上方的傾斜滑槽落下來的碳質(zhì)吸附劑在擱板襯墊55蓄積，或者在與平板部61、堰堤63或已滯留的碳質(zhì)吸附劑碰撞后向圓形滑槽53落下。因此，碳質(zhì)吸附劑不會直接與圓形滑槽53的內(nèi)壁碰撞。因此，在本裝置中，能夠減少由于與碳質(zhì)吸附劑之間的碰撞造成的圓形滑槽53的磨損破孔。此外，在本裝置中，在擱板襯墊55 (平板部61)的與圓形滑槽53的上部對應(yīng)的位置設(shè)有開口部65。即，擱板襯墊55形成為，使圓形滑槽53的上部空出。因此，在本裝置中，經(jīng)由擱板襯墊55流向圓形滑槽53的碳質(zhì)吸附劑能夠從圓形滑槽53的開口的正上方沿圓形滑槽53的延伸方向(鉛垂方向)落下。因此，能夠更好地抑制碳質(zhì)吸附劑與下方滑槽的內(nèi)壁接觸。此外,在本裝置中，擱板襯墊55 (平板部61)的開口部65是向碳質(zhì)吸附劑下落方向中的水平分量的方向(箭頭XI)凹陷的部分。因此，從傾斜滑槽落下來的碳質(zhì)吸附劑進(jìn)行碰撞的擱板襯墊55的部分(碰撞部分)、即平板部61、堰堤63或已滯留的碳質(zhì)吸附劑也靠向如箭頭Xl所示的方向。所以，在本裝置中，碰撞部分遠(yuǎn)離圓形滑槽53的箭頭X2側(cè)的內(nèi)壁。因此，碳質(zhì)吸附劑即使在平板部61、堰堤63或已停留的碳質(zhì)吸附劑中彈起，也難以到達(dá)圓形滑槽53的內(nèi)壁。因此，本裝置能夠抑制彈起的碳質(zhì)吸附劑對圓形滑槽53內(nèi)壁的碰撞。因此，本裝置能夠更好地減少由于與碳質(zhì)吸附劑之間的碰撞造成的圓形滑槽53的磨損破孔。另外，在本裝置中，在方形滑槽51的內(nèi)面設(shè)有擱板襯墊55。因此，碳質(zhì)吸附劑被均勻地堆積于擱板襯墊55的平板部61。另外,在本裝置中，開口部65的直徑小于圓形滑槽53的直徑。因此能夠抑制從平板部61灑落的碳質(zhì)吸附劑與圓形滑槽53的內(nèi)壁接觸。因此，本裝置能夠更好地減少由于與碳質(zhì)吸附劑之間的碰撞引起的圓形滑槽53的磨損破孔。這樣的擱板襯墊55特別地能夠適用于將從傾斜的方形滑槽內(nèi)落下的碳質(zhì)吸附劑的移動方向進(jìn)行變更的部位等。例如，對將擱板襯墊55應(yīng)用于變向器的下部的情況進(jìn)行說明。變向器用來在主管路和旁路管路之間對碳質(zhì)吸附劑的流動方向進(jìn)行變更。通常，變向器的外殼是方形的。主管路沿垂直方向延伸。另一方面，旁路管路的延伸方向常常根據(jù)移送目的地的位置不同而改變。擱板襯墊55能夠特別適用于這樣的部位。此外，設(shè)于平板部61的開口部65的形狀也可以不是半圓形。S卩，開口部65只要朝碳質(zhì)吸附劑下落方向的水平 分量的方向(箭頭XI)凹陷即可。因此，開口部65的形狀例如也可以是矩形。另外，如圖3所示，擱板襯墊55的平板部61也可以有如下形狀:在將方形滑槽51的截面的大致整面覆蓋的板上，設(shè)有圓形的開口部65。在這種情況下，堰堤63沿開口部65形成為圓形。另外，開口部65配置于圓形滑槽53的上部。該構(gòu)成也與圖2所示的構(gòu)成一樣，能夠抑制從方形滑槽51上方的傾斜滑槽落下來的碳質(zhì)吸附劑與圓形滑槽53的內(nèi)壁碰撞(接觸)。另外，在圖3所示的構(gòu)成中，不管方形滑槽51上方的傾斜滑槽的朝向(傾斜方向)如何，都能夠防止圓形滑槽53的損傷。另外，有時也在方形滑槽51的上方設(shè)有鉛垂滑槽。即使在該情況下，有時從該鉛垂滑槽落下來的碳質(zhì)吸附劑也與具有較小內(nèi)徑的圓形滑槽53的內(nèi)壁進(jìn)行碰撞。即使在該情況下，圖3所示的擱板襯墊55也能夠抑制落下來的碳質(zhì)吸附劑與圓形滑槽53的內(nèi)壁碰撞。此外，如圖4所示，方形滑槽51也可以在圖2所示的擱板襯墊55的上方，具備第I矩形擱板襯墊71及第2矩形擱板襯墊73。第I矩形擱板襯墊71及第2矩形擱板襯墊73是覆蓋方形滑槽51的截面的一部分(例如大約一半)的板。第2矩形擱板襯墊73設(shè)置于擱板襯墊55上方的方形滑槽51中的箭頭X2側(cè)的內(nèi)壁。第I矩形擱板襯墊71設(shè)置于第2矩形擱板襯墊73上方的方形滑槽51中的箭頭Xl側(cè)的內(nèi)壁。在該構(gòu)成中，碳質(zhì)吸附劑從方形滑槽51上方的傾斜滑槽如箭頭C所示落下。而且，碳質(zhì)吸附劑被第I矩形擱板襯墊71接住。一部分碳質(zhì)吸附劑蓄積于該處，并滯留。其他的碳質(zhì)吸附劑如箭頭D所示向第2矩形擱板襯墊73落下。而且，一部分碳質(zhì)吸附劑蓄積于第2矩形擱板襯墊73并滯留。其他的碳質(zhì)吸附劑如箭頭E所示向擱板襯墊55落下。該構(gòu)成能夠減緩到達(dá)擱板襯墊55時的碳質(zhì)吸附劑的速度。因此，即使在碳質(zhì)吸附劑與圓形滑槽53的內(nèi)壁接觸的情況下，也能夠減小其損傷程度。此外，在圖2 圖4所示的構(gòu)成中，圓形滑槽53與包括傾斜滑槽的方形滑槽51的下方連接。但是，上方滑槽和下方滑槽的形狀不限于此。即，如果是在具有比較大直徑(截面積)的上方滑槽的下方連接具有比較小直徑(截面積)的下方滑槽的構(gòu)成，則通過在上方滑槽內(nèi)設(shè)置擱板襯墊55，能夠抑制從上方滑槽落下來的碳質(zhì)吸附劑與下方滑槽內(nèi)壁碰撞。另外，圖2 4所示的滑槽如本實施方式所示那樣，能夠應(yīng)用于用于對從燃煤鍋爐或燒結(jié)機(jī)等排出的大容量的廢氣進(jìn)行處理的干式脫硫脫硝裝置。另外，該滑槽能夠應(yīng)用于以輸送顆粒為目的的所有的設(shè)備。
權(quán)利要求1.一種干式脫硫脫硝裝置，利用碳質(zhì)吸附劑處理廢氣，其特征在于，具備: 輸送部，用于輸送碳質(zhì)吸附劑；和 滑槽，作為該輸送部與所述干式脫硫脫硝裝置的其他部位之間的碳質(zhì)吸附劑路徑， 該滑槽包括: 上方滑槽，具有較大直徑；和 下方滑槽，與該上方滑槽的下方連接并具有較小直徑， 在所述上方滑槽的與下方滑槽連接的連接部分設(shè)有擱板襯墊， 在該擱板襯墊的與下方滑槽的上部對應(yīng)的位置設(shè)有開口部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的干式脫硫脫硝裝置，其特征在于， 所述開口部的直徑比所述下方滑槽的直徑小。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的干式脫硫脫硝裝置，其特征在于， 所述上方滑槽是傾斜延伸的傾斜滑槽，而所述下方滑槽是在鉛垂方向延伸的鉛垂滑槽， 所述擱板襯墊具有如下形狀:在覆蓋所述上方滑槽的截面的一部分的板上設(shè)有所述開口部。
所述擱板襯墊安裝于所述上方滑槽的內(nèi)壁上，且該內(nèi)壁為來自所述上方滑槽的碳質(zhì)吸附劑的下落方向的水平分量側(cè)的內(nèi)壁。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的干式脫硫脫硝裝置，其特征在于， 所述下方滑槽是圓形的滑槽，所述擱板襯墊的開口部是半圓形的。
5.根據(jù)權(quán)利要求1 4中任意一項所述的干式脫硫脫硝裝置，其特征在于， 在所述擱板襯墊的開口部設(shè)有堰堤。
專利摘要本實用新型的干式脫硫脫硝裝置，利用碳質(zhì)吸附劑處理廢氣，其特征在于，具備用于輸送碳質(zhì)吸附劑的輸送部；以及作為該輸送部和干式脫硫脫硝裝置的其他部位之間的碳質(zhì)吸附劑路徑的滑槽，該滑槽包括具有較大直徑的上方滑槽；和與該上方滑槽的下方連接并具有較小直徑的下方滑槽。在所述上方滑槽的與下方滑槽連接的連接部分設(shè)有擱板襯墊，在該擱板襯墊的與下方滑槽的上部對應(yīng)的位置設(shè)有開口部。
文檔編號B01D53/60GK203075810SQ201320076568
公開日2013年7月24日 申請日期2013年2月19日 優(yōu)先權(quán)日2013年2月19日
發(fā)明者池上真一, 后藤浩平 申請人:住友重機(jī)械工業(yè)株式會社