本發(fā)明涉及清洗設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種硅片自動清洗裝置。

背景技術(shù)：

半導(dǎo)體器件生產(chǎn)中硅片須經(jīng)嚴(yán)格清洗。微量污染也會導(dǎo)致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染雜質(zhì)，包括有機物和無機物。這些雜質(zhì)有的以原子狀態(tài)或離子狀態(tài)，有的以薄膜形式或顆粒形式存在于硅片表面。有機污染包括光刻膠、有機溶劑殘留物、合成蠟和人接觸器件、工具、器皿帶來的油脂或纖維。無機污染包括重金屬金、銅、鐵、鉻等，嚴(yán)重影響少數(shù)載流子壽命和表面電導(dǎo)；堿金屬如鈉等，引起嚴(yán)重漏電；顆粒污染包括硅渣、塵埃、細(xì)菌、微生物、有機膠體纖維等，會導(dǎo)致各種缺陷。

現(xiàn)有的硅片在清洗時需要人工將硅片放入清洗設(shè)備內(nèi)，然后在硅片完成清洗后，再由人工將清洗好的硅片拿出，這樣只能適用于小規(guī)模生產(chǎn)，當(dāng)硅片產(chǎn)量比較大時，人工操作起來就比較麻煩，跟不上生產(chǎn)需要，導(dǎo)致生產(chǎn)效率降低。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是：為了解決現(xiàn)有的硅片在清洗時需要人工將硅片放入清洗設(shè)備內(nèi)，然后在硅片完成清洗后，再由人工將清洗好的硅片拿出，這樣只能適用于小規(guī)模生產(chǎn)，當(dāng)硅片產(chǎn)量比較大時，人工操作起來就比較麻煩，跟不上生產(chǎn)需要，導(dǎo)致生產(chǎn)效率降低的問題，現(xiàn)提供了一種硅片自動清洗裝置。

本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是：一種硅片自動清洗裝置，包括機架及設(shè)置在機架上的水槽，所述水槽內(nèi)設(shè)有超聲波發(fā)生器，所述機架上滑動設(shè)置有支架，所述支架上轉(zhuǎn)動設(shè)置有用于輸送硅片的輸送輥，所述機架上設(shè)有用于驅(qū)動支架滑動的第一電機，所述水槽內(nèi)轉(zhuǎn)動設(shè)置有主動摩擦輪，所述機架上設(shè)有用于驅(qū)動主動摩擦輪轉(zhuǎn)動的第二電機，所述輸送輥上設(shè)有從動摩擦輪，所述主動摩擦輪位于從動摩擦輪的上方，當(dāng)輸送輥位于水槽內(nèi)時，所述主動摩擦輪與所述從動摩擦輪分離，當(dāng)輸送輥脫離水槽時，所述主動摩擦輪與所述從動摩擦輪相互接觸。通過外部輸送帶將需要清洗的硅片放置在輸送輥上，停止第二電機，使得硅片靜止在輸送輥上，通過控制第一電機，第一電機帶動支架在機架上滑動，并使得輸送輥進(jìn)入到水槽內(nèi)，從而帶動硅片進(jìn)入到水槽內(nèi)，啟動超聲波發(fā)生器，對硅片進(jìn)行清洗，當(dāng)清洗結(jié)束后，通過第一電機帶動支架在機架上滑動并上升，使得主動摩擦輪與從動摩擦輪接觸，啟動第二電機帶動主動摩擦輪轉(zhuǎn)動，從而帶動沖動摩擦輪轉(zhuǎn)動，并使輸送輥上的硅片被輸送走。

進(jìn)一步地，所述第一電機的輸出端設(shè)有齒輪，所述支架上設(shè)有齒條，所述齒輪與齒條相互嚙合，所述支架上設(shè)有滑塊，所述機架上設(shè)有與滑塊相匹配的滑槽，所述滑塊滑動設(shè)置在滑槽內(nèi)，所述齒條與所述滑槽相互平行設(shè)置。通過第一電機上的齒輪帶動支架上的齒條，使得支架上的滑塊在機架上的滑槽內(nèi)滑動，實現(xiàn)支架的上升或者下降。

進(jìn)一步地，所述水槽內(nèi)設(shè)置有若干用于限位硅片的限位柱。通過限位柱，對硅片進(jìn)行限位，防止硅片掉落至水槽內(nèi)。

本發(fā)明的有益效果是：本發(fā)明硅片自動清洗裝置在使用時，通過外部輸送帶將需要清洗的硅片放置在輸送輥上，停止第二電機，使得硅片靜止在輸送輥上，通過控制第一電機，第一電機帶動支架在機架上滑動，并使得輸送輥進(jìn)入到水槽內(nèi)，從而帶動硅片進(jìn)入到水槽內(nèi)，啟動超聲波發(fā)生器，對硅片進(jìn)行清洗，當(dāng)清洗結(jié)束后，通過第一電機帶動支架在機架上滑動并上升，使得主動摩擦輪與從動摩擦輪接觸，啟動第二電機帶動主動摩擦輪轉(zhuǎn)動，從而帶動沖動摩擦輪轉(zhuǎn)動，并使輸送輥上的硅片被輸送走，本發(fā)明能夠?qū)崿F(xiàn)自動對硅片進(jìn)行清洗，提高了工作效率，避免了現(xiàn)有的硅片在清洗時需要人工將硅片放入清洗設(shè)備內(nèi)，然后在硅片完成清洗后，再由人工將清洗好的硅片拿出，這樣只能適用于小規(guī)模生產(chǎn)，當(dāng)硅片產(chǎn)量比較大時，人工操作起來就比較麻煩，跟不上生產(chǎn)需要，導(dǎo)致生產(chǎn)效率降低的問題。

附圖說明

下面結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明進(jìn)一步說明。

圖1是本發(fā)明硅片自動清洗裝置的主視圖；

圖2是本發(fā)明硅片自動清洗裝置的左視圖；

圖3是圖1中A-A剖視圖。

圖中：1、機架，2、水槽，3、超聲波發(fā)生器，4、支架，5、輸送輥，6、第一電機，7、主動摩擦輪，8、第二電機，9、從動摩擦輪，10、齒輪，11、齒條，12、限位柱。

具體實施方式

現(xiàn)在結(jié)合附圖對本發(fā)明做進(jìn)一步詳細(xì)的說明。這些附圖均為簡化的示意圖，僅以示意方式說明本發(fā)明的基本結(jié)構(gòu)，因此其僅顯示與本發(fā)明有關(guān)的構(gòu)成。

實施例

如圖1、2和3所示，一種硅片自動清洗裝置，包括機架1及設(shè)置在機架1上的水槽2，所述水槽2內(nèi)設(shè)有超聲波發(fā)生器3，所述機架1上滑動設(shè)置有支架4，所述支架4上轉(zhuǎn)動設(shè)置有用于輸送硅片的輸送輥5，所述機架1上設(shè)有用于驅(qū)動支架4滑動的第一電機6，所述水槽2內(nèi)轉(zhuǎn)動設(shè)置有主動摩擦輪7，所述機架1上設(shè)有用于驅(qū)動主動摩擦輪7轉(zhuǎn)動的第二電機8，第一電機6和第二電機8均被接入外接電源，通過外部控制器控制第一電機6和第二電機8的啟閉，所述輸送輥5上設(shè)有從動摩擦輪9，所述主動摩擦輪7位于從動摩擦輪9的上方，當(dāng)輸送輥5位于水槽2內(nèi)時，所述主動摩擦輪7與所述從動摩擦輪9分離，當(dāng)輸送輥5脫離水槽2時，所述主動摩擦輪7與所述從動摩擦輪9相互接觸。

所述第一電機6的輸出端設(shè)有齒輪10，所述支架4上設(shè)有齒條11，所述齒輪10與齒條11相互嚙合，所述支架4上設(shè)有滑塊，所述機架1上設(shè)有與滑塊相匹配的滑槽，所述滑塊滑動設(shè)置在滑槽內(nèi)，所述齒條11與所述滑槽相互平行設(shè)置。

所述水槽2內(nèi)設(shè)置有若干用于限位硅片的限位柱12。

上述硅片自動清洗裝置在使用時，位于輸送輥5的輸入端和輸出端均設(shè)有輸送硅片的輸送帶，需要清洗的硅片通過輸送帶輸送至輸送輥5的輸入端，通過第二電機8帶動輸送輥5轉(zhuǎn)動，輸送輥5帶動硅片在輸送輥5上位移，當(dāng)硅片到達(dá)指定位置時停止第二電機8即可，具體操作步驟如下：首先啟動第一電機6，第一電機6輸出端的齒輪10帶動支架4上的齒條11，從而帶動支架4上的滑塊在機架1上的滑槽內(nèi)滑動，使得輸送輥5緩慢下降至水槽2內(nèi)，同時水槽2內(nèi)的限位柱12將硅片限位，啟動超聲波發(fā)生器3，對硅片進(jìn)行清洗，當(dāng)清洗結(jié)束之后，啟動第一電機6，第一電機6的輸出端帶動齒輪10轉(zhuǎn)動，帶動齒條11上升，同時帶動支架4的滑塊在機架1上的滑槽內(nèi)滑動，當(dāng)主動摩擦輪7與從動摩擦輪9接觸時，停止第一電機6，啟動第二電機8，第二電機8帶動主動摩擦輪7轉(zhuǎn)動，帶動從動摩擦輪9轉(zhuǎn)動，并帶動輸送輥5將硅片輸出。

上述依據(jù)本發(fā)明的理想實施例為啟示，通過上述的說明內(nèi)容，相關(guān)工作人員完全可以在不偏離本項發(fā)明技術(shù)思想的范圍內(nèi)，進(jìn)行多樣的變更以及修改。本項發(fā)明的技術(shù)性范圍并不局限于說明書上的內(nèi)容，必須要根據(jù)權(quán)利要求范圍來確定其技術(shù)性范圍。