專利名稱：一種高精度控制廢蝕刻液內(nèi)各離子濃度提銅的方法
一種高精度控制廢蝕刻液內(nèi)各離子濃度提銅的方法 技術領域-
本發(fā)明涉及印制板廠蝕刻廢液的處理技術領域，特指一種在廢蝕 刻液內(nèi)提銅的方法。
背景技術：
生產(chǎn)中，通常需要對廢蝕刻液進行循環(huán)再生，以節(jié)約成本和能源， 減少排污。現(xiàn)有蝕刻液處理方式有多種，但存在有效率低、工藝復雜， 生產(chǎn)成本高的缺陷。 發(fā)明內(nèi)容-
本發(fā)明的目的在于提供一種高精度控制各離子濃度以提取金屬 銅，且余液得以循環(huán)再生的方法。
為達到上述目的，本發(fā)明采用如下技術方案
一種高精度控制廢蝕刻液內(nèi)各離子濃度提銅的方法，先是控制各 離子濃度，然后再從廢蝕刻液中提銅，提銅是在電解槽中進行，廢蝕
刻液內(nèi)各離子濃度為銅離子20-50g/L，氯離子150-170g/L， PH 值8.0-9.5，且回用再生液，循環(huán)提銅。
電解槽陰陽極距在20-50mm之間，可調(diào)；電流密度范圍在 100-1000A/m2。再生液內(nèi)各離子濃度控制范圍在氯離子160-175g/L， PH值
控制在9.8-10.2。
本發(fā)明通過高精度控制廢蝕刻液內(nèi)各離子濃度直接電解法提銅， 處理方法簡單，易操作，生產(chǎn)成本低，且能按照工藝要求高精度控制 再生液內(nèi)各離子濃度以達到生產(chǎn)工藝要求，實現(xiàn)對廢蝕刻液進行循環(huán) 再生使用，節(jié)約成本和能源，減少排污，提升環(huán)境效益、經(jīng)濟效益和 社會效益。


附圖l為本發(fā)明的實施原理圖。
具體實施例方式
以下結合附圖對本發(fā)明進一步說明
參閱圖l所示，本發(fā)明先是控制各離子濃度，然后再從廢蝕刻液 中提銅，提銅是在電解槽中進行，廢蝕刻液內(nèi)各離子濃度為銅離子:
20-50g/L，氯離子150-170g/L， PH值:8.0-9.5，提銅后所得的余液
經(jīng)過回用再生使用，用于循環(huán)提銅操作。
本發(fā)明中，電解槽陰陽極距在20-50mm之間，可調(diào)；電流密度 范圍控制在100-1000A/ m2。再生液內(nèi)各離子濃度控制范圍在氯離 子160-175g/L， PH值控制在9.8-10.2。
本發(fā)明的工作原理如下
銅離子的氧化性在銅離子濃度為20-50g/L，氯離子濃度為 150-170g/L， PH值為8.0-9.5的條件下很微弱，即此時蝕刻液的蝕刻性能最弱，在這種情況下外加電場直接電解即可提出金屬銅，將金 屬銅從混合液中釋出。提銅后的余液經(jīng)過高精度控制回用再生液調(diào)配 裝置中進行調(diào)配處理，以控制再生液內(nèi)各離子濃度控制范圍，如氯離
子165g/L或170g/L， PH值控制在IO，從而能按照工藝要求高精
度控制再生液內(nèi)各離子濃度以達到生產(chǎn)工藝要求，實現(xiàn)廢蝕刻液進行 循環(huán)再生使用。 實施例1:
通過高精度控制各離子濃度裝置將廢蝕刻液內(nèi)各離子濃度為銅
離子25g/L，氯離子160g/L， PH值9，這時外加電場直接電解
即可提出金屬銅(即在電解槽中進行)，正價銅離子獲得電子還原為 零價銅，從而實現(xiàn)提銅。提銅后的余液經(jīng)過高精度控制回用再生液調(diào) 配裝置中進行調(diào)配處理，以控制再生液內(nèi)各離子濃度控制范圍，如氯
離子168g/L， PH值控制在lO.l，從而能按照工藝要求高精度控制 再生液內(nèi)各離子濃度以達到生產(chǎn)工藝要求，實現(xiàn)廢蝕刻液進行循環(huán)再 生使用。
本發(fā)明的優(yōu)勢為工藝簡捷，不用外加任何輔助試劑即可提取金
屬銅，較少耗材，設備制作成本低。
權利要求
1、一種高精度控制廢蝕刻液內(nèi)提銅的方法，先是控制各離子濃度，然后再從廢蝕刻液中提銅，其特征在于提銅是在電解槽中進行，廢蝕刻液內(nèi)各離子濃度為銅離子20-50g/L，氯離子150-170g/L，PH值8.0-9.5，且回用再生液，循環(huán)提銅。
2、 根據(jù)權利要求1所述的高精度控制廢蝕刻液內(nèi)各離子濃度提 銅的方法，其特征在于電解槽陰陽極距在20-50mm之間，可調(diào)； 電流密度范圍在100-1000A/m2。
3、 根據(jù)權利要求1所述的高精度控制廢蝕刻液內(nèi)各離子濃度提銅的方法，其特征在于再生液內(nèi)各離子濃度控制范圍在氯離子160-175g/L， PH值控制在9.8-10.2。
全文摘要
本發(fā)明涉及印制板廠蝕刻廢液的處理技術領域，特指一種在廢蝕刻液內(nèi)提銅的方法。先是控制各離子濃度，然后再從廢蝕刻液中提銅，提銅是在電解槽中進行，廢蝕刻液內(nèi)各離子濃度為銅離子20-50g/L，氯離子150-170g/L，pH值8.0-9.5，且回用再生液，循環(huán)提銅。本發(fā)明通過高精度控制廢蝕刻液內(nèi)各離子濃度直接電解法提銅，處理方法簡單，易操作，生產(chǎn)成本低，且能按照工藝要求高精度控制再生液內(nèi)各離子濃度以達到生產(chǎn)工藝要求，實現(xiàn)對廢蝕刻液進行循環(huán)再生使用，節(jié)約成本和能源，減少排污，提升環(huán)境效益、經(jīng)濟效益和社會效益。
文檔編號C02F1/461GK101498008SQ200910037528
公開日2009年8月5日 申請日期2009年2月25日 優(yōu)先權日2009年2月25日
發(fā)明者鑫 劉, 豐 蹇 申請人:東莞市華聯(lián)環(huán)保工程有限公司