本實用新型涉及光學器件加工技術領域，尤其涉及一種光學元件清洗后高潔凈度烘干裝置。

背景技術：

在光學零件加工時，經(jīng)常需要對光學零件進行研磨、拋光、清洗和鍍膜，通過鍍膜改變光學零件中光的傳播特性。為了保證光學零件質量，通常需要多次清洗，清洗后需要烘干光學零件，避免光學零件在烘干過程中被污染。

由于目前沒有成套的適合光學零件使用的潔凈烘干裝置，在烘干光學零件時通常采用通用的烤箱或熱風機進行吹風烘干，采用烤箱烘干時，烤箱密閉烘烤時光學零件容易過熱，而且烤箱開關門烘烤、取料操作比較不便；采用熱風機進行烘干時，空氣中氣流擾動大，容易將空氣中的灰塵等顆粒雜質吹附在光學零件上，導致光學零件的清潔度受到影響，需要進一步改進。

技術實現(xiàn)要素：

為克服現(xiàn)有技術的不足，本實用新型提供了一種使用方便，烘干時潔凈不易污染、烘干效果好的光學元件清洗后高潔凈度烘干裝置。

本實用新型為達到上述技術目的所采用的技術方案是：一種光學元件清洗后高潔凈度烘干裝置，包括一個百級凈化臺，所述百級凈化臺中設有空氣凈化裝置，所述百級凈化臺的凈化區(qū)域中設有兩個能夠清潔更換的第一加熱裝置和第二加熱裝置，所述第一加熱裝置和第二加熱裝置的加熱工作部面對面設置，所述第一加熱裝置和第二加熱裝置之間設有能夠放置待烘干光學零件的烘干夾具，所述烘干夾具的底部設有便于氣流流通的支撐架，所述烘干夾具的上方設有第三加熱裝置，所述第三加熱裝置中設有能夠調節(jié)高度的安裝支架，所述安裝支架固定在所述百級凈化臺凈化區(qū)域的后側板上，所述百級凈化臺的凈化區(qū)域前側設有透明的潔凈防護簾。

所述第一加熱裝置和第二加熱裝置都為800W電加熱器，所述第一加熱裝置和第二加熱裝置中都設有溫度調節(jié)控制器。

所述第三加熱裝置中設有兩個并排設置的紅外加熱燈管，所述紅外加熱燈管固定在所述安裝支架上，所述紅外加熱燈管連接有控制器。

每個所述紅外加熱燈管的功率為750W。

本實用新型的有益效果是：

1、通過在百級凈化臺便于清潔更換的第一加熱裝置、第二加熱裝置和第三加熱裝置，在烘干時利用百級凈化臺的凈化功能，避免烘干時光學元件被污染，能夠保持光學元件潔凈；在潔凈區(qū)烘干操作也方便；

2、第一加熱裝置、第二加熱裝置和第三加熱裝置加熱功率足夠，加熱溫度可調，能夠快速的烘干光學元件表面的清洗劑及水分，不易殘留雜質印記，也不易過熱；

3、第一加熱裝置、第二加熱裝置和第三加熱裝置拆裝更換方便，便于在百級凈化臺上安裝，也便于清潔維護。

本實用新型使用方便，烘干時潔凈不易污染、烘干效果好。

附圖說明

下面結合附圖和實施例對本實用新型作進一步說明。其中：

圖1是本實用新型光學元件清洗后高潔凈度烘干裝置的結構示意圖。

具體實施方式

為詳細說明本實用新型的技術內容、構造特征、所實現(xiàn)目的及效果，以下結合實施方式并配合附圖詳細說明。

請參閱圖1所示，本實用新型光學元件清洗后高潔凈度烘干裝置包括一個百級凈化臺1，所述百級凈化臺1中設有空氣凈化裝置，所述百級凈化臺1的凈化區(qū)域11中設有兩個能夠清潔更換的第一加熱裝置2和第二加熱裝置3，所述第一加熱裝置2和第二加熱裝置3的加熱工作部面對面設置，所述第一加熱裝置2和第二加熱裝置3之間設有能夠放置待烘干光學零件的烘干夾具4，所述烘干夾具4的底部設有便于氣流流通的支撐架5，所述烘干夾具4的上方設有第三加熱裝置6，所述第三加熱裝置6中設有能夠調節(jié)高度的安裝支架61，所述安裝支架61固定在所述百級凈化臺1凈化區(qū)域11的后側板上，所述百級凈化臺1的凈化區(qū)域11前側設有透明的潔凈防護簾12。

所述第一加熱裝置2和第二加熱裝置3都為800W電加熱器，所述第一加熱裝置2和第二加熱裝置3中都設有溫度調節(jié)控制器。

所述第三加熱裝置6中設有兩個并排設置的紅外加熱燈管62，所述紅外加熱燈管62固定在所述安裝支架61上，所述紅外加熱燈管62連接有控制器63。

每個所述紅外加熱燈管62的功率為750W。

以上所述僅為本實用新型的實施例，并非因此限制本實用新型的專利范圍，凡是利用本實用新型說明書及附圖內容所作的等效結構變換，或直接或間接運用在其他相關的技術領域，均同理包括在本實用新型的專利保護范圍內。