專利名稱：防靜電離心干燥保護(hù)裝置及含有這種保護(hù)裝置的甩干設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
防靜電離心干燥保護(hù)裝置及含有這種保護(hù)裝置的甩干設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種基片生產(chǎn)工藝中使用的部件和含有這種部件的設(shè)備， 尤其是一種在基片甩干過程中使用的保護(hù)裝置和含有這種保護(hù)裝置的設(shè)備。
背景4支術(shù)
鏡片生產(chǎn)工藝中，在鏡片鍍膜切割成中片之后，需要對中片進(jìn)行漂洗和甩 干，以清除鏡片上的污物。在現(xiàn)有的甩干設(shè)備中，均是采用高速旋轉(zhuǎn)脫水的方
法進(jìn)行甩干。如圖1所示，甩干機(jī)上設(shè)有中心軸1和底座2，以及可跟隨中心軸 l旋轉(zhuǎn)的懸掛架3，基片托盤4兩端固定在懸掛架上3并可繞兩固定端翻轉(zhuǎn)?；?片托盤4上放置清洗架，鏡片中片垂直放置在清洗架中。甩干機(jī)工作時，中心 軸1帶動懸掛架3、基片托盤4和其上的清洗架高速旋轉(zhuǎn)，在離心力的作用下中 片上的水滴被甩干。
現(xiàn)有設(shè)備的缺陷是，基片托盤4的高度低于清洗架6的高度，在高速旋轉(zhuǎn) 時，靠近清洗架6外部邊緣的鏡片，與周邊的空氣發(fā)生高速摩擦，極易產(chǎn)生靜 電。在靜電的作用下，邊緣部位的鏡片吸附了空氣中的很多灰塵，影響鏡片質(zhì) 量，降低了成品率。
對其他需要清洗甩干的基片或電子元器件而言，如果對于防靜電要求比較 高，那么在甩干的過程中也同樣存在類似的問題。

實用新型內(nèi)容
本實用新型要解決的技術(shù)問題是針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種可防止基 片在甩干過程中與空氣摩擦產(chǎn)生靜電而吸附灰塵的保護(hù)裝置。本實用新型還可 以提供含有這種保護(hù)裝置的甩干設(shè)備。
為了解決上述技術(shù)問題，本實用新型采用以下技術(shù)方案
一種防靜電離心干燥保護(hù)裝置，其所述防靜電保護(hù)裝置為設(shè)有閉合側(cè)壁的
保護(hù)罩，所述保護(hù)罩側(cè)壁的高度與放置待甩干基片的清洗架高度適配。
其中所述保護(hù)罩為金屬保護(hù)罩，該金屬保護(hù)罩采用不銹鋼材料制成。 其中所述^f呆護(hù)罩為上下貫通的環(huán)形。 其中所述保護(hù)罩為上下貫通的方形。
一種含有防靜電離心干燥保護(hù)裝置的甩干設(shè)備，包含馬達(dá)、由馬達(dá)驅(qū)動的 中心軸、隨同中心軸旋轉(zhuǎn)的基片托盤，放置待甩干基片的清洗架置于所述基片 托盤上，其特征在于還包含一置于基片托盤上的防靜電離心干燥保護(hù)罩，所 述清洗架位于所述防靜電離心干燥保護(hù)罩內(nèi)部空間中，且兩者的高度相適配。
其中所述防靜電離心干燥保護(hù)罩為金屬保護(hù)罩。
其中所述防靜電離心干燥4呆護(hù)罩為上下貫通的環(huán)形。
其中所述防靜電離心干燥保護(hù)罩為上下貫通的方形。
其中所述防靜電離心干燥保護(hù)罩上端封閉。
其中防靜電離心干燥保護(hù)裝置為側(cè)壁高度與所述清洗架高度相適配的基 片托盤。
本實用新型具有以下有益效果
1. 本實用新型采用金屬制成的保護(hù)罩，高度與放置基片的清洗架高度相當(dāng)， 并且環(huán)繞清洗架設(shè)置，能夠有效阻隔基片與周邊空氣摩擦而產(chǎn)生靜電，進(jìn)而防 止基片沾附污物。不銹鋼相對于鐵等金屬，不會因沾附清洗液、水等物質(zhì)而產(chǎn) 生銹蝕，不會因此影響基片質(zhì)量。
2. 本實用新型的保護(hù)罩采用有蓋或無蓋上下貫通的形式，可保證基片上的 清洗液及雜質(zhì)全部脫離不殘留，尤其是上下貫通的形式，甩干的效果更為徹底。
3. 本實用新型的保護(hù)罩制作簡單、成本低廉，效果好。
4. 本實用新型的甩千i殳備既可以配備分離的保護(hù)罩，也可以將基片托盤的 邊緣高度增加到與放置基片的清洗架的高度一致，達(dá)到阻隔基片與周邊空氣摩 擦而產(chǎn)生靜電的效果。甩干設(shè)備生產(chǎn)廠家或使用者可以根據(jù)需要選擇使用上述 方案。


圖1為現(xiàn)有甩干i殳備的示意圖 圖2為本實用新型基片離心干燥保護(hù)罩結(jié)構(gòu)示意圖 圖3為本實用新型基片離心干燥保護(hù)罩設(shè)置于甩干設(shè)備的示意圖 圖4為本實用新型基片離心干燥保護(hù)罩與基片托盤、清洗架之間的位置關(guān) 系示意圖 其中
1- 中心軸 4-基片托盤 51-側(cè)壁
2- 底座 5-基片離心干燥保護(hù)罩 6-清洗架
3- 懸掛架
具體實施方式
本實用新型提供一種基片離心干燥保護(hù)裝置，該基片保護(hù)裝置為設(shè)有閉合 側(cè)壁的金屬保護(hù)罩，側(cè)壁的高度與放置待甩干基片的清洗架高度適配。同時還 提供一種含有基片離心干燥保護(hù)裝置的甩干設(shè)備。
以下結(jié)合附圖進(jìn)行具體說明。 實施例一
如圖2所示，本實用新型提供一下端敞開，周邊有金屬側(cè)壁51的基片離心 干燥保護(hù)罩5。金屬側(cè)壁51的高度與清洗架6的高度相當(dāng)。
如圖3所示，甩干機(jī)上設(shè)有中心軸1和底座2,以及可跟隨中心軸1旋轉(zhuǎn)的 懸掛架3,底部為網(wǎng)狀的基片托盤4兩端固定在懸掛架上3并可繞兩固定端翻轉(zhuǎn)。 基片托盤4上放置清洗架6,基片中片垂直放置在清洗架6中。防靜電離心干燥 保護(hù)罩5放置在基片托盤4上，并環(huán)繞在清洗架6的四周(如圖4所示)。當(dāng)甩 干機(jī)工作時，基片托盤4、清洗架6和防靜電離心干燥保護(hù)罩5隨同中心軸1高 速旋轉(zhuǎn)，基片托盤4、清洗架6和防靜電離心干燥保護(hù)罩5在離心力的作用下會 被甩高，繞固頂端翻轉(zhuǎn)成一定的角度傾斜，殘留清洗液在離心力的作用下被甩
出，同時基片托盤4的底部為網(wǎng)格狀可以方便甩出殘留液體。
基片托盤4的底部也可以不為網(wǎng)格狀，如底部是中空的，只要在底部增設(shè) 幾個卡緊裝置，保^〖正清洗架6能夠在其上》文穩(wěn)，甩干時不滑落即可。
由于防靜電離心干燥保護(hù)罩5的側(cè)壁51環(huán)繞在清洗架6的四周，清洗架6 邊緣的基片與周邊空氣的摩4察被防靜電離心干燥保護(hù)罩5阻隔，變成了周邊空 氣與防靜電離心干燥保護(hù)罩5的高速摩擦。因此，保護(hù)罩5應(yīng)為金屬制作，這 樣既可以阻擋高速旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的風(fēng)，避免直接吹到基片上，基片上就不會因產(chǎn)生 靜電而吸附灰塵，減少基片污染，提高合格率。采用金屬還有一個好處是，金 屬質(zhì)地較重，高速旋轉(zhuǎn)時不容易被甩掉，結(jié)實耐用；若用塑料制成，雖然可以 擋住風(fēng)，但是質(zhì)量太輕較容易甩掉，并且容易損壞。最好為不銹鋼，可以防止 在殘留清洗液的作用下生銹而污染基片。
防靜電離心干燥保護(hù)罩5的形狀根據(jù)基片托盤4或清洗架6的形狀而定， 可為圖示方形，或為圓環(huán)形狀，與基片托盤4或清洗架6的形狀相適配，達(dá)到 上述目的即可。
防靜電離心干燥保護(hù)罩5上方可以封閉，也可以上下貫通。相對于頂端封 閉，上下貫通的方式可更加保證基片上清洗液及雜質(zhì)全部脫離不殘留。
采用此種方法，可以很方便地對采購來的甩干設(shè)備進(jìn)行改進(jìn)，因此非常適 合基片生產(chǎn)商使用。而設(shè)備生產(chǎn)商也可以為甩干設(shè)備配置相應(yīng)的防靜電離心千 燥保護(hù)罩5，供基片生產(chǎn)商選擇。
實施例二
本實用新型也可以將防靜電離心干燥保護(hù)罩5與基片托盤4合為一體。由 于防靜電離心干燥保護(hù)罩5的主要目的是阻隔清洗架6邊緣基片與周邊空氣的 摩擦，因此將基片托盤4四周邊緣的高度調(diào)整為與清洗架6的高度相當(dāng)即可， 此時基片托盤4即有托盤的作用又有保護(hù)罩的作用。
采用此種方法，需要對甩干設(shè)備本身配備的部件-基片托盤4進(jìn)行改進(jìn)，因 此比較適合設(shè)備生產(chǎn)廠家使用。
以上所述實施例僅表達(dá)了本實用新型的幾種實施方式，其描述較為具體和 詳細(xì)，但并不能因此而理解為對本實用新型專利范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是， 對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實用新型構(gòu)思的前提下，還可以 做出若干變形和改進(jìn)，這些都屬于本實用新型的保護(hù)范圍。因此，本實用新型 專利的保護(hù)范圍應(yīng)以所附權(quán)利要求為準(zhǔn)。
權(quán)利要求1.一種防靜電離心干燥保護(hù)裝置，其特征在于所述防靜電保護(hù)裝置為設(shè)有閉合側(cè)壁的保護(hù)罩，所述保護(hù)罩側(cè)壁的高度與放置待甩干基片的清洗架高度適配。
2. 如權(quán)利要求1所述的防靜電離心干燥保護(hù)裝置，其特征在于所述保護(hù) 罩為金屬保護(hù)罩，該金屬保護(hù)罩采用不銹鋼材料制成。
3. 如權(quán)利要求1或2所述的防靜電離心干燥保護(hù)裝置，其特征在于所述 保護(hù)罩為上下貫通的環(huán)形。
4. 如權(quán)利要求1或2所述的防靜電離心干燥保護(hù)裝置，其特征在于所述 保護(hù)罩為上下貫通的方形。
5. —種含有防靜電離心干燥保護(hù)裝置的甩干設(shè)備，包含馬達(dá)、由馬達(dá)驅(qū)動 的中心軸、隨同中心軸旋轉(zhuǎn)的基片托盤，放置待甩干基片的清洗架置于所述基片 托盤上，其特征在于還包含一置于基片托盤上的防靜電離心干燥保護(hù)罩，所述 清洗架位于所述防靜電離心干燥保護(hù)罩內(nèi)部空間中，且兩者的高度相適配。
6. 如權(quán)利要求5所述的含有防靜電離心干燥保護(hù)裝置的甩干設(shè)備，其特征 在于所述防靜電離心干燥保護(hù)罩為金屬保護(hù)罩。
7. 如權(quán)利要求5或6所述的含有防靜電離心干燥保護(hù)裝置的甩干設(shè)備，其 特征在于所述防靜電離心干燥保護(hù)罩為上下貫通的環(huán)形。
8. 如權(quán)利要求5或6所述的含有防靜電離心干燥保護(hù)裝置的甩干設(shè)備，其 特征在于所述防靜電離心干燥保護(hù)罩為上下貫通的方形。
9. 如權(quán)利要求5或6所述的含有防靜電離心干燥保護(hù)裝置的甩干設(shè)備，其 特征在于所述防靜電離心干燥保護(hù)罩上端封閉。
10. 如權(quán)利要求5或6所述的含有防靜電離心干燥保護(hù)裝置的甩干設(shè)備， 其特征在于防靜電離心干燥保護(hù)裝置為側(cè)壁高度與所述清洗架高度相適配的基 片托盤。
專利摘要本實用新型公開了一種防靜電離心干燥保護(hù)裝置以及含有這種裝置的甩干設(shè)備。這種保護(hù)裝置為設(shè)有閉合側(cè)壁的金屬保護(hù)罩，側(cè)壁的高度與放置待甩干基片的清洗架高度適配。保護(hù)罩可以是上下貫通的環(huán)形、方形，也可以上端封口。這種甩干設(shè)備，包含馬達(dá)、由馬達(dá)驅(qū)動的中心軸以及隨同中心軸旋轉(zhuǎn)的基片托盤，還包含一防靜電離心干燥保護(hù)罩，該保護(hù)罩環(huán)繞著放置待甩干基片的清洗架設(shè)置，且其高度與所述清洗架高度相適配。采用這種防靜電離心干燥保護(hù)罩，能夠防止清洗架邊緣的基片在甩干過程中與周邊空氣摩擦產(chǎn)生靜電而吸附灰塵，能夠提高基片的合格率，而且制造簡單，成本低廉。
文檔編號F26B11/00GK201196523SQ20082009226
公開日2009年2月18日 申請日期2008年2月5日 優(yōu)先權(quán)日2008年2月5日
發(fā)明者蔡華雄, 趙剛科 申請人:深圳歐菲光科技股份有限公司