專利名稱：非接觸式運(yùn)送裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及非接觸式運(yùn)送裝置，特別是涉及在大型的FPD面板的生產(chǎn)和太陽(yáng)能電 池面板等的生產(chǎn)中使用的軌道狀的非接觸式運(yùn)送裝置。
背景技術(shù)：
以往，在生產(chǎn)FRD面板時(shí)和生產(chǎn)太陽(yáng)能電池面板時(shí)，采用通過(guò)使一塊面板大 型化來(lái)提高生產(chǎn)效率的方法。例如，在液晶玻璃的情況下，第10代液晶玻璃的大小為 2850X3050X0. 7mm。因此，如以往那樣，將液晶面板載置在多個(gè)并列排列了的輥?zhàn)由闲D(zhuǎn) 運(yùn)送，由于軸的撓曲和/或輥?zhàn)痈叨鹊钠顚?dǎo)致在玻璃上局部作用強(qiáng)力，有可能對(duì)玻璃產(chǎn) 生傷害。另外，在加工工序中，要求運(yùn)送方式為非接觸方式，因此，開始采用氣浮運(yùn)送(氣墊 運(yùn)送)。作為氣浮運(yùn)送裝置的一例子，在使液晶用的玻璃上浮時(shí)，與玻璃的大小相匹配地 連接多個(gè)板狀的軌道來(lái)構(gòu)成運(yùn)送裝置，該板狀的軌道中設(shè)置有多個(gè)小直徑的孔，從這些小 直徑的孔噴出空氣。另外，還存在如下方法使用多孔質(zhì)碳作為軌道材料，從其氣孔噴出空氣。

發(fā)明內(nèi)容
不論是上述的哪一種方法，每1000X IOOOmm的面積的空氣流量，在多孔類型的氣 浮運(yùn)送裝置中為250L/min，在多孔質(zhì)碳類型的氣浮運(yùn)送裝置中為150L/min，都要求極多的 空氣流量。另外，以往的非接觸式運(yùn)送裝置，為了確保上浮高度的精度，利用了真空吸附力 和噴氣力的平衡原理。因此，要求使真空吸附用的泵總是運(yùn)轉(zhuǎn)，這需要大量的能量。因此，本發(fā)明是鑒于上述以往的非接觸式運(yùn)送裝置的問題點(diǎn)而做成的，其目的是 提供一種如下非接觸式運(yùn)送裝置空氣流量和能量消耗量小，可以維持高的上浮高度精度。為了達(dá)成上述目的，本發(fā)明為非接觸式運(yùn)送裝置，其特征在于，在基體的運(yùn)送面具 備兩個(gè)以上的如下渦流形成體在具有從表面貫通到里面的橫截面為圓形的貫通孔的環(huán)狀 部件的里面具備流體噴出口，通過(guò)從該流體噴出口噴出流體，在該環(huán)狀部件的表面?zhèn)犬a(chǎn)生 朝向從該表面離開的方向的渦流，并且，在該環(huán)狀部件的表面?zhèn)鹊纳鲜鲐炌椎拈_口部附 近產(chǎn)生向上述里面方向的流體流。而且，根據(jù)本發(fā)明，從流體噴出口噴出流體，使得在環(huán)狀部件的表面?zhèn)劝l(fā)生朝向從 該表面離開的方向的流體流和渦流，使被運(yùn)送物上浮，因此，可實(shí)現(xiàn)用以往的1/2左右的 lOOL/min左右的小流體流量進(jìn)行運(yùn)送。另外，通過(guò)從流體噴出口噴出流體，在環(huán)狀部件表面 側(cè)的貫通孔的開口部附近產(chǎn)生朝向里面方向的流體流，由此，起到與用于確保上浮高度精 度的真空吸附同等的效果，因此，可以不需要真空吸附用的泵，從而還可將能量消耗量抑制 得較低。在上述非接觸式運(yùn)送裝置中，可以將上述渦流形成體構(gòu)成為在上述里面具備與上 述流體噴出口連通的俯視為圓形的槽部；可以將上述基體構(gòu)成為在上述運(yùn)送面具備與上述槽部連通的流體供給口，通過(guò)該流體供給口將流體供給到上述槽部。由此，只要在基體的 運(yùn)送面貫穿設(shè)置流體供給口即可，因此，可以將基體做成簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)。在上述非接觸式運(yùn)送裝置中，可以將上述基體構(gòu)成為在上述運(yùn)送面具備俯視為 圓形的槽部，將上述渦流形成體構(gòu)成為具備與上述槽部和上述流體噴出口連通的流體通 路，通過(guò)上述槽部將流體供給到上述流體供給口。由此，只要在渦流形成體的里面形成流體 噴出口和流體通路即可，因此，可以將渦流形成體做成簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)。在上述非接觸式運(yùn)送裝置中，可以將上述渦流形成體收納于形成在上述基體的運(yùn) 送面的凹部?jī)?nèi)。根據(jù)該構(gòu)成，從渦流形成體流出并展開的面與多個(gè)渦流形成體成為同一平 面，使被運(yùn)送物上浮的基準(zhǔn)面成為基體的運(yùn)送面，因此，可以高精度地控制被運(yùn)送物的上浮 尚度。在上述非接觸式運(yùn)送裝置中，可以在形成在上述基體的運(yùn)送面的凹部?jī)?nèi)收納上 述渦流形成體，該渦流形成體的外周面通過(guò)突出設(shè)置于上述凹部的周圍的隆起部壓緊接合 于上述凹部。由此，不使用粘接劑，也可維持渦流形成體和基體之間的氣密狀態(tài)，并且可以 容易地將渦流形成體安裝在基體。在上述非接觸式運(yùn)送裝置中，可以具備如下流體壓隔離槽形成在上述基體的運(yùn) 送面，分隔開相鄰的凹部之間，在該基體的側(cè)面開口。通過(guò)經(jīng)由該流體壓隔離槽釋放流體， 可以防止從渦流形成體噴出的流體在被運(yùn)送物的中央部積存而使中央部凸起，即使是大型 的被運(yùn)送物，也可以在整體上高精度地控制上浮精度。在上述非接觸式運(yùn)送裝置中，可以構(gòu)成為在上述基體上成2排地各排配置有多 個(gè)上述渦流形成體，屬于一排的渦流形成體的各個(gè)渦流的方向和屬于另一排的渦流形成體 的各個(gè)渦流的方向相互不同。根據(jù)該構(gòu)成，可以增強(qiáng)來(lái)自相鄰的排的相鄰的渦流形成體的 渦流，由從渦流形成體噴出的流體一邊使被運(yùn)送物上浮一邊進(jìn)行運(yùn)送。在上述非接觸式運(yùn)送裝置中，可以在上述基體，在上述渦流形成體的周邊設(shè)置有 流體吹出用多孔質(zhì)顆粒(pellet)，通過(guò)從多孔質(zhì)顆粒吹出流體，可以更加高精度地控制被 運(yùn)送物的上浮量，可以容易地應(yīng)對(duì)加工工序。在上述非接觸式運(yùn)送裝置中，可以將上述基體的運(yùn)送面設(shè)為相對(duì)于水平面傾斜的 面或者相對(duì)于水平面平行且與地面相對(duì)向的面，可以降低非接觸式運(yùn)送裝置的設(shè)置面積， 可以容易地應(yīng)對(duì)各種制造工序。如以上，根據(jù)本發(fā)明，可以提供如下非接觸式運(yùn)送裝置流體流量和能源消耗量 小，可以維持高的上浮高度精度。


圖1是表示本發(fā)明所涉及的非接觸式運(yùn)送裝置中使用的渦流形成體的第1實(shí)施方 式的圖，(a)為俯視圖，(b)為(a)的A-A線剖視圖，(c)為仰視圖，(d)為(c)的B-B線剖 視圖，(e)為表示將渦流形成體的里面形成為與(c)中所示的渦流形成體的里面樣子不同 的情況下的仰視圖。圖2是表示用粘接劑將圖1的渦流形成體固定在基體的狀態(tài)的圖，(a)為主視剖 視圖，(b)為(a)的C-C線剖視圖。圖3是表示本發(fā)明所涉及的非接觸式運(yùn)送裝置中使用的渦流形成體的第2實(shí)施方式的圖，(a)為俯視圖，(b)為(a)的A-A線剖視圖，(c)為仰視圖，(d)為(c)的B-B線剖 視圖，(e)為表示將渦流形成體的里面形成為與(c)中所示的渦流形成體的里面樣子不同 的情況下的仰視圖。圖4是表示將圖3的渦流形成體壓緊(斂縫，L· ^ )接合于基體的凹部了的狀 態(tài)的圖，(a)為主視剖視圖，(b)為(a)的D-D線剖視圖。圖5是用于說(shuō)明將圖3的渦流形成體壓緊接合于基體的凹部的要領(lǐng)的剖視圖。圖6是表示本發(fā)明所涉及的非接觸式運(yùn)送裝置的第1實(shí)施方式的俯視圖。圖7是表示構(gòu)成圖6的非接觸式運(yùn)送裝置的運(yùn)送軌道的圖，表示上下左右交互配 置了渦流形成體的渦流相互不同的渦流形成體的情況。圖8是表示將圖4中所示的渦流形成體配置在許多基體上來(lái)構(gòu)成非接觸式運(yùn)送裝 置的情況的圖，(a)表示沒有設(shè)置氣壓隔離槽的情況，(b)表示設(shè)置有氣壓隔離槽的情況。圖9表示本發(fā)明所涉及的非接觸式運(yùn)送裝置的第2實(shí)施方式的俯視圖，(a)表示 加工工序用非接觸式運(yùn)送裝置的一部分，(b)表示包含有運(yùn)送工序的非接觸式運(yùn)送裝置的 整體。附圖標(biāo)記說(shuō)明1 渦流形成體；Ia 貫通孔；Ib 凹部；Ic 空氣通路；Id 噴出口 ；Ie 表面?zhèn)绕桨?部；2 基體；2a 空氣通路；2b 貫通孔；2c 環(huán)狀槽；3 玻璃；21(21A、21B)渦流形成體； 21a 貫通孔；21b 環(huán)狀槽；21c 空氣通路；21d 噴出口 ；21e 倒角部；21f 倒角部；21g 平 板狀部；22 基體；22a 空氣通路；22b 貫通孔；22c 凹部；22d 環(huán)狀凹部；22e 隆起部； 22f 空氣供給口 ；24 夾具；24a 前端部；30 非接觸式運(yùn)送裝置；31 渦流形成體；31a 貫 通孔；31e 平板部；32 渦流形成體；32a 貫通孔；32e 平板部；33 基體；40 非接觸式運(yùn) 送裝置；50 非接觸式運(yùn)送裝置；51 中央部；53 氣壓隔離槽；63 基體；64 顆粒；70 非接 觸式運(yùn)送裝置；71 運(yùn)送工序；72 加工工序；72a 非接觸式運(yùn)送裝置；73 運(yùn)送工序。
具體實(shí)施例方式接著，參照附圖，對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。另外，在以下的說(shuō)明中，以使用空 氣作為運(yùn)送用流體且將運(yùn)送液晶用的玻璃3作為被運(yùn)送物的情況為例進(jìn)行說(shuō)明。圖1表示本發(fā)明所涉及的非接觸式運(yùn)送裝置中使用的渦流形成體的第1實(shí)施方 式，(a)為俯視圖，(b)為(a)的A-A線剖視圖，(c)為仰視圖，(d)為(c)的B-B線剖視圖。 另外，關(guān)于圖1(e)的說(shuō)明將在后面進(jìn)行。該渦流形成體1具備從表面貫通到里面的貫通孔 la，且如圖1(c)和圖1(d)所示，在里面具備一對(duì)作為空氣通路的凹部Ib和一對(duì)用于將來(lái) 自凹部Ib的空氣通過(guò)空氣通路Ic沿相對(duì)于內(nèi)周面成切線方向噴出到貫通孔Ia的內(nèi)周面 附近的噴出口 Id。圖2表示用粘接劑將上述渦流形成體1的底面固定于形成為板狀的基體2的狀 態(tài)，如后述那樣，通過(guò)將多個(gè)渦流形成體1設(shè)置在基體2，構(gòu)成本發(fā)明所涉及的非接觸式運(yùn)
送裝置?；w2具備貫通孔2b和俯視成圓形的環(huán)狀槽2c，該貫通孔2b將從泵(未圖示) 通過(guò)空氣通路2a供給空氣，該俯視成圓形的環(huán)狀槽2c用于將來(lái)自貫通孔2b的空氣供給到 設(shè)置在渦流形成體1的里面的凹部Ib (參照?qǐng)D1)。
接著，對(duì)圖2中所示的渦流形成體1和基體2的動(dòng)作進(jìn)行說(shuō)明。從泵供給到基體2的空氣通路2a的空氣，通過(guò)貫通孔2b被供給到環(huán)狀槽2c，從環(huán) 狀槽2c被供給到渦流形成體1的凹部lb，通過(guò)空氣通路Ic從噴出口 Id噴出到貫通孔la。 由此，在渦流形成體1的表面?zhèn)绕桨宀縄e的上方發(fā)生上升渦流，由該渦流使作為被運(yùn)送物 的液晶用的玻璃3上浮。另外，通過(guò)從噴出口 Id噴出空氣，在渦流形成體1的表面?zhèn)鹊呢?通孔Ia的開口部附近產(chǎn)生朝向里面方向的空氣流動(dòng)，起到與用于保持上浮高度精度的真 空吸附同等的效果。圖3表示本發(fā)明所涉及的非接觸式運(yùn)送裝置中使用的渦流形成體的第2實(shí)施方 式，(a)為俯視圖，(b)為(a)的D-D線剖視圖，(c)為仰視圖，(d)為(c)的E-E線剖視圖。 另外，關(guān)于圖3(e)的說(shuō)明將在后面進(jìn)行。該渦流形成體21由從表面貫通到里面的貫通孔 21a、環(huán)形槽21b和噴出口 21d構(gòu)成，該環(huán)形槽21b和噴出口 21d如圖3(c)和圖3(d)所示， 設(shè)置在里面，其中環(huán)狀槽21b收納空氣，噴出口 21d用于將積存在環(huán)狀槽21b的空氣通過(guò)空 氣通路21c沿相對(duì)于內(nèi)周面成切線方向噴出到貫通孔21a的內(nèi)周面的附近，對(duì)表面?zhèn)冗M(jìn)行 了倒角(倒角部21e、21f)。圖4表示將上述渦流形成體21載置于形成為板狀的基體22的凹部22c內(nèi)的狀態(tài)， 如后述那樣，通過(guò)將多個(gè)渦流形成體21設(shè)置在基體22，構(gòu)成本發(fā)明所涉及的非接觸式運(yùn)送
直ο基體22具備貫通孔22b、凹部22c和環(huán)狀凹部22d和隆起部22e ；該貫通孔22從 泵(未圖示)通過(guò)空氣通路22a供給空氣，具備將空氣供給到渦流形成體21的環(huán)狀槽21 的空氣供給口 22f ；該凹部22c用于安裝渦流形成體21，該環(huán)狀凹部22d和隆起部22e用于 對(duì)已安裝于凹部22c的渦流形成體21進(jìn)行壓緊接合。接著，參照?qǐng)D5，對(duì)向基體22安裝渦流形成體21的安裝方法進(jìn)行說(shuō)明。如該圖所 示，可以通過(guò)在將渦流形成體21載置在基體22的凹部22c內(nèi)之后，將夾具24的前端部 24a插入于基體22的環(huán)狀凹部22d，如雙點(diǎn)劃線所示那樣，隆起部22e被推壓到渦流形成體 21的倒角部21e，可將渦流形成體21壓緊接合在基體22。接著，對(duì)圖4中所示的渦流形成體21和基體22的動(dòng)作進(jìn)行說(shuō)明。從泵供給到基體22的空氣通路22a的空氣，通過(guò)貫通孔22b被供給到渦流形成體 21的環(huán)狀槽21b，通過(guò)空氣通路21c從噴出口 21d噴出。由此，在渦流形成體21的表面?zhèn)?的平板部21g的上方發(fā)生上升渦流，由該渦流使作為被運(yùn)送物的玻璃3上浮。另外，通過(guò)從 噴出口 21d噴出空氣，在渦流形成體21的表面?zhèn)鹊呢炌?1a的開口部附近產(chǎn)生朝向里面 方向的空氣流動(dòng)，起到與用于保持上浮高度精度的真空吸附同等的效果。在本實(shí)施方式中，渦流形成體21壓緊接合在基體22，因此，不需要考慮由粘接劑 的涂布所導(dǎo)致的渦流形成體21的傾斜，與用粘接劑進(jìn)行固定的情況相比，可以提高玻璃3 的上浮高度精度。接著，參照?qǐng)D6，對(duì)本發(fā)明所涉及的非接觸式運(yùn)送裝置的第1實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。該非接觸式運(yùn)送裝置40用于玻璃3等的運(yùn)送工序，是并列配置3臺(tái)非接觸式運(yùn)送 裝置30而構(gòu)成的，該非接觸式運(yùn)送裝置30構(gòu)成為在基體33上成2排且在圖6的紙面上上 下左右交互地壓緊接合有多個(gè)渦流形成體31和生成與該渦流形成體31所生成的渦流方向 相反的渦流的渦流形成體32。另外，為了在圖中容易識(shí)別，將渦流形成體32的表面?zhèn)鹊钠桨宀?2e涂黑表示。就渦流形成體31而言，可使用渦流形成體1(參照?qǐng)D1)和渦流形成體21(參照?qǐng)D 3)中的任何一種。在使用渦流形成體1的情況下，將基體33作為基體2(參照?qǐng)D2)，在使 用渦流形成體21的情況下，使用基體22 (參照?qǐng)D4)作為基體33。在使用渦流形成體1作為渦流形成體31的情況下，渦流形成體32，其里面?zhèn)热鐖D 1(e)所示，形成為與圖1(c)所示的渦流形成體1樣子不同。由此，渦流形成體32可以產(chǎn) 生與渦流形成體31所形成的渦流方向相反的渦流。另一方面，在使用渦流形成體21作為 渦流形成體31的情況下，渦流形成體32，其里側(cè)如圖3(e)所示，形成為與圖3(c)所示的 渦流形成體21樣子不同。另外，對(duì)于渦流形成體32的其他的構(gòu)成要素，由于與渦流形成體 1、21相同，因此省略詳細(xì)說(shuō)明。接著，參照?qǐng)D6，對(duì)本發(fā)明所涉及的非接觸式運(yùn)送裝置40的動(dòng)作進(jìn)行說(shuō)明。來(lái)自泵的空氣通過(guò)基體33的貫通孔等從渦流形成體31、32的空氣噴出口噴出。由 此，在渦流形成體31、32的表面?zhèn)鹊钠桨宀?1e、32e的上方發(fā)生上升渦流，由該渦流使玻璃 3上浮。在此，如圖7 (a)所示，渦流形成體31、32的渦流彼此反向，在圖7的紙面上上下左 右交互配置渦流形成體31、32，因此，各個(gè)渦流形成體31、32所形成的渦流的水平分力(朝 箭頭所示方向的力)相互抵消。由此，由渦流施加在玻璃3上的力變?yōu)閮H上浮力和吸引力 的兩種鉛垂分量的力，可以可靠地防止玻璃3的旋轉(zhuǎn)。這樣上浮了的玻璃3，由未圖示的直 線電動(dòng)機(jī)、摩擦輥?zhàn)?、帶等施加運(yùn)送驅(qū)動(dòng)力，向圖6所示的箭頭方向運(yùn)送。另外，將許多圖4所示的渦流形成體21配置在基體22上，構(gòu)成如圖8(a)所示的 非接觸式運(yùn)送裝置50 (渦流形成體21A、21B做成為各個(gè)的基本構(gòu)成與圖4所示的渦流形 成體21相同，且發(fā)生旋轉(zhuǎn)方向相互不同的渦流)，在向基體22供給空氣時(shí)，由于渦流形成體 21(21A、21B)被收納于基體22的凹部22c內(nèi)，因此在基體33和玻璃3之間容易殘留空氣， 特別是在基體33的中央部51容易殘留空氣。由此，不僅渦流形成體21的渦流，殘留在基 體22的中央部51的空氣也會(huì)使玻璃3上浮，使得玻璃3的上浮高度精度變得不穩(wěn)定。因此，優(yōu)選是如圖8 (b)所示的非接觸式運(yùn)送裝置53那樣，在基體22的運(yùn)送面形 成有格柵狀的氣壓隔離槽54，該格柵狀的氣壓隔離槽54分隔開相鄰的渦流形成體21之間， 在基體22的側(cè)面開口。由此，殘留在基體22和玻璃3之間的空氣向外部地釋放變得容易， 因此，能夠可靠地維持玻璃3的上浮高度精度。圖9示出了本發(fā)明所涉及的非接觸式運(yùn)送裝置的第2實(shí)施方式，該非接觸式運(yùn)送 裝置70是具備夾在2個(gè)運(yùn)送工序之間的加工工序72的非接觸式運(yùn)送裝置，如圖9 (b)所示， 是并列配置3排非接觸式運(yùn)送裝置72a而構(gòu)成的，該非接觸式運(yùn)送裝置72a 如圖9 (a)所 示，在基體63上成3排且上下左右交互地配置有多個(gè)渦流形成體31和產(chǎn)生與渦流形成體 31所產(chǎn)生的渦流方向相反的渦流的渦流形成體32，而且，在這些渦流形成體31、32的周邊 成2排地配置有多個(gè)吹出微量的空氣的空氣吹出用多孔質(zhì)顆粒(以下稱為“顆粒”)64。另 外，所謂加工工序72是檢測(cè)用于制造半導(dǎo)體裝置的曝光圖案的工序或抗蝕劑的涂布工序 等要求高精度的上浮高度的工序。顆粒64為多孔質(zhì)的不銹鋼燒結(jié)體等，被埋入基體63的運(yùn)送面，被供給到貫穿地設(shè) 置在基體63的內(nèi)部的空氣通路的空氣從顆粒64的表面的微小的孔吹出，可以精密地控制玻璃3的高度。接著，參照附圖，對(duì)本發(fā)明所涉及的非接觸式運(yùn)送裝置70的工作進(jìn)行說(shuō)明。在運(yùn)送工序71中上浮了的狀態(tài)下，由空氣噴出裝置運(yùn)送的玻璃3進(jìn)入加工工序 72，由從多個(gè)顆粒64向上方吹出的空氣高精度地控制其上浮高度，進(jìn)行各種檢測(cè)和/或加 工等。其后，玻璃3在由非接觸式運(yùn)送裝置73使其上浮了的狀態(tài)下，由未圖示的空氣噴射 裝置等將其運(yùn)送到下一道工序。另外，對(duì)從各個(gè)顆粒64吹出的空氣流量等進(jìn)行調(diào)整，還可 以適當(dāng)變更玻璃3的上浮高度。另外，在上述的各實(shí)施方式中，對(duì)使用了圖1或圖3所示的渦流形成體1或渦流形 成體21的情況進(jìn)行了說(shuō)明，但對(duì)于圖4乃至圖9所示的構(gòu)成，不一定非要使用渦流形成體 1或21，也可使用一般使用的渦流形成體構(gòu)成非接觸式運(yùn)送裝置。另外，在上述各實(shí)施方式中，對(duì)使用空氣作為流體的情況進(jìn)行了說(shuō)明，但也可使用 空氣以外的氮?dú)獾裙に嚉怏w。
權(quán)利要求
一種非接觸式運(yùn)送裝置，其特征在于，在基體的運(yùn)送面具備兩個(gè)以上的渦流形成體，所述渦流形成體構(gòu)成為，在具有從表面貫通到里面的橫截面為圓形的貫通孔的環(huán)狀部件的里面具備流體噴出口，通過(guò)從該流體噴出口噴出流體，在該環(huán)狀部件的表面?zhèn)犬a(chǎn)生朝向從該表面離開的方向的渦流，并且，在該環(huán)狀部件的表面?zhèn)鹊乃鲐炌椎拈_口部附近產(chǎn)生朝向所述里面方向的流體流。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的非接觸式運(yùn)送裝置，其特征在于，所述渦流形成體在所述里面具備與所述流體噴出口連通的俯視為圓形的槽部；所述基 體在所述運(yùn)送面具備與所述槽部連通的流體供給口，通過(guò)該流體供給口將流體供給到所述 槽部。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的非接觸式運(yùn)送裝置，其特征在于，所述基體在所述運(yùn)送面具備俯視為圓形的槽部，所述渦流形成體具備與所述槽部和所 述流體噴出口連通的流體通路，通過(guò)所述槽部將流體供給到所述流體供給口。
4.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的非接觸式運(yùn)送裝置，其特征在于， 所述渦流形成體收納在形成于所述基體的運(yùn)送面的凹部。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的非接觸式運(yùn)送裝置，其特征在于，所述渦流形成體收納在形成于所述基體的運(yùn)送面的凹部，該渦流形成體的外周面通過(guò) 突出設(shè)置于所述凹部的周圍的隆起部而壓緊接合。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的非接觸式運(yùn)送裝置，其特征在于，具備流體壓隔離槽，所述流體壓隔離槽形成在所述基體的運(yùn)送面而將相鄰的凹部之間 分隔開，且在該基體的側(cè)面開口。
7.根據(jù)權(quán)利要求1 6中任一項(xiàng)所述的非接觸式運(yùn)送裝置，其特征在于，所述渦流形成體在所述基體上成2排地各排配置多個(gè)，屬于一排的渦流形成體的各個(gè) 的渦流的方向與屬于另一排的渦流形成體的各個(gè)的渦流的方向相互不同。
8.根據(jù)權(quán)利要求1 7中任一項(xiàng)所述的非接觸式運(yùn)送裝置，其特征在于， 所述基體在所述渦流形成體的周邊具備用于吹出流體的多孔質(zhì)顆粒。
9.根據(jù)權(quán)利要求1 8中任一項(xiàng)所述的非接觸式運(yùn)送裝置，其特征在于，所述基體的運(yùn)送面為相對(duì)于水平面傾斜的面、或者相對(duì)于水平面平行且與地面相對(duì)向 的面。
全文摘要
本發(fā)明提供一種如下非接觸式運(yùn)送裝置空氣流量和能量消耗量小，可以維持高的上浮高度精度。本發(fā)明為如下非接觸式運(yùn)送裝置(40)在基體(2)的運(yùn)送面具備2個(gè)以上的如下渦流形成體在具有從表面貫通到里面的橫截面為圓形的貫通孔(1)的環(huán)狀部件的里面具備流體噴出口(1d)，通過(guò)從流體噴出口噴出流體，在環(huán)狀部件的表面?zhèn)犬a(chǎn)生朝向從表面離開的方向的渦流，并且，在環(huán)狀部件的表面?zhèn)鹊呢炌椎拈_口部附近產(chǎn)生朝向里面方向的流體流動(dòng)。由于從流體噴出口噴出流體來(lái)使被運(yùn)送物上浮，因此，可以實(shí)現(xiàn)用小的流體流量進(jìn)行運(yùn)送。通過(guò)在環(huán)狀部件表面?zhèn)鹊呢炌椎拈_口部附近產(chǎn)生向里面方向的流體流動(dòng)，起到與用于確保上浮高度精度的真空吸附同等的效果。在基體的運(yùn)送面上的渦流形成體的周邊設(shè)置流體噴出用多孔質(zhì)顆粒，可以更加高精度地控制被運(yùn)送物的上浮量。
文檔編號(hào)B65G49/07GK101977831SQ20098010975
公開日2011年2月16日 申請(qǐng)日期2009年3月17日 優(yōu)先權(quán)日2008年3月24日
發(fā)明者佐藤光, 小澤秀夫, 巖坂斉, 德永英幸, 河西裕二, 角田耕一 申請(qǐng)人:翁令司工業(yè)股份有限公司;哈模技術(shù)有限公司