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量子點(diǎn)的制備方法及微流控反應(yīng)系統(tǒng)與流程

文檔序號(hào):40571560發(fā)布日期:2025-01-03 11:32閱讀:來(lái)源:國(guó)知局

技術(shù)特征:

1.一種量子點(diǎn)的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的量子點(diǎn)的制備方法,其特征在于,在將所述第二溶劑和所述前驅(qū)體溶液混合的步驟中,所述第二溶劑和所述前驅(qū)體溶液混合后得到包括所述量子點(diǎn)的量子點(diǎn)流體;

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的量子點(diǎn)的制備方法,其特征在于,在將所述第二溶劑和所述前驅(qū)體溶液混合的步驟之前,所述制備方法還包括:將所述前驅(qū)體溶液注入微流控芯片內(nèi);

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的量子點(diǎn)的制備方法,其特征在于,所述第一溶劑包括二甲基甲酰胺和/或二甲基亞砜;和/或

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的量子點(diǎn)的制備方法,其特征在于,所述第一溶劑、所述第二溶劑以及所述第三溶劑依次為二甲基甲酰胺、二乙醚以及二甲基亞砜;或

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的量子點(diǎn)的制備方法,其特征在于,將所述第二溶劑和所述前驅(qū)體溶液混合的步驟之前,所述制備方法還包括:對(duì)所述前驅(qū)體溶液進(jìn)行超聲處理。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的量子點(diǎn)的制備方法,其特征在于,所述前驅(qū)體包括第一前驅(qū)體和第二前驅(qū)體,所述第一溶劑包括第一子溶劑和第二子溶劑,所述第一子溶劑和所述第二子溶劑均與所述第二溶劑互溶,所述第一前驅(qū)體和所述第二前驅(qū)體不同,所述第一子溶劑和所述第二子溶劑相同或不同;所述前驅(qū)體溶液包括第一前驅(qū)體溶液和第二前驅(qū)體溶液,所述第一前驅(qū)體溶液包括所述第一前驅(qū)體和所述第一子溶劑,所述第二前驅(qū)體溶液包括所述第二前驅(qū)體和所述第二子溶劑;

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的量子點(diǎn)的制備方法,其特征在于,所述將所述超聲處理后的所述第一前驅(qū)體溶液和所述第二前驅(qū)體溶液混合的步驟之后,所述制備方法還包括:對(duì)混合得到的所述前驅(qū)體溶液進(jìn)行紫外照射處理。

9.根據(jù)權(quán)利要求2所述的量子點(diǎn)的制備方法,其特征在于,所述得到包括所述量子點(diǎn)的量子點(diǎn)流體之后,所述制備方法還包括:對(duì)所述量子點(diǎn)流體進(jìn)行抽真空處理;和/或

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的量子點(diǎn)的制備方法,其特征在于,所述將所述第二溶劑和所述前驅(qū)體溶液混合的步驟之前,所述制備方法還包括:對(duì)所述前驅(qū)體溶液進(jìn)行活化處理。

11.一種微流控反應(yīng)系統(tǒng),其特征在于,包括微流控芯片,所述微流控芯片包括:

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的微流控反應(yīng)系統(tǒng),其特征在于,所述微流控芯片還包括:

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的微流控反應(yīng)系統(tǒng),其特征在于,所述微流控芯片還包括混合通道,所述混合通道的第一端與所述第一注入通道的出料端連通,所述混合通道的第二端與所述第二注入通道的出料端、所述反應(yīng)通道的第一端連通;

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的微流控反應(yīng)系統(tǒng),其特征在于,在所述微流控芯片的長(zhǎng)度方向上,所述混合通道的長(zhǎng)度和所述微流控芯片的長(zhǎng)度的比值范圍為1:3-1:5;和/或

15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的微流控反應(yīng)系統(tǒng),其特征在于,所述混合通道的長(zhǎng)度為10cm-15cm;和/或,所述反應(yīng)通道的長(zhǎng)度為3cm-5cm;和/或,所述流出通道的長(zhǎng)度為15cm-20cm。

16.根據(jù)權(quán)利要求13所述的微流控反應(yīng)系統(tǒng),其特征在于,所述混合通道的內(nèi)徑為100μm-130μm;和/或,所述反應(yīng)通道的內(nèi)徑為170μm-220μm;和/或,所述流出通道的內(nèi)徑為260μm-300μm。

17.根據(jù)權(quán)利要求13所述的微流控反應(yīng)系統(tǒng),其特征在于,所述微流控芯片還包括超聲裝置,所述超聲裝置與所述第一注入通道對(duì)應(yīng)設(shè)置;和/或


技術(shù)總結(jié)
本申請(qǐng)公開(kāi)了一種量子點(diǎn)的制備方法及微流控反應(yīng)系統(tǒng)。所述量子點(diǎn)的制備方法包括以下步驟:提供前驅(qū)體溶液,所述前驅(qū)體溶液包括前驅(qū)體和第一溶劑;提供第二溶劑,并將所述第二溶劑和所述前驅(qū)體溶液混合得到量子點(diǎn);其中,所述第二溶劑和所述第一溶劑互溶,且與所述前驅(qū)體不溶。本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N新型的合成量子點(diǎn)的方法。

技術(shù)研發(fā)人員:陳虹濱
受保護(hù)的技術(shù)使用者:TCL科技集團(tuán)股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/1/2
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