專利名稱：貼片涂敷模具的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及用于將液體涂敷材料涂覆到移動片材或幅材的涂敷模具或涂覆器模具。
背景技術：
涂敷模具用于將液體材料(例如基于熱塑塑料或溶劑的材料)薄層涂覆到諸如片材或膜的支承基材。最常見的涂敷工藝是通過使連續(xù)的材料流施加到移動基材而在基材上提供連續(xù)的已涂敷材料層。然而，偶爾需要涂敷一條或一片材料，該材料貼片具有特定長度，在其間具有未涂敷區(qū)域。對于諸如粘合劑標簽、電池(例如鋰離子電池)的應用以及對于生物研究，通常需要這種“貼片涂敷”。對于這些情況，在基材繼續(xù)移動的同時暫時停止或中斷涂敷材料的涂覆，從而圍繞涂層的周界提供未涂敷基材的區(qū)域。在Maier的美國專利N0.4，756，271中描述了一種嘗試以提供一種能夠暫時停止涂敷材料的流動的設備。該專利描述了在內側包括可旋轉凸輪的涂敷模具，該可旋轉凸輪可在不同的流體腔室之間旋轉以在幅材移動期間選擇不同的材料或中斷涂敷。在McIntyre的美國專利N0.4, 725, 468中描述了另一種嘗試以提供一種可暫時停止涂敷材料的流動的設備。該專利描述了在連續(xù)的涂層上共擠不連續(xù)的或分段的涂層的方法。3通提升閥(諸如美國專利4，565，217中描述的)能夠由電子控制電路間歇關閉，以控制不連續(xù)材料的流動。然而，這些設計對于高速涂敷會是有問題的，因為開關流動停止對于貼片之間的短的未涂敷距離是不夠快或不夠精確的。總是有改進的余地。

發(fā)明內容
本發(fā)明涉及一種涂敷設備，且更具體涉及一種用于間歇地將液體材料涂覆到基材上的涂敷模具。該涂敷模具包括位于在模具內的材料流動通道中的截斷桿，所述截斷桿使用具有快速加速度且高度精確的磁致動器來觸發(fā)(即升高和降低)。關閉截斷桿停止涂敷材料流動通過模具和流出模具，因此中斷涂敷材料流動到被涂敷的基材上。在一個具體實施例中，本發(fā)明涉及一種具有模具本體的涂敷模具，該模具本體具有穿過該模具本體的流動通道，該流動通道與模具入口和模具出口流體連通。模具中的截斷桿能夠從在流動通道外的打開位置移動到在流動通道中的關閉位置，該截斷桿具有上游表面、下游表面和在上游表面和下游表面之間的端部。當截斷桿處于關閉位置時，下游表面物理接觸流動通道，且截斷桿端部不與限定流動通道的壁形成接觸。在一些實施例中，流動通道壁可限定肩部，使得當處于關閉位置時，截斷桿的下游表面物理接觸流動通道的肩部。截斷桿可從在流動通道外的打開位置線性移動到流動通道中的關閉位置。截斷桿可以關于流動通道正交地移動，這可以是豎直地。截斷桿端部可從上游表面到下游表面向下傾斜。在另一個具體實施例中，本發(fā)明涉及一種具有模具本體的涂覆模具，該模具本體具有穿過其中的流動通道，該流動通道與模具入口和模具出口流體連通，該流動通道由第一壁和相對的第二壁限定，所述第二壁限定肩部。涂敷模具包括截斷桿，該截斷桿能夠從在流動通道外的打開位置移動到在流動通道中的關閉位置，該截斷桿具有上游表面和下游表面。當截斷桿處于關閉位置時，截斷桿橫跨流動通道延伸，且下游表面物理接觸肩部，從而阻擋通過流動通道的流動。在又一個具體實施例中，本發(fā)明涉及一種具有模具本體的涂敷模具，該模具本體具有穿過其中的流動通道，該流動通道與模具入口和模具出口流體連通。模具包括截斷桿，該截斷桿能夠從第一位置移動到第二位置，使得當處于第一位置時，流動通道打開通過該流動通道的涂敷材料流，且當處于第二位置時，流動通道關閉通過該流動通道的涂敷材料流。由截斷桿形成的密封部與流動通道成直角。在一些實施例中，截斷桿可與流動通道成直角移動，例如在流動通道中線性地從第一位置移動到第二位置。截斷桿可關于流動通道正交地移動，這可以是豎直地。閱讀以下詳細描述，這些和各種其它特征和優(yōu)勢將是顯而易見的。


與附圖相結合地考慮本公開的各種實施例的以下詳細描述，可以更加完全地理解本公開，其中:圖1A是用于貼片涂敷的涂敷模具設備的示意性側視圖；圖1B是用于貼片涂敷的另一涂敷模具設備的示意性側視圖；圖2是本公開的涂敷模具的立體圖；圖3是本公開的涂敷模具的側視圖；并且圖4是截斷桿的側視圖；圖4A是圖3的涂敷模具的放大側視圖，示出圖4的截斷桿處于關閉位置；并且圖4B是截斷桿處于打開位置的放大側視圖。附圖不一定按比例。附圖中使用的相同附圖標記指示相同的部件。然而，應當理解，使用附圖標記在給定附圖中指示部件并不旨在限制另一附圖中標以相同附圖標記的部件。
具體實施例方式在以下描述中，參照了附圖，附圖形成該描述的一部分，其中以說明方式示出至少一個具體實施例。應當理解，也可在不脫離本公開的范圍或精神的情況下構思和作出其它實施例。因此，不應以限定的意義來理解以下詳細描述。在此提供的定義是為了促進理解本文頻繁使用的某些術語而非意味著限制本發(fā)明的范圍。除非另外指出，說明書和權利要求書中表達特征尺寸、量和物力特性的所有數字應理解為在所有情況通過術語“約”來修飾。因而，除非有相反表示，否則以下說明書和所附權利要求書中闡述的數字參數是能夠根據由本領域技術人員利用在此公開的教導所希望實現的所需特性而變化的近似值。如說明書以及所附權利要求書中所使用地，單數形式的“一”、“一個”以及“該”包括具有復數引用的實施例，除非上下文另外明確地指出。如在說明書和所附權利要求書中使用的，術語“或” 一般在其含義上用于包括“和/或”，除非上下文另外明確地指出。本發(fā)明涉及具有截斷桿的涂敷模具，該截斷桿被定位成當截斷桿處于關閉位置時停止涂敷材料在模具的流動通道內的流動。在關閉位置中，截斷桿橫跨材料流動通道延伸，從而阻擋涂敷材料流動通過。截斷桿基本上橫向于或正交于材料流動方向移動，且由該截斷桿形成的用以阻擋流動的密封部基本上橫向于或正交于材料流動方向。在一些實施例中，流動通道包括肩部，截斷桿相對于該肩部進行密封，該密封部基本上橫向于或正交于材料流動通道的方向。具有截斷桿的涂敷模具尤其適于貼片涂敷應用。盡管本發(fā)明不限于此，但將通過以下提供的各實例的討論得到對本公開各方面的理解。圖1A和IB示意了制造貼片已涂敷材料的連續(xù)幅材的兩種一般工藝。該兩種工藝都包括根據本公開的涂敷模具，其將涂敷材料(例如熱塑材料、基于溶劑的或高固體含量液體材料)涂覆到移動基材或幅材。如在該討論和全文使用的，“長度”指代在基材的行進方向(即機器方向)上的經過涂敷出口的尺寸，而“寬度”指代橫向于機器方向取得的尺寸。在圖1A中，提供連續(xù)的基材片材或幅材5，涂層區(qū)域6被涂覆到其上。在涂層區(qū)域6之間存在沒有涂層的基材區(qū)域7。已涂敷區(qū)域6和空出區(qū)域7通過涂敷模具IOA形成，該涂敷模具IOA以間歇方式涂覆涂敷材料；即，當基材5經過涂敷模具IOA時，涂敷模具IOA開始、停止和重新開始將涂敷材料涂覆到基材5上。涂敷模具IOA具有第一或上部模具本體12、第二或下部模具本體14以及在所述第一或上部模具本體12和所述第二或下部模具本體14之間的流動通道15。涂敷材料從諸如擠壓機的涂敷材料源(未示出)經過流動通道15，到達涂敷材料被涂覆到基材5的出口 16。在圖1A的該構造中，涂敷模具IOA與支承輥9相對將已涂敷的材料沉積在基材5上。利用與涂敷模具IOA相對的背襯輥9的圖1A的該設備通常被稱為“受支撐幅材”或“輥上”涂敷。類似于在圖1A中所示的工藝，在圖1B中，提供連續(xù)的基材片材或幅材5，涂層區(qū)域6被涂覆到其上。在涂層區(qū)域6之間存在沒有涂層的基材區(qū)域7。已涂敷區(qū)域6和空出區(qū)域7通過涂敷模具IOB形成，涂敷模具IOB以間歇方式涂覆該涂敷材料；即，當基材5經過涂敷模具IOB時，涂敷模具IOB開始、停止和重新開始將涂敷材料涂覆到基材5上。涂敷模具IOB具有第一或上部模具本體12、第二或下部模具本體14以及在第一或上部模具本體12和第二或下部模具本體14之間的流動通道15。涂敷材料從諸如擠壓機的涂敷材料源(未示出)經過流動通道15到達涂敷材料被涂覆到基材5的出口 16。圖1B的設備通常被稱為“張緊幅材”涂敷或“離輥”涂敷。在圖1A和IB中所示的兩種工藝中，已涂敷區(qū)域6最終被干燥或固化，從而形成這樣的細長產品，其具有在機器方向或基材5方向上延伸的已涂敷區(qū)域6的貼片，并且在相鄰的涂覆區(qū)域6之間存在空出區(qū)域7。諸如在圖1A和IB中所示的涂敷工藝能夠在寬范圍的生產速度下操作。例如，對于上述布置的商業(yè)實施例，使用寬度小于I英尺、I米或更多的幅材在數英尺/分鐘(每分鐘I米左右)至3500英尺/分鐘(每分鐘約1070米)的速率下運行并非不常見。應理解，幾乎任何長度和/或寬度的基材能夠與這些涂敷工藝一起使用。盡管在大多數實施例中，被涂敷的基材是諸如聚合物膜的柔性基材，但是也可使用在此描述的模具和工藝涂敷剛性基材O能夠通過本公開的工藝和涂敷模具來涂敷許多不同的涂敷組分。涂敷材料可以例如是熱熔或熱塑性材料(例如粘合劑)、基于溶劑的材料、基于低VOC的材料、基于乳液的粘合劑以及高固體含量材料。此外，諸如壓敏粘合劑、導電涂料、絕緣或非導電涂料和墨水的各種不同液體涂料能夠使用在此描述的涂敷模具和技術來涂覆。對于貼片涂敷尤其有助的兩個應用是電池單元(例如鋰離子電池)和太陽能面板或光電部件的形成。參照圖1A和1B，通過根據本公開的涂敷模具產生交替的已涂敷區(qū)域6和沒有涂層的區(qū)域7，本公開的涂敷模具具有內部截斷桿，該內部截斷桿被致動以中斷涂敷材料通過模具的流動?，F參照圖2和3，涂敷模具100具有眾所周知的一般總體構造，其具有第一或上部模具本體102以及配合的第二或下部模具本體104。模具本體102、104在其之間限定流動通道105，用于涂敷材料經過模具100。涂敷材料在入口(未示出)進入模具并經由出口106離開，在附圖中，入口位于圖的右側，而出口 106位于左側，從而涂敷材料從右向左流動通過通道105。流動通道105這此是統(tǒng)稱，且并不作詳細描述。涂敷模具和涂敷工藝的技術人員會理解，流動通道105在入口的下游包括歧管，該歧管用于橫跨模具的寬度分布涂敷材料。該歧管可以是任何合適類型的，諸如馬蹄形或溫特(Winter)歧管、衣架歧管、魚尾歧管或t形歧管，且并不影響模具100的發(fā)明特征。歧管下游可以是通向出口 106的著陸部區(qū)域(land region)之前的預著陸部區(qū)域(preland region)。流動通道105可包括其它結構，諸如過渡區(qū)域或跳出區(qū)域。歧管、預著陸部和著陸部被布置成基本上平行于相應的出口 106并且大致與相應的出口 106 —樣寬，以提供在寬度方向上橫跨待被涂敷的幅材的液體涂敷材料的均勻輸送。著陸部和/或出口 106通常高度可調節(jié)，使得可根據需要來調節(jié)所涂覆的涂料的厚度。出口 106的寬度可以是固定的或是能夠通過定邊件(deckling)或定邊系統(tǒng)來調節(jié)的。涂敷模具100包括內部截斷桿，該內部截斷桿用于中斷在流動通道105中的涂敷材料流動通過模具100。參照圖4，用于模具100的截斷桿110包括擋片112，該擋片112延伸至少出口 106的寬度，且在大多數實施例中延伸模具100的寬度。擋片112限定截斷桿110的上游表面114和下游表面116。擋片112的剛度足以承受推壓在該擋片上的涂敷材料的壓力而不會變形；作為示例，約0.1英寸(約2.5mm)至0.25英寸(約6.3mm)厚度的擋片112能夠承受大約28psi (約每平方厘米2千克力)的流體壓力，盡管取決于進入模具100的涂敷材料的壓力和截斷桿110關閉的持續(xù)時間，擋片112可能遇到更高或更低的壓力。一般而言，較薄的擋片112優(yōu)于較厚的擋片112，因為較薄擋片在其下降時需要較少的致動力來克服往回向上推壓在該擋片112和其端部115上的液體壓力。擋片112具有在上游表面114和下游表面116之間的端部115。在一些實施例中，端部115是成角度或傾斜的端部，從上游表面114到下游表面116向下傾斜。下文描述傾斜端部115的益處。截斷桿110的一部分能夠移動到流動通道105中和從該流動通道105移出，以中斷涂敷材料流動通過該流動通道105。圖4A和4B分別示出處于關閉和打開位置的截斷桿110。為了從打開位置移動到關閉位置和移回，截斷桿110沿大致橫向于或正交于流動通道105和在通道105內流動的材料的方向移動。對于流動通道105基本上是水平的模具100的實施例，截斷桿110基本上豎直移動，且在優(yōu)選實施例中，準確地豎直且以線性運動移動。在圖4A的關閉位置中，截斷桿110延伸到流動通道105中并形成橫跨流動通道105的擋閘，以抑制(且優(yōu)選地完全停止)涂料材料流動通過流動通道105。在圖4B的打開位置，截斷桿110從流動通道至少部分地且優(yōu)選地完全縮回，且因此允許涂敷材料流動通過流動通道105。在所示實施例中，通道105具有沿其長度不恒定的形狀。涂敷模具設計領域的技術人員能夠容易地確定得到涂敷工藝所期望的涂敷特性所需的流動通道105、上壁122和下壁124的具體形狀。在該實施例中，通道105的上壁122和通道105的下壁124不是齊平的，從而在上壁122與下壁124之間測量的流動通道105的高度沿流動通道105的長度變化。在該實施例中，下壁124的高度比上壁122偏離更多。此外，在所示實施例中，流動通道105的形狀包括上游頸縮區(qū)域126、擴大區(qū)域127和下游頸縮區(qū)域128，并且截斷桿110被定位成靠近從擴大區(qū)域127到下游頸縮區(qū)域128的過渡部延伸到通道105中。擴大區(qū)域127和下游頸縮區(qū)域128之間的過渡部由肩部130限定(參見圖4B)。無論流動通道105的具體形狀如何，截斷桿110都位于流動通道105的歧管部分下游。在一些設計中，截斷桿Iio在流動通道105的在著陸部區(qū)域上游的被認為是預著陸部區(qū)域的部分內。在其它設計中，截斷桿110在流動通道105的是預著陸部區(qū)域上游的過渡區(qū)域的部分內。參照圖4A，當處于延伸或關閉位置時，截斷桿110緊鄰且優(yōu)選地抵靠肩部130。如上文指出的，在該實施例中涂敷材料通過流動通道105的流動是從右向左的，從而截斷桿110的下游表面116與肩部130物理接觸，并且向肩部130提供密封部。橫向于材料在流動通道105中的流動方向的截斷桿110與肩部130之間的物理接觸提供比沿材料在流動通道105中的流動方向延伸的密封部、諸如截斷桿110的端部115與下壁124之間的密封部更可靠且防漏的密封。此外，與端部115與下壁124之間的密封部會導致的撞抵表面相比，滑動以形成物理密封時對側壁(例如下游表面116)造成較少的磨損或損壞。截斷桿110并不“撞底”(即，端部115不與下壁124接觸)。為了抑制涂敷材料沿截斷桿110向上芯吸和污染模具100的其它部分，可存在各種密封件132、133。除了肩部130和截斷桿110之間的橫向物理接觸之外，由關閉的截斷桿110阻塞的涂敷材料的流體壓力推壓截斷桿Iio的上游表面114，從而進一步增加肩部130和截斷桿110的下游表面116之間的接觸和密封。為了允許涂敷材料流動通過流動通道105，縮回或打開截斷桿110，如圖4B所示。圖4B中能夠看到具有截斷桿110的成角度、傾斜或帶坡度的端部115的益處。在打開、縮回位置中(圖4B)，傾斜端部115在流動通道105的擴大區(qū)域127和頸縮區(qū)域128之間形成在上壁122中的平穩(wěn)過渡部，這提供經過截斷桿110的更平穩(wěn)的流體流動。此外，當上壁122具有平穩(wěn)過渡部時，能夠容易地計算和設計通過截斷桿110所位于的區(qū)域的壓降分布。具有傾斜或帶坡度的端部115還降低克服當擋片112下降時往回向上推壓擋片112的流體壓力所需的力。具有傾斜或帶坡度的端部115的另一個益處在于帶坡度的端部115能夠向后傾斜，以朝向模具入口向后推動涂敷流體。如上文指出的，截斷桿110沿基本上橫向于或正交于流動通道105和在通道105內流動的材料的方向移動。對于流動通道105基本上水平的模具100的實施例，截斷桿110基本上豎直移動，且在優(yōu)選實施例中準確地豎直移動。盡管磁性致動器由于快速加速和高精度是優(yōu)選的，但是截斷桿110能夠通過任何適當的磁性、氣動、液壓或機械裝置來致動。一些磁性致動器能夠具有以下特征:行進距離0.01至2英寸(約0.025至5cm);加速度0.1至20G (約3.5至706公里/小時-秒)；峰值力0.3至3001bs (約0.136至136kg);連續(xù)力0.1至100磅(約0.045至45kg)；以及分辨率0.0005至0.000004英寸(約0.127至
0.0013272mm)。適當磁性致動器的一個實例是諸如加利福尼亞州瓦倫西亞的H2W技術公司的音圈定位平臺。音圈定位平臺尤其適于其中復雜的位置、速度和加速度控制是必要的短行程長度。為了確保截斷桿110橫跨其長度的一致且連貫的運動，多個致動器140通常沿截斷桿110的長度隔開，盡管在一些實施例中，單個致動器140可以是足夠的。圖2示出三個致動器140。雖然致動器140可以是手動控制的，但是為了精確涂敷，優(yōu)選地致動器140是計算機控制的。在模具100的一些設計中，在流動通道105中靠近通常在歧管上游的模具入口處可存在減壓閥和/或材料旁通閥。當截斷桿HO打開和關閉例如一秒或更少時，背壓在擋片112的上游表面114上的堆積是最少的。但是，如果截斷桿110關閉若干秒，則由于被阻擋的涂敷材料的積聚，背壓會高得多。對于這些工藝，能夠包括與流動通道105流體連通的減壓閥和/或旁通閥，以從流動通道105釋放不需要的壓力。例如，如果模具100和相應的系統(tǒng)被設計成在30psi (約2.lkg-f/cm2)下操作,則減壓閥會被設置在30psi (約2.lkg-f/cm2)或稍大于30psi (約2.lkg-f/cm2)。如果截斷桿110被關閉且壓力開始堆積到不期望的程度，則卸壓閥會打開并將流體旁通回到模具入口、涂敷材料源或存儲器。保持大致恒定的內部壓力導致更好的涂敷。為了利用模具100進行貼片涂敷操作，將待被涂敷的材料弓I入模具100的入口。將諸如膜基材的基材饋送到靠近出口 106的位置。涂敷領域的技術人員能夠調節(jié)基材的張力和在出口 106和基材之間的距離，以在基材上提供適當的涂敷。已知期望的運行速度(即基材速度)、涂層的期望長度(例如已涂敷區(qū)域6)以及在已涂敷區(qū)域之間的未涂敷區(qū)域(例如未涂敷區(qū)域7)的期望長度，能夠通常以秒來計算“涂敷”和“不涂敷”的持續(xù)時間。為了開始涂敷，使涂敷材料通過流動通道105 (截斷桿110處于縮回或打開位置)到達出口 106并且將涂覆材料涂覆在基材上。在先前確定的時間，截斷桿110經由致動器140延伸或關閉，從而阻擋涂敷材料通過流動通道105的流動。在確定的“關閉”時間之后，截斷桿10被升高或打開，從而允許涂敷材料再次流動通過通道105并且經由出口 106流出。作為使用本發(fā)明涂敷模具的一個具體實例，模具100能夠用于在基材上形成貼片涂敷，每個貼片是11.00英寸(約28cm)長(沿機器方向)且約10英寸(25cm)寬。在相鄰的貼片之間是延伸基材寬度的0.787英寸(約20mm)長的未涂敷區(qū)域。在以35米/分鐘的速度進行涂敷的情況中，這要求涂敷材料流動2.09秒以形成貼片，并且然后將涂敷材料流關閉0.03秒以形成未涂敷區(qū)域，在此之后涂敷材料再次流動。因此，公開了貼片涂敷模具的各種實施例和特征。上述實施方式以及其它實施方式均在以下權利要求的范圍內。本領域的技術人員會理解，所描述的各種特征能夠與以上在此描述的任何其它特征或除了所公開的那些的其它特征結合地使用。例如，盡管討論和附圖已將模具放置定向成使得流動通道基本上水平延伸且截斷桿基本上豎直延伸，但模具的其它定向也在本發(fā)明的范圍內。例如，模具可設計成使流動通道大致豎直延伸并且截斷桿大致水平延伸。為了說明而非限制的目的展示了所公開的實施例，且本發(fā)明僅由以下權利要求書限制。
權利要求
1.一種涂敷模具，包括: 模具本體，所述模具本體具有穿過所述模具本體的流動通道，所述流動通道與模具入口和模具出口流體連通； 截斷桿，所述截斷桿能夠從打開位置移動到關閉位置，所述截斷桿具有上游表面、下游表面，以及所述上游表面和所述下游表面之間的端部； 其中，當處于所述關閉位置時，所述下游表面物理接觸所述流動通道，并且所述截斷桿的端部不與所述流動通道形成接觸。
2.根據權利要求1所述的涂敷模具，其中，所述流動通道限定肩部，并且其中，當處于所述關閉位置時，所述下游表面物理接觸所述流動通道的肩部。
3.根據權利要求2所述的涂敷模具，其中，所述流動通道包括擴大區(qū)域和在所述擴大區(qū)域的下游的頸縮區(qū)域，所述肩部限定所述擴大區(qū)域和所述頸縮區(qū)域之間的過渡部。
4.根據權利要求1-3中的任一項所述的涂敷模具，其中，所述截斷桿從所述打開位置線性移動到所述關閉位置。
5.根據權利要求1-4中的任一項所述的涂敷模具，其中，所述截斷桿從所述流動通道外的所述打開位置移動到所述流動通道中的所述關閉位置。
6.根據權利要求1-5中的任一項所述的涂敷模具，其中，所述截斷桿相對于所述流動通道正交地移動。
7.根據權利要求1-6中的任一項所述的涂敷模具，其中，所述截斷桿豎直地移動。
8.根據權利要求1-7中的任一`項所述的涂敷模具，還包括磁性致動器，所述磁性致動器可操作地連接到所述截斷桿，以將所述截斷桿從所述打開位置移動到所述關閉位置。
9.根據權利要求1-8中的任一項所述的涂敷模具，其中，所述截斷桿的端部從所述上游表面到所述下游表面向下傾斜。
10.根據權利要求1-9中的任一項所述的涂敷模具，其中: 所述流動通道具有第一高度和第二高度，所述第二高度比所述第一高度??； 所述截斷桿在所述第一高度的位置處位于所述流動通道中；并且 當處于所述關閉位置時，所述截斷桿超過所述第二高度地延伸到所述流動通道中。
11.一種涂敷模具，包括: 模具本體，所述模具本體具有穿過所述模具本體的流動通道，所述流動通道與模具入口和模具出口流體連通，所述流動通道由第一壁和相對的第二壁限定，所述第二壁限定肩部; 截斷桿，所述截斷桿能夠從所述流動通道外的打開位置移動到所述流動通道中的關閉位置，所述截斷桿具有上游表面和下游表面； 其中，當處于所述關閉位置時，所述截斷桿橫跨所述流動通道延伸，并且所述下游表面物理接觸所述肩部，從而使得通過所述流動通道的流動停止。
12.—種涂敷模具，包括: 模具本體，所述模具本體具有穿過所述模具本體的流動通道，所述流動通道與模具入口和模具出口流體連通； 截斷桿，所述截斷桿能夠從第一位置移動到第二位置，其中，當處于所述第一位置時，所述流動通道打開用于涂敷材料流過所述流動通道，并且其中，當處于所述第二位置時，所述流動通道相對于流過所述流動通道的涂敷材料關閉，所述截斷桿形成所述流 動通道內的、與所述流動通道成直角的密封部。
全文摘要
一種具有截斷桿的涂敷模具，所述截斷桿被定位成當截斷桿處于關閉位置時停止涂敷材料在模具的流動通道內的流動。在關閉位置，截斷桿橫跨材料流動通道延伸，從而阻擋涂敷材料流動通過流動通道。截斷桿大致正交于材料流動方向移動。在一些實施例中，流動通道包括肩部，截斷桿相對于該肩部進行物理密封，密封部基本上橫向于或正交于材料流動通道的方向。具有截斷桿的涂敷模具尤其適于貼片涂敷應用。
文檔編號B05C11/10GK103153485SQ201180048772
公開日2013年6月12日 申請日期2011年10月5日 優(yōu)先權日2010年10月6日
發(fā)明者羅伯特·L·德魯舍爾 申請人:普瑞米爾模具集團