專利名稱：涂布設(shè)備、電子照相感光構(gòu)件的生產(chǎn)方法和電子照相感光構(gòu)件的大規(guī)模生產(chǎn)方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及涂布設(shè)備、使用該涂布設(shè)備生產(chǎn)電子照相感光構(gòu)件的方法和電子照相感光構(gòu)件的大規(guī)模生產(chǎn)方法。
背景技術(shù)：
電子照相感光構(gòu)件典型地具有支承體和形成于支承體上的感光層。此外，在支承體和感光層之間可設(shè)置導(dǎo)電層和底涂層(中間層)等，并且可在感光層上設(shè)置保護(hù)層。為生產(chǎn)電子照相感光構(gòu)件，在支承體上形成層如感光層的方法包括例如浸涂法、 輥涂法、噴霧法和靜電涂裝法等。這些中，在被涂布體(object to be coated)具有三維形狀如圓筒狀或無縫帶狀等的場合下，浸涂法可能是有利的。另外，浸涂法在大規(guī)模生產(chǎn)中是有利的，這是因?yàn)閱我煌坎荚O(shè)備(浸涂設(shè)備)能夠同時(shí)涂布多個(gè)物體(object)。因而，浸涂法已廣泛用于電子照相感光構(gòu)件的生產(chǎn)(大規(guī)模生產(chǎn))。圖6示出涂布設(shè)備(浸涂設(shè)備)的實(shí)例。在示于圖6的涂布設(shè)備中，將涂布液20借助液體輸送單元3如泵等經(jīng)由回收罐2 和過濾器4運(yùn)送至涂布槽9的下部。此外，超過涂布槽9容量的涂布液20落入溢流容器 10，然后經(jīng)由配管運(yùn)送至回收罐2。附圖標(biāo)記6表示涂布液20的液面。使用如上所述的涂布液循環(huán)器，涂布液20在涂布設(shè)備內(nèi)循環(huán)。此外，設(shè)置有用于被涂布體1從其中通過的貫通口 8的罩蓋(cover cap) 7覆蓋涂布槽9。罩蓋7抑制異物進(jìn)入涂布液20和溶劑從涂布液20揮發(fā)。被涂布體(object to be coated)/被涂布體(coated object) 1通過升降單元(未示出)被部分地把持(grip)，浸漬于涂布槽9中容納的涂布液20中，然后從所述涂布液20中提升，由此在被涂布體1的表面上形成涂膜(濕涂膜)。此外，罩(hood) 5防止涂膜被提升后受到周圍條件的影響。罩5安裝在罩蓋7的貫通口 8的上方。在生產(chǎn)電子照相感光構(gòu)件等的間隔期間，涂布設(shè)備內(nèi)的涂布液的循環(huán)可臨時(shí)停止以定期交換過濾器或維護(hù)升降單元和液體輸送單元。當(dāng)涂布設(shè)備內(nèi)的涂布液的循環(huán)停止時(shí)，溶劑從涂布槽內(nèi)的涂布液的液面蒸發(fā)，導(dǎo)致涂布液粘度的增加。因此，部分半固態(tài)的膜 (下文中稱為“半固態(tài)膜”)可形成于涂布液的液面上。當(dāng)恢復(fù)涂布液的循環(huán)時(shí)，半固態(tài)膜被涂布槽的上端邊緣部捕獲并保持在其上，導(dǎo)致其滯留。殘留于涂布槽的上端邊緣部上的半固態(tài)膜使得涂布槽中的涂布液流動(dòng)(涂布液從涂布槽中溢流)不均勻，由此可能發(fā)生涂布缺陷如膜厚度的不均勻等。作為抑制異物在涂布槽中的涂布液的液面處滯留的方法，日本專利特開 2002-323778公開了在涂布槽的上端部設(shè)置槽口部或沉積部的方法。此外，作為用于保持涂布液從涂布槽中均勻溢流的方法，日本專利特開07-132258 公開了一種涂布槽，其中相對于如圖7A和7B所示的典型涂布槽形狀，設(shè)置如圖8A和8B中所示從上端面12朝向外側(cè)傾斜的傾斜面14。然而，日本專利特開2002-323778中公開的方法對于氣泡是有效的但對于半固態(tài)膜實(shí)質(zhì)上是無效的。另外，涂布液在槽口部或停止部附近的流動(dòng)變得不均勻，導(dǎo)致涂布缺陷的發(fā)生。此外，日本專利特開07-132258中公開的涂布槽可一定程度上減少半固態(tài)膜滯留的風(fēng)險(xiǎn)，但對于抑制半固態(tài)膜的滯留仍是不充分的。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明涉及涂布設(shè)備，其抑制以下現(xiàn)象在涂布設(shè)備內(nèi)的涂布液的循環(huán)暫停時(shí)可形成于涂布液的液面上的半固態(tài)膜，即使在涂布液的循環(huán)恢復(fù)后，仍滯留在涂布槽的上端邊緣部，并且滯留的半固態(tài)膜引起涂布缺陷的發(fā)生。此外，本發(fā)明涉及使用前述涂布設(shè)備生產(chǎn)電子照相感光構(gòu)件的方法。此外，本發(fā)明涉及使用前述涂布設(shè)備大規(guī)模生產(chǎn)電子照相感光構(gòu)件的方法。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，提供涂布設(shè)備，其包括圓筒狀涂布槽，其用于容納涂布液；升降單元，其用于將被涂布體浸漬于所述涂布槽內(nèi)的涂布液中并從所述涂布液中提升； 和循環(huán)器，其用于使所述涂布液循環(huán)從而使所述涂布液超過所述涂布槽的上端部而溢流。 其中所述涂布槽的上端部包括第一上端面；第二上端面，其位于所述第一上端面的下方并具有大于所述第一上端面外徑的外徑；和臺階面，其使所述第一上端面和所述第二上端面相互連接，其中所述循環(huán)器能夠在保持所述涂布槽充滿所述涂布液而不會使所述涂布液從所述涂布槽中溢流的同時(shí)使所述循環(huán)暫停，并恢復(fù)所述循環(huán)，并且其中，當(dāng)在所述涂布液的循環(huán)暫停之后恢復(fù)所述涂布液的循環(huán)時(shí)，所述溢流的涂布液在潤濕所述臺階面的全部區(qū)域的同時(shí)沿所述第二上端面流動(dòng)。根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面，提供生產(chǎn)電子照相感光構(gòu)件的方法，其包括通過浸涂法在被涂布體的表面上形成涂膜的步驟，其中所述浸涂法使用前述涂布設(shè)備進(jìn)行。根據(jù)本發(fā)明的又一個(gè)方面，提供大規(guī)模生產(chǎn)電子照相感光構(gòu)件的方法，其包括(i)提供涂布設(shè)備，所述涂布設(shè)備包括圓筒狀涂布槽，其用于容納涂布液，升降單元，其用于升降用于電子照相感光構(gòu)件的被涂布體，和循環(huán)器，其用于使所述涂布液循環(huán)，(ii)使用于電子照相感光構(gòu)件的被涂布體下降，將其浸漬于所述涂布液中，然后將其從所述涂布液中提升，用所述循環(huán)器使所述涂布液循環(huán)從而使所述涂布液超過所述涂布槽的上端部而溢流，和(iii)重復(fù)所述步驟(ii)以生產(chǎn)多個(gè)被涂布體，其中所述涂布槽的上端部包括第一上端面；第二上端面，其位于所述第一上端面的下方并具有大于所述第一上端面外徑的外徑；和臺階面，其使所述第一上端面和所述第二上端面相互連接，和其中所述方法進(jìn)一步包括
(iv)在保持所述涂布槽充滿所述涂布液而不會使所述涂布液從所述涂布槽中溢流的同時(shí)，使所述涂布液的循環(huán)暫停；和(ν)恢復(fù)所述循環(huán)以使所述溢流的涂布液在潤濕所述臺階面的全部區(qū)域的同時(shí)沿所述第二上端面流動(dòng)。根據(jù)本發(fā)明，可提供涂布設(shè)備，其抑制以下現(xiàn)象在涂布設(shè)備內(nèi)的涂布液的循環(huán)停止時(shí)可形成于涂布液的液面上的半固態(tài)膜，即使在涂布液的循環(huán)恢復(fù)后，仍滯留在涂布槽的上端邊緣部，導(dǎo)致涂布缺陷的發(fā)生。此外，根據(jù)本發(fā)明，可提供使用前述涂布設(shè)備生產(chǎn)電子照相感光構(gòu)件的方法。此外，根據(jù)本發(fā)明，可提供使用前述涂布設(shè)備大規(guī)模生產(chǎn)電子照相感光構(gòu)件的方法。參考附圖，從示例性實(shí)施方案的以下描述中，本發(fā)明的進(jìn)一步特征將變得顯而易見。


圖IA為示出在本發(fā)明的涂布設(shè)備中的涂布槽的實(shí)例的圖。圖IB為圖IA所示涂布槽的上端部的放大圖。圖2Α為在本發(fā)明的涂布設(shè)備中涂布槽的上端部的垂直截面圖。圖2Β為在本發(fā)明的涂布設(shè)備中涂布槽的上端部的垂直截面圖。圖3Α為在本發(fā)明的涂布設(shè)備中涂布槽的上端部的垂直截面圖。圖;3Β為在本發(fā)明的涂布設(shè)備中涂布槽的上端部的垂直截面圖。圖4為在本發(fā)明的涂布設(shè)備中的示例性涂布槽的上端部的放大圖。圖5為示出設(shè)置有具有通過使用本發(fā)明的涂布設(shè)備生產(chǎn)的電子照相感光構(gòu)件的處理盒的電子照相設(shè)備的實(shí)例的示意性構(gòu)造圖。圖6為示出涂布設(shè)備(浸涂設(shè)備)的實(shí)例的圖。圖7Α為示出傳統(tǒng)典型涂布槽形狀的實(shí)例的圖。圖7Β為圖7Α所示涂布槽的上端部的放大圖。圖8Α為示出傳統(tǒng)涂布槽形狀的實(shí)例的圖。圖8Β為圖8Α所示涂布槽的上端部的放大圖。
具體實(shí)施例方式本公開內(nèi)容的涂布設(shè)備為至少具有以下功能的涂布設(shè)備在使涂布液在涂布設(shè)備內(nèi)循環(huán)從而使涂布液超過其上端部從涂布槽中溢流的同時(shí)，將被涂布體浸漬于涂布槽的涂布液中并將被涂布體從所述涂布液中提升，從而在被涂布體表面上形成涂膜。本公開內(nèi)容的示例性涂布設(shè)備100包括具有如圖6所示構(gòu)造的涂布設(shè)備100。在示于圖6的涂布設(shè)備中，將涂布液20借助液體輸送單元3如泵等經(jīng)由回收罐2 和過濾器4運(yùn)送至涂布槽9的下部。在本公開內(nèi)容的情況下，涂布槽9的形狀可形成為如圖1或圖4所示的新穎形狀或配置。超過涂布槽9容量的涂布液20落入溢流容器10中，然后經(jīng)由配管被運(yùn)送至回收罐2。使用如上所述的涂布液循環(huán)器，涂布液20在涂布設(shè)備內(nèi)循環(huán)。此外，設(shè)置有用于被涂布體1從其中通過的貫通口 8的罩蓋7覆蓋涂布槽9。罩蓋7抑制異物進(jìn)入涂布液20和溶劑從涂布液20揮發(fā)。被涂布體1可通過升降單元(未示出)被部分地把持，浸漬于涂布槽 9容納的涂布液20中，然后提升，由此在被涂布體1的表面上形成涂膜(濕涂膜)。此外， 防止?jié)裢磕な艿街車鷹l件如周圍的風(fēng)的影響的罩5安裝在罩蓋7的貫通口 8的上方。用于本發(fā)明的涂布設(shè)備100的涂布槽的示例性形狀示于圖IA和圖1B。如圖IB所示，圖IA所示的涂布槽的上端部包括第一上端面12a、第二上端面12b和臺階面13，所述第二上端面12b位于第一上端面12a的下方并具有大于第一上端面1 外徑的外徑，所述臺階面13使第一上端面1 和第二上端面1 相互連接。圖2A和圖2B各自為圖1所示涂布槽的上端部的垂直截面圖。當(dāng)涂布設(shè)備內(nèi)的涂布液的循環(huán)停止并由此涂布液從涂布槽的溢流停止時(shí)，在經(jīng)過一定時(shí)間后半固態(tài)膜21形成于涂布液的液面上。然后，形成的半固態(tài)膜21被第一上端面12a(上端邊緣部)捕獲，因而可滯留于第一上端面1 上(圖2A)。然后，在涂布設(shè)備內(nèi)的涂布液的循環(huán)恢復(fù)，涂布液繞過滯留于第一上端面1 上的半固態(tài)膜從涂布槽中溢流。超過第一上端面1 從涂布槽中溢流的一部分涂布液在潤濕臺階面13的全部區(qū)域的同時(shí)沿第二上端面12b流動(dòng)。然后， 該部分涂布液在半固態(tài)膜21的下側(cè)延伸(stretch out)并與半固態(tài)膜21接觸，由此可使半固態(tài)膜21流到下方(圖2B)。附圖標(biāo)記22表示沿第二上端面12b流動(dòng)并在半固態(tài)膜21 下延伸的涂布液。如圖:3B所示，優(yōu)選第二上端面12b具有使其外周部高于其內(nèi)周部的傾斜。在該配置下，從涂布槽中溢流的涂布液能夠更可靠地在半固態(tài)膜的下側(cè)延伸。第二上端面12b和水平方向之間的角度(圖3B中的α)優(yōu)選在0°至30°的范圍內(nèi)。在較大角度α?xí)r，涂布液趨于在半固態(tài)膜的下側(cè)延伸，而在較小角度α?xí)r，半固態(tài)膜趨于流到下方。當(dāng)?shù)诙隙嗣?2b具有其外周部低于其內(nèi)周部的傾斜時(shí)，認(rèn)為角度α的值相對于水平線為負(fù)值(即在水平線下)。此外，沿臺階面13的垂直方向的長度(圖3Α和圖;3Β中示出的符號“a”)優(yōu)選在 0. 5mm-3mm的范圍內(nèi)。在較長長度“a”時(shí)，半固態(tài)膜趨于不跨越第一上端面1 和第二上端面12b而延伸因而幾乎不能由此被捕獲，從而沿第二上端面12b流動(dòng)的涂布液容易在半固態(tài)膜的下側(cè)延伸。在較短長度“a”時(shí)，沿第二上端面12b流動(dòng)的涂布液容易潤濕臺階面13 的全部區(qū)域，因而，涂布液易于與半固態(tài)膜接觸。第二上端面12b的內(nèi)周部和外周部之間的最短距離(圖3A和圖;3B中示出的符號 “b”)優(yōu)選在0.3mm-3mm的范圍內(nèi)。在較長距離“b”時(shí)，涂布液容易在半固態(tài)膜的下側(cè)延伸。 在較短距離“b”時(shí)，半固態(tài)膜至少被第二上端面12b捕獲，因而沿第二上端面12b流動(dòng)的涂布液容易在半固態(tài)膜的下側(cè)延伸。在本發(fā)明中，優(yōu)選涂布槽上端部的上端面僅具有由第一上端面和第二上端面組成的兩個(gè)表面。即使當(dāng)設(shè)置位于第二上端面的下方的第三或隨后的上端面(例如，圖4)時(shí)，與第一上端面相比，半固態(tài)膜也不太可能由第二上端面或者第三或隨后的上端面捕獲，因而， 第三或隨后的上端面幾乎沒有機(jī)會有助于半固態(tài)膜的向下流動(dòng)。此外，當(dāng)設(shè)置第三或隨后的上端面時(shí)，從第一上端面向下流動(dòng)的半固態(tài)膜更易于由第三或隨后的上端面捕獲。優(yōu)選地，圖3中所示的角度α、長度“a”和距離”b”具有以下關(guān)系，其中，當(dāng)在涂布設(shè)備內(nèi)的涂布液的循環(huán)停止一段時(shí)間后恢復(fù)在涂布設(shè)備內(nèi)的涂布液的循環(huán)時(shí)，涂布液可能
7能夠從涂布槽中溢流，沿第二上端面流動(dòng)，并在潤濕臺階面13的全部區(qū)域的同時(shí)流動(dòng)。接著，給出使用本發(fā)明的涂布設(shè)備生產(chǎn)電子照相感光構(gòu)件的方法的描述。通常，電子照相感光構(gòu)件通過將感光層形成于支承體上來生產(chǎn)。感光層可為包含在同一層中含有的電荷輸送材料和電荷產(chǎn)生材料的單層型感光層，或可為其中在包含電荷輸送材料的電荷輸送層和包含電荷產(chǎn)生材料的電荷產(chǎn)生層中功能分離的層壓型(功能分離型)感光層?？紤]到電子照相特性，感光層優(yōu)選層壓型感光層。在層壓型中，優(yōu)選從支承體側(cè)依次層壓電荷產(chǎn)生層和電荷輸送層的類型(順層型)。在支承體和感光層之間可設(shè)置此處描述的導(dǎo)電層和底涂層，以及在感光層上可設(shè)置以下描述的保護(hù)層。前述“涂膜”可為導(dǎo)電層、底涂層、感光層(電荷產(chǎn)生層或電荷輸送層)、保護(hù)層或其它層。前述“被涂布體”是指其表面上要形成“涂膜”的物體。例如，當(dāng)電子照相感光構(gòu)件包括支承體、依次配置在支承體上的導(dǎo)電層、底涂層、電荷產(chǎn)生層、電荷輸送層和保護(hù)層時(shí)， 術(shù)語“涂膜”和“被涂布體”如下定義。當(dāng)“涂膜”為導(dǎo)電層時(shí)，“被涂布體”為支承體。當(dāng)“涂膜”為底涂層時(shí)，“被涂布體”為具有支承體和在支承體上的導(dǎo)電層的物體。當(dāng)“涂膜”為電荷產(chǎn)生層時(shí)，“被涂布體”為具有支承體以及依次形成于支承體上的導(dǎo)電層和底涂層的物體。當(dāng)“涂膜”為電荷輸送層時(shí)，“被涂布體”為具有支承體以及依次形成于支承體上的導(dǎo)電層、底涂層和電荷產(chǎn)生層的物體。當(dāng)“涂膜”為保護(hù)層時(shí)，“被涂布體”為具有支承體以及依次形成于支承體上的導(dǎo)電層、底涂層、電荷產(chǎn)生層和電荷輸送層的物體。本發(fā)明的涂布設(shè)備可適用于上述層中任意一層，或也可適用于多層。半固態(tài)膜趨于形成于粘度特別地為30-800mPa · s的涂布液上。將電荷輸送層用涂布液典型地調(diào)整至具有30mPa · s-800mPa · s范圍內(nèi)的粘度。在較低粘度時(shí)，可發(fā)生涂布液的下沉(sagging) 或下垂(drooping)，因而，在被涂布體軸向上部的表面上要形成的涂膜的膜厚度趨于比在被涂布體軸向中心部或軸向下部的表面上要形成的涂膜的膜厚度薄。此外，在較高粘度時(shí)， 當(dāng)涂布時(shí)的流平(leveling)變得不充分，并由此趨于發(fā)生涂膜中的不均勻。特別地，對于粘度為500mPa · s以下的涂布液，本發(fā)明的涂布設(shè)備對于抑制半固態(tài)膜的滯留是有效的。 此處，粘度為當(dāng)涂布液的溫度為25°C時(shí)使用由Shibaura System Co.，Ltd.制造的單圓筒型旋轉(zhuǎn)粘度計(jì)(商品名=Bismetron VS-Al型)測量的值。此外，將本發(fā)明的涂布設(shè)備用于涂布液的循環(huán)以使涂布液水平在涂布槽中上升從而從涂布槽中溢流。當(dāng)涂布液水平在涂布槽中上升時(shí)，將涂布液水平的上升速率典型地調(diào)整至在30mm/min-280mm/min范圍內(nèi)。在較慢上升速率下，涂膜中的不均勻難以發(fā)生，而在較快上升速率下，涂布液難以在涂布槽中停滯。在涂布液水平以特別是60mm/min以上的上升速率在涂布槽內(nèi)升高的條件下，本發(fā)明的涂布設(shè)備在抑制半固態(tài)膜的滯留中是有效的。下文中，將給出關(guān)于具有層壓型感光層的電子照相感光構(gòu)件的實(shí)例的詳細(xì)描述。優(yōu)選支承體為具有導(dǎo)電性的支承體(導(dǎo)電性支承體)。例如，可采用由例如鋁、鋁合金、銅、鋅、不銹鋼、釩、鉬、鉻、鈦、鎳、銦、金和鉬等制成的金屬(合金)支承體。此外，也可采用通過真空蒸發(fā)法形成的具有金屬(合金)涂膜(上述那些)的金屬支承體或塑料支承體。塑料可包括聚乙烯、聚丙烯、聚氯乙烯、聚對苯二甲酸乙二酯和丙烯酸類樹脂等。
也可采用通過用導(dǎo)電性顆粒如炭黑、氧化錫顆粒、氧化鈦顆粒和銀顆粒等與粘結(jié)劑樹脂一起浸漬(impregnating)塑料或紙形成的支承體，和具有導(dǎo)電性粘結(jié)劑樹脂的塑料支承體等。支承體的形狀的實(shí)例包括圓筒狀和無縫帶狀(即，環(huán)形帶狀)等。其中，優(yōu)選圓筒狀。出于抑制由于激光束的散射引起的干涉條紋的目的，支承體表面可進(jìn)行切削處理、表面粗糙化處理或氧化鋁膜處理(alumite treatment)等。出于抑制由于激光束的散射引起的干涉條紋或支承體上的涂布刮痕的目的，可在支承體和感光層(電荷產(chǎn)生層、電荷輸送層)或下述底涂層之間設(shè)置導(dǎo)電層。導(dǎo)電層可以以涂布導(dǎo)電層用涂布液，并將獲得的涂膜干燥和/或固化的方式形成。導(dǎo)電層用涂布液通過將導(dǎo)電性顆粒如炭黑、金屬顆粒和金屬氧化物顆粒等與粘結(jié)劑樹脂和溶劑一起進(jìn)行分散處理來獲得。導(dǎo)電層的膜厚度優(yōu)選在1 μ m-40 μ m的范圍內(nèi)，更優(yōu)選在2 μ m_20 μ m的范圍內(nèi)。此外，在支承體或?qū)щ妼雍透泄鈱?電荷產(chǎn)生層、電荷輸送層)之間可設(shè)置具有阻隔功能(barrier function)和接合功能(bonding function)的底涂層。出于改進(jìn)感光層的粘合性和涂布性、改進(jìn)從支承體的電荷注入性和改進(jìn)對于感光層的電破壞的保護(hù)等的目的來設(shè)置底涂層。底涂層可以以涂布通過將樹脂溶解于溶劑中獲得的底涂層用涂布液并將獲得的涂膜干燥的方式形成。底涂層中使用的樹脂的實(shí)例包括丙烯酸類樹脂、烯丙基樹脂、醇酸樹脂、乙基纖維素樹脂、乙烯-丙烯酸共聚物、環(huán)氧樹脂、酪素樹脂、硅酮樹脂、明膠樹脂、酚醛樹脂、縮丁醛樹脂、聚丙烯酸酯、聚甲醛、聚酰胺酰亞胺、聚酰胺、聚烯丙基醚、聚酰亞胺、聚氨酯、聚酯、聚乙烯、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚砜、聚乙烯醇、聚丁二烯、聚丙烯和脲醛樹脂等。 此外，底涂層可使用氧化鋁等形成。此外，如果需要，也可將金屬顆粒、合金顆粒、金屬氧化物顆粒、鹽或表面活性劑等添加至底涂層。底涂層的膜厚度優(yōu)選在0.05 μ m-7 μ m的范圍內(nèi)，更優(yōu)選在0. Iymjym的范圍內(nèi)。電荷產(chǎn)生層可以以涂布電荷產(chǎn)生層用涂布液，并將獲得的涂膜干燥和/或固化的方式形成。電荷產(chǎn)生層用涂布液通過將電荷產(chǎn)生材料與粘結(jié)劑樹脂和溶劑一起進(jìn)行分散處理來獲得。干燥和固化方法的實(shí)例包括加熱和放射線照射等。分散處理方法的實(shí)例包括使用例如均質(zhì)器、超聲分散機(jī)、球磨機(jī)、砂磨機(jī)、輥磨機(jī)、振動(dòng)磨機(jī)、磨耗機(jī)和液體碰撞型高速分散機(jī)等的方法。電荷產(chǎn)生材料的實(shí)例包括偶氮顏料如單偶氮型、雙偶氮型或三偶氮型；金屬或非金屬酞菁顏料；靛藍(lán)顏料如靛藍(lán)或硫靛藍(lán)；茈顏料如茈酸酐或茈酸酰亞胺；多環(huán)醌顏料如蒽醌和芘醌；方酸菁染料；吡喃鐺鹽或噻喃鐺鹽；三苯甲烷染料；無機(jī)材料如硒、硒-碲或無定形硅；喹吖啶酮顏料、奧鐺鹽顏料(azulenium salt pigment)、花青染料；咕噸染料、 醌亞胺染料、苯乙烯基染料；硫化鎘；和氧化鋅等。這些電荷產(chǎn)生材料可單獨(dú)使用或組合使用。
用于電荷產(chǎn)生層中的粘結(jié)劑樹脂的實(shí)例包括丙烯酸類樹脂、烯丙基樹脂、醇酸樹脂、環(huán)氧樹脂、鄰苯二甲酸二烯丙酯樹脂、硅酮樹脂、苯乙烯-丁二烯共聚物、酚醛樹脂、縮丁醛樹脂、亞芐基樹脂(benzal resins)、聚丙烯酸酯、聚甲醛、聚酰胺酰亞胺、聚酰胺、聚烯丙基醚、多芳基化合物(polyarylate)、聚酰亞胺、聚氨酯、聚酯、聚乙烯、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚砜、聚乙烯醇縮醛、聚丁二烯、聚丙烯、甲基丙烯酸類樹脂、脲醛樹脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物和乙酸乙烯酯樹脂等。其中，優(yōu)選縮丁醛樹脂等。這些可單獨(dú)或作為兩種以上的混合物或共聚物使用。電荷產(chǎn)生層中粘結(jié)劑樹脂的比例優(yōu)選為90質(zhì)量％以下，更優(yōu)選50質(zhì)量％以下，相
對于電荷產(chǎn)生層的總質(zhì)量。用于電荷產(chǎn)生層用涂布液中的溶劑的實(shí)例包括有機(jī)溶劑如醇、亞砜、酮、醚、酯、脂肪族鹵代烴和芳香族化合物等。電荷產(chǎn)生層的膜厚度優(yōu)選在0. 001 μ m至6 μ m的范圍內(nèi)，更優(yōu)選在0. 01 μ m至 Iym的范圍內(nèi)。此外，如果需要，可將敏化劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑或增塑劑等添加至電荷產(chǎn)生層。 電荷輸送層可以以涂布通過將電荷輸送材料和粘結(jié)劑樹脂溶解于溶劑中獲得的電荷輸送層用涂布液并將獲得的涂膜干燥和/或固化的方式形成。干燥和固化方法的實(shí)例包括加熱和放射線照射等。電荷輸送材料的實(shí)例包括三芳胺化合物、腙化合物、苯乙烯基化合物、芪化合物、 吡唑啉化合物、噁唑化合物、噻唑化合物和三芳基甲烷化合物等。這些電荷輸送材料可單獨(dú)或組合使用。用于電荷輸送層中的粘結(jié)劑樹脂的實(shí)例包括丙烯酸類樹脂、丙烯腈樹脂、烯丙基樹脂、醇酸樹脂、環(huán)氧樹脂、硅酮樹脂、酚醛樹脂、苯氧基樹脂、縮丁醛樹脂、聚丙烯酰胺、聚甲醛、聚酰胺酰亞胺、聚酰胺、聚烯丙基醚、多芳基化合物、聚酰亞胺、聚氨酯、聚酯、聚乙烯、 聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚砜、聚乙烯醇縮丁醛、聚苯醚、聚丁二烯、聚丙烯、甲基丙烯酸類樹脂、脲醛樹脂、氯乙烯樹脂和乙酸乙烯酯樹脂等。這些中，優(yōu)選多芳基化合物或聚碳酸酯。這些可單獨(dú)或作為兩種以上的混合物或共聚物使用。電荷輸送材料在電荷輸送層中的比例優(yōu)選在20質(zhì)量％ -80質(zhì)量％的范圍內(nèi)，更優(yōu)選在30質(zhì)量％ -70質(zhì)量％的范圍內(nèi)，相對于電荷輸送層的總質(zhì)量。電荷輸送材料和粘結(jié)劑樹脂的比例優(yōu)選在5 1-1 5(質(zhì)量比)的范圍內(nèi)。用于電荷輸送層用涂布液的溶劑的實(shí)例包括有機(jī)溶劑如一氯苯、二噁烷、甲苯、二甲苯、N-甲基吡咯烷酮、二氯甲烷、四氫呋喃和甲縮醛等。此外，如果需要，可將抗氧化劑、紫外線吸收劑或增塑劑等添加至電荷輸送層。出于保護(hù)感光層的目的，可在感光層上設(shè)置保護(hù)層。保護(hù)層可以以涂布通過將上述各種粘結(jié)劑樹脂溶解于溶劑中獲得的保護(hù)層用涂布液并將獲得的涂膜干燥和/或固化的方式形成。干燥和固化方法的實(shí)例包括加熱和放射線照射等。用作電子照相感光構(gòu)件表面層的層可包含潤滑劑。此類潤滑劑的實(shí)例包括含硅原子或氟原子的聚合物、單體和低聚物等。潤滑劑的具體實(shí)例包括N-(正丙基)-Ν-(β-丙烯酰氧乙基)-全氟辛基磺酸酰胺、N-(正丙基)-(β -甲基丙烯酰氧乙基)-全氟辛基磺酸酰胺、全氟辛烷磺酸、全氟辛酸、N-正丙基-正全氟辛烷磺酸酰胺-乙醇、3-(2-全氟己基) 乙氧基-1，2- 二羥基丙烷、N-正丙基-N-2，3- 二羥基丙基全氟辛基磺酰胺等。潤滑劑的進(jìn)一步實(shí)例包括含氟原子樹脂顆粒如聚四氟乙烯、聚氯三氟乙烯、聚偏二氟乙烯、聚二氟二氯乙烯、四氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物、四氟乙烯-六氟丙烯共聚物、四氟乙烯-乙烯共聚物和四氟乙烯-六氟丙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物等。這些潤滑劑可單獨(dú)或組合使用。當(dāng)潤滑劑由樹脂制成時(shí)，其數(shù)均分子量優(yōu)選在3，000-5, 000, 000的范圍內(nèi)，更優(yōu)選在 10，000-3, 000, 000的范圍內(nèi)。當(dāng)潤滑劑由顆粒制成時(shí)，其平均粒徑優(yōu)選在0. 01 μ m-10 μ m 的范圍內(nèi)，更優(yōu)選在0. 05 μ m-2. 0 μ m的范圍內(nèi)。如果需要，可將電阻調(diào)節(jié)劑添加至電子照相感光構(gòu)件的表面層中。此類電阻調(diào)節(jié)劑的實(shí)例包括顆粒如Sn02、ΙΤ0、炭黑或銀等。也可采用已進(jìn)行疏水化處理的電阻調(diào)節(jié)劑。 已添加電阻調(diào)節(jié)劑的表面層的電阻優(yōu)選在109Ω-1014Ω的范圍內(nèi)。當(dāng)設(shè)置保護(hù)層時(shí)，保護(hù)層為電子照相感光構(gòu)件的表面層。當(dāng)不設(shè)置保護(hù)層并且感光層為順層型感光層時(shí)，電荷輸送層為電子照相感光構(gòu)件的表面層。當(dāng)不設(shè)置保護(hù)層并且感光層為逆層型感光層時(shí)，電荷產(chǎn)生層為電子照相感光構(gòu)件的表面層。圖5為示出設(shè)置有具有通過本發(fā)明的涂布設(shè)備生產(chǎn)的電子照相感光構(gòu)件的處理盒的電子照相設(shè)備實(shí)例的示意性構(gòu)造圖。在圖5中，圓筒狀電子照相感光構(gòu)件101圍繞軸102在預(yù)定圓周速度下沿箭頭方向被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)。要被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)的電子照相感光構(gòu)件101的表面借助于充電單元(一次充電單元 充電輥等)103均勻充電以具有預(yù)定的正或負(fù)電位。接著，將從曝光單元(未示出)如狹縫曝光或激光束掃描曝光等輸出的曝光光(圖像曝光光)104照射至電子照相感光構(gòu)件101 表面上。因此，對應(yīng)于目標(biāo)圖像的靜電潛像依次形成于電子照相感光構(gòu)件101表面上。形成于電子照相感光構(gòu)件101表面上的靜電潛像通過顯影單元105的顯影劑中包含的調(diào)色劑顯影從而形成調(diào)色劑圖像。接著，將形成于電子照相感光構(gòu)件101表面上的調(diào)色劑圖像借助于轉(zhuǎn)印單元(如，轉(zhuǎn)印輥)106轉(zhuǎn)印至轉(zhuǎn)印材料(如，紙)P。然后，將轉(zhuǎn)印材料 (如，紙)P從轉(zhuǎn)印材料供給單元(未示出)中與電子照相感光構(gòu)件101旋轉(zhuǎn)同步地取出并進(jìn)給至電子照相感光構(gòu)件101和轉(zhuǎn)印單元106之間的位置(接觸部分)。將其上具有調(diào)色劑圖像的轉(zhuǎn)印材料P從電子照相感光構(gòu)件101的表面分離，并輸送至用于圖像定影的定影單元108從而將作為圖像形成材料(打印件、復(fù)印件)的轉(zhuǎn)印材料P打印到電子照相設(shè)備外。在轉(zhuǎn)印后的電子照相感光構(gòu)件101表面上的殘余顯影劑顆粒(轉(zhuǎn)印后殘余調(diào)色劑顆粒)通過清潔單元(如，清潔刮板)107除去以提供清潔表面。另外，將電子照相感光構(gòu)件101表面通過來自預(yù)曝光單元(未示出)的預(yù)曝光光(未示出)的照射進(jìn)行放電處理， 并以重復(fù)的方式用于圖像形成。如圖5中所示，當(dāng)充電單元103為采用充電輥等的接觸充電單元時(shí)，不必需要預(yù)曝光。在選自電子照相感光構(gòu)件101、充電單元103、顯影單元105、轉(zhuǎn)印單元106和清潔單元107等的組件中，可將多個(gè)組件容納在容器中并一體化配置為處理盒，從而使處理盒可拆卸地安裝至電子照相設(shè)備如復(fù)印機(jī)或激光束打印機(jī)等的主體中。在圖5中，將電子照相感光構(gòu)件101、充電單元103、顯影單元105和清潔單元107 —體化支承作為處理盒109，從而可使用導(dǎo)向單元110如電子照相設(shè)備主體的軌道等將處理盒109可拆卸地安裝至電子照相設(shè)備的主體中。在下文中，將參考實(shí)施例更詳細(xì)地說明本發(fā)明。然而，本發(fā)明不限于此。在以下實(shí)施例中，“份”是指“質(zhì)量份”。(實(shí)施例1-1)將5，000份由以下結(jié)構(gòu)式⑴表示的化合物(電荷輸送材料)、和7，000 份雙酚Z-型聚碳酸酯(粘結(jié)劑樹脂)(商品名=Iupilon Z-200,由Mitsubishi Engineering-Plastics Corporation制造，粘度平均分子量(Mv) :20,000)的混合物溶解在混合溶劑(25，000份一氯苯/12，000份二甲氧基甲烷(甲縮醛))中以制備電荷輸送層用涂布液，所述涂布液的粘度為150mPa · s。
權(quán)利要求
1.一種涂布設(shè)備，其包括 圓筒狀涂布槽，其用于容納涂布液；升降單元，其用于將被涂布體浸漬于所述涂布槽中的涂布液中并從所述涂布液中提升；和循環(huán)器，其用于使所述涂布液循環(huán)從而使所述涂布液超過所述涂布槽的上端部而溢流，其中所述涂布槽的上端部包括第一上端面；第二上端面，其位于所述第一上端面的下方并具有大于所述第一上端面外徑的外徑；和臺階面，其使所述第一上端面和所述第二上端面相互連接，其中所述循環(huán)器能夠在保持所述涂布槽充滿所述涂布液而不會使所述涂布液從所述涂布槽中溢流的同時(shí)使所述循環(huán)暫停，并恢復(fù)所述循環(huán)，以及其中，當(dāng)在所述涂布液的循環(huán)暫停之后恢復(fù)所述涂布液的循環(huán)時(shí)，所述溢流的涂布液在潤濕所述臺階面的全部區(qū)域的同時(shí)沿所述第二上端面流動(dòng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂布設(shè)備，其中所述第二上端面具有使其外周部高于其內(nèi)周部的傾斜。
3.一種電子照相感光構(gòu)件的生產(chǎn)方法，其包括通過浸涂法在被涂布體的表面上形成涂膜的步驟，其中所述浸涂法使用根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂布設(shè)備進(jìn)行。
4.一種電子照相感光構(gòu)件的大規(guī)模生產(chǎn)方法，其包括 (i)提供涂布設(shè)備，所述涂布設(shè)備包括圓筒狀涂布槽，其用于容納涂布液，升降單元，其用于升降用于電子照相感光構(gòu)件的被涂布體，和循環(huán)器，其用于使所述涂布液循環(huán)，( )使用于電子照相感光構(gòu)件的被涂布體下降，將其浸漬于所述涂布液中，然后將其從所述涂布液中提升，用所述循環(huán)器使所述涂布液循環(huán)從而使所述涂布液超過所述涂布槽的上端部而溢流，和(iii)重復(fù)所述步驟(ii)以生產(chǎn)多個(gè)被涂布體， 其中所述涂布槽的上端部包括第一上端面；第二上端面，其位于所述第一上端面的下方并具有大于所述第一上端面外徑的外徑；和臺階面，其使所述第一上端面和所述第二上端面相互連接，和其中所述方法進(jìn)一步包括(iv)在保持所述涂布槽充滿所述涂布液而不會使所述涂布液從所述涂布槽中溢流的同時(shí)，使所述涂布液的循環(huán)暫停；和(ν)恢復(fù)所述循環(huán)以使所述溢流的涂布液在潤濕所述臺階面的全部區(qū)域的同時(shí)沿所述第二上端面流動(dòng)。
全文摘要
提供涂布設(shè)備、電子照相感光構(gòu)件的生產(chǎn)方法和電子照相感光構(gòu)件的大規(guī)模生產(chǎn)方法。提供一種涂布設(shè)備和使用該涂布設(shè)備生產(chǎn)電子照相感光構(gòu)件的方法，所述涂布設(shè)備抑制以下現(xiàn)象即使在涂布液的循環(huán)恢復(fù)后半固態(tài)膜仍滯留在涂布槽的上端邊緣部上，導(dǎo)致涂布缺陷的發(fā)生。所述涂布槽的上端部包括第一上端面；第二上端面，其位于所述第一上端面的下方并具有大于所述第一上端面外徑的外徑；和臺階面，其使所述第一上端面和所述第二上端面相互連接。當(dāng)恢復(fù)循環(huán)時(shí)涂布液能夠從所述涂布槽中溢流，沿第二上端面流動(dòng)，并且在潤濕臺階面的全部區(qū)域的同時(shí)流動(dòng)。
文檔編號B05C11/11GK102375353SQ20111023631
公開日2012年3月14日 申請日期2011年8月16日 優(yōu)先權(quán)日2010年8月17日
發(fā)明者島田明, 川瀨祥二 申請人:佳能株式會社