專利名稱：涂敷裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及涂敷裝置，尤其是涉及在連續(xù)行進(jìn)的板(帶狀支承體)上 涂敷涂敷液，從而形成均勻厚度的涂敷膜面的涂敷裝置。
背景技術(shù)：
在照相感光材料和磁記錄介質(zhì)等領(lǐng)域中，采用了在連續(xù)行進(jìn)的帶狀的 撓性支承體(以下，稱為"板")上涂敷規(guī)定的涂敷液從而形成涂敷膜的 涂敷工藝。近年來，在這些領(lǐng)域，正在尋求能夠得到涂敷膜的厚度精度高、 并且表面平滑且沒有涂敷不均的涂敷膜的涂敷技術(shù)。同樣地，在應(yīng)用于光學(xué)補(bǔ)償膜、反射防止膜、防眩性膜等具有各種 機(jī)能的光學(xué)膜的制造的涂敷工藝中，也在尋求如上所述的涂敷技術(shù)。作為在板面上涂敷涂敷液的涂敷裝置，例如，有輥式涂敷型、凹板式 涂敷型、輥式刮刀涂敷型、反轉(zhuǎn)輥式涂敷型、擠出型、滑動(dòng)涂敷型等，現(xiàn) 狀是根據(jù)用途靈活運(yùn)用這些裝置。就它們中的任一涂敷裝置而言，為得到涂敷膜的厚度精度高、并且表 面平滑且沒有涂敷不均的涂敷膜，重要的是消除涂敷時(shí)的振動(dòng)。作為消除涂敷時(shí)的振動(dòng)的方法，在專利文獻(xiàn)1中公示有將有源型除振裝置應(yīng)用于涂敷部的方法。另外，在專利文獻(xiàn)2中，公示有通過向涂敷頭 給予振動(dòng)，而將板和涂敷頭的距離保持在恒定的涂敷裝置。專利文獻(xiàn)1:特開2005-319385號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2:特幵2004-89896號(hào)公報(bào)但是，在專利文獻(xiàn)1及專利文獻(xiàn)2中，盡管可以將板和涂敷頭的距離 保持在恒定，但是不能抑制涂敷液的彎液面振動(dòng)，因此，不能充分消除引 起涂敷不均的振動(dòng)，有可能會(huì)產(chǎn)生涂敷不均。另外，擠出型涂敷頭9如圖 5所示，兩個(gè)出口唇部(上唇)3和入口唇部(下唇)6以保持間隙的方式對(duì)峙而形成狹縫7，內(nèi)部具有與該狹縫7連結(jié)在一起的液體存儲(chǔ)部8。而 且，涂敷液經(jīng)由連結(jié)的狹縫7，由狹縫前端5噴出。g卩，擠出型涂敷頭9 以將板2和涂敷頭9的距離保持在恒定間隔的方式設(shè)定狹縫前端5和支承 輥1間的距離，但是，在涂敷時(shí)可能會(huì)在涂敷液液珠4的彎液面4a引起 振動(dòng)而產(chǎn)生涂敷不均。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明是鑒于以上情況而開發(fā)的，其目的在于提供一種涂敷裝置，能 夠得到膜的厚度精度高、而且表面平滑且沒有涂敷不均的涂敷膜。為達(dá)到上述目的，本發(fā)明第一方面提供一種涂敷裝置，其具備支承 輥部，其具有以外周面支承沿長(zhǎng)度方向行進(jìn)的長(zhǎng)條狀的板的支承輥；涂敷 液供給部，其以一定間隔的間隙與支承輥對(duì)置配置，向板供給涂敷液，通 過在所述間隙形成的所述涂敷液的液珠進(jìn)行涂敷，其特征在于，所述涂敷 液供給部和所述支承輥部雙方支承在一個(gè)架臺(tái)上，且該架臺(tái)固定于有源型 除振裝置上。根據(jù)本發(fā)明的第一方面，在有源除振裝置上固定有支承著涂敷液供給 部和支承輥部的架臺(tái)，因此可以抑制各種振動(dòng)，能夠抑制涂敷液的彎液面 振動(dòng)，因此不易對(duì)涂敷膜造成不良影響。其結(jié)果是，能夠得到膜的厚度精 度高、并且表面平滑且沒有涂敷不均的涂敷膜。另外，所謂的有源除振裝置也稱為能動(dòng)除振裝置，與使用了層疊橡膠、 空氣彈簧等的通常除振裝置(所謂的無源除振裝置)不同，是通過使用空 壓式、機(jī)械式、液壓式等促動(dòng)器進(jìn)行反饋控制、或反饋控制及前饋控制， 從而有源地進(jìn)行除振的裝置。另外，被涂敷物體即長(zhǎng)條狀的板通常大多是帶狀的撓性支承體(板)， 帶狀的板狀體例如玻璃基板、硅片等也可以應(yīng)用本發(fā)明，能夠得到同樣的 效果。本發(fā)明的第二方面是在本發(fā)明第一方面的基礎(chǔ)上提供一種涂敷裝置， 其特征在于，所述有源型除振裝置是根據(jù)傳感器檢測(cè)出的振動(dòng)成分進(jìn)行反 饋控制，使促動(dòng)器進(jìn)行工作，從而有源地進(jìn)行除振的裝置。根據(jù)本發(fā)明的第二方面，只要是對(duì)傳感器檢測(cè)出的振動(dòng)成分進(jìn)行反饋控制而使促動(dòng)器工作，從而有源地進(jìn)行除振的結(jié)構(gòu)的有源除振裝置，就能 夠抑制各種振動(dòng)，不易對(duì)涂敷膜造成不良影響。本發(fā)明的第三方面是在本發(fā)明第一方面的基礎(chǔ)上提供一種涂敷裝置， 其特征在于，所述有源型除振裝置是根據(jù)傳感器檢測(cè)出的振動(dòng)成分進(jìn)行反 饋控制及前饋控制，使促動(dòng)器進(jìn)行工作，從而有源地進(jìn)行除振的裝置。根據(jù)本發(fā)明的第三方面，只要是對(duì)傳感器檢測(cè)出的振動(dòng)成分進(jìn)行反饋 控制及前饋控制而使促動(dòng)器工作，從而有源地進(jìn)行除振的結(jié)構(gòu)的有源除振 裝置，就能夠進(jìn)一步抑制各種振動(dòng)，不易對(duì)涂敷膜造成不良影響。本發(fā)明的第四方面是在本發(fā)明第一方面或第二方面的基礎(chǔ)上提供一 種涂敷裝置，其特征在于，所述架臺(tái)的一次固有振動(dòng)頻率為80Hz以上。將架臺(tái)的一次固有振動(dòng)頻率設(shè)定為80Hz以上時(shí)，在有勵(lì)振時(shí)涂敷裝置強(qiáng)烈振動(dòng)的頻率范圍成為該一次固有振動(dòng)頻率的頻率范圍。而且，在涂 敷時(shí)產(chǎn)生的階段不均等節(jié)距與該頻率相對(duì)應(yīng)。但是，光學(xué)膜(光學(xué)補(bǔ)償膜、 反射防止膜等)的涂敷膜，只要是該頻率，就不易產(chǎn)生階段不均，不易對(duì) 涂敷膜造成不良影響。因此，根據(jù)本發(fā)明的第四方面，能夠得到表面平滑且沒有涂敷不均的 涂敷膜。另外，為了避免共振，架臺(tái)的一次固有振動(dòng)頻率優(yōu)選為80Hz以上， 更優(yōu)選為100Hz以上，進(jìn)一步優(yōu)選為120Hz以上。本發(fā)明的第五方面是在本發(fā)明第一至四方面中任一方面的基礎(chǔ)上提 供一種涂敷裝置，其特征在于，設(shè)置所述涂敷裝置的地板面的一次固有振 動(dòng)頻率設(shè)定為10Hz以上。在使用了有源除振裝置的情況下，地板面的一次固有振動(dòng)頻率小于 10Hz時(shí)，幾乎不能得到除振效果。例如，振動(dòng)頻率為100Hz的振動(dòng)時(shí)， 能夠衰減至約1/100，但是，為振動(dòng)頻率小于10Hz的振動(dòng)時(shí)，只能得到很 少的衰減效果。其意味著，設(shè)置涂敷裝置的地板面的一次固有振動(dòng)頻率優(yōu) 選是10Hz以上，更優(yōu)選是20Hz以上，進(jìn)一步優(yōu)選是30Hz以上。因此，根據(jù)本發(fā)明的第五方面，能夠得到表面平滑且沒有涂敷不均的 涂敷膜。本發(fā)明的第六方面是在本發(fā)明第一至五方面中任一方面的基礎(chǔ)上提供一種涂敷裝置，其特征在于，所述支承輥前后的引導(dǎo)輥的一次固有振動(dòng)頻率為20Hz以上。在支承輥前后的引導(dǎo)輥的一次固有振動(dòng)頻率設(shè)定為20Hz以下的情況 下，在引導(dǎo)輥上有振動(dòng)輸入時(shí)發(fā)生強(qiáng)烈振動(dòng)的頻率范圍成為該一次固有振 動(dòng)頻率的頻率范圍。這時(shí)，所述引導(dǎo)輥的振動(dòng)在板上傳遞并輸入支承輥時(shí)， 架臺(tái)發(fā)生振動(dòng)，且和有源除振裝置的固有振動(dòng)頻率引起共振。于是，為了 避免共振，引導(dǎo)輥的一次固有振動(dòng)頻率優(yōu)選是20Hz以上，更優(yōu)選是30Hz 以上，進(jìn)一步優(yōu)選是50Hz以上。根據(jù)本發(fā)明的第六方面，能夠得到表面平滑且沒有涂敷不均的涂敷膜。本發(fā)明的第七方面是在本發(fā)明第一至六方面中任一方面的基礎(chǔ)上提 供一種涂敷裝置，其特征在于，從所述架臺(tái)的底面至所述支承輥的中心的 高度H為1500mm以下。從架臺(tái)的底面至支承輥的中心的高度H越長(zhǎng)，相對(duì)于板的張力變動(dòng)越 容易產(chǎn)生力矩，因此涂敷裝置的振動(dòng)越大。為了抑制該振動(dòng)，從架臺(tái)的底 面至支承輥的中心的高度H優(yōu)選是1500mm以下，更優(yōu)選是1250mm以下， 進(jìn)一步優(yōu)選是1000mm以下。根據(jù)本發(fā)明的第七方面，能夠得到膜的厚度精度高、而且表面平滑且 沒有涂敷不均的涂敷膜。本發(fā)明的第八方面是在本發(fā)明第一至七方面的任一方面的基礎(chǔ)上提 供一種涂敷裝置，其特征在于，所述架臺(tái)的所述板輸送方向的寬度L為 750mm以上。相對(duì)于板的張力變動(dòng)，涂敷裝置引起搖擺振動(dòng)(圍繞與板行進(jìn)方向軸 和重力方向軸垂直的軸的振動(dòng))。為抑制該振動(dòng)，架臺(tái)的所述板輸送方向 的寬度L優(yōu)選是750mm以上，更優(yōu)選是1000mm以上，進(jìn)一步優(yōu)選是 1500mm以上。根據(jù)本發(fā)明的第八方面，能夠得到膜的厚度精度高、而且表面平滑且 沒有涂敷不均的涂敷膜。如以上說明所述，根據(jù)本發(fā)明，能夠消除起因于板的涂敷裝置的振動(dòng)， 能夠?qū)崿F(xiàn)可以得到膜的厚度精度高、而且表面平滑且沒有涂敷不均的涂敷膜的涂敷裝置。


圖1是說明應(yīng)用本發(fā)明的涂敷裝置的光學(xué)補(bǔ)償片的制造線的說明圖;圖2是表示設(shè)置了涂敷裝置的狀態(tài)的立體圖；圖3是將涂敷頭的局部剖開后的立體圖；圖4是說明有源型除振裝置的系統(tǒng)構(gòu)成的概念圖；圖5是說明擠出型涂敷頭的概念圖。符號(hào)說明10、涂敷裝置14、 引導(dǎo)輥15、 支柱16、 板17、 引導(dǎo)輥18、 涂敷頭(涂敷液供給部) 20、支承輥2、支承輥部 28、涂敷膜30、 架臺(tái)31、 涂敷頭架臺(tái)32、 有源除振裝置33、 42、促動(dòng)器 66、送出機(jī)68、引導(dǎo)輥 76、干燥區(qū)域 78、加熱區(qū)域 80、紫外線燈 82、巻繞機(jī)具體實(shí)施方式
下面，根據(jù)

本發(fā)明的涂敷裝置的具體實(shí)施方式
。 圖1是說明應(yīng)用本發(fā)明的涂敷裝置的優(yōu)選一例即光學(xué)補(bǔ)償片的制造線 的說明圖。光學(xué)補(bǔ)償片的制造線如圖1所示構(gòu)成為，由送出機(jī)66送出事先形成 有取向膜形成用的聚合物層的透明支承體即板16。板16由引導(dǎo)輥68引導(dǎo) 后送入研磨處理裝置70。研磨輥72是為了在聚合物層上實(shí)施研磨處理而 設(shè)置的。在其下游配置有設(shè)置于有源型除振裝置32上的涂敷裝置10。含有盤 狀向列型液晶的涂敷液能夠涂敷于板16上。在其下游依次設(shè)置有干燥區(qū) 域76、加熱區(qū)域78，在板16上能夠形成液晶層。另外，在其下游設(shè)置有 紫外線燈80，通過紫外線照射可以使液晶交聯(lián)，從而可以形成所希望的聚 合物。而且，通過設(shè)置于其下游的巻繞機(jī)82，可以巻繞形成有聚合物的板 16。如圖2所示，涂敷裝置10包括將通過泵等自涂敷液容器輸送來的涂敷液涂敷于板16上的涂敷液供給部(以下，稱為涂敷頭)18、與涂敷 頭18對(duì)置配置且以外周面支承涂敷時(shí)的板16的圓筒狀支承輥20、通過軸 承19保持支承輥20的旋轉(zhuǎn)軸使其旋轉(zhuǎn)自如的支柱15、為了引導(dǎo)在支承輥 20上行進(jìn)的板16而自涂敷頭18及支承輥20隔開規(guī)定的間隔而配置的引 導(dǎo)輥14。另外，由支承輥20、軸承19及支柱15構(gòu)成支承輥部。涂敷裝 置10的涂敷頭18和保持支承輥20的旋轉(zhuǎn)軸的支柱15固定于由后述的有 源型除振裝置32的促動(dòng)器33支承的架臺(tái)30上。另外，在圖2中，涂敷 頭18通過涂敷頭架臺(tái)31固定于架臺(tái)30上。為了能夠優(yōu)化調(diào)整涂敷于板16上的涂敷液的種類和涂敷液的膜厚， 支承輥20和涂敷頭18以可以調(diào)整兩者的間隔的方式可移動(dòng)。因此，所謂 固定于架臺(tái)30上，意思是在對(duì)板16的涂敷中，支承輥20和涂敷頭18以 保持規(guī)定間隔的方式設(shè)置于架臺(tái)30上。下面，對(duì)涂敷裝置10進(jìn)行的涂敷方法進(jìn)行說明。板16從送出機(jī)送出 并通過引導(dǎo)輥14導(dǎo)入支承輥20。導(dǎo)入的板16巻繞在支承輥20的外周面 的一部分上。板16向圖示箭頭方向以一定的速度連續(xù)地行進(jìn)。這時(shí)，支 承輥20邊旋轉(zhuǎn)邊支承板16的非涂膜面。在支承輥20的上游側(cè)配置有引導(dǎo)輥14。引導(dǎo)輥14將其旋轉(zhuǎn)軸保持于 未圖示的支柱等上。保持引導(dǎo)輥14的旋轉(zhuǎn)軸的支柱設(shè)置于和由促動(dòng)器33 支承的架臺(tái)30不同的另一架臺(tái)上。在板i6的行進(jìn)中，引導(dǎo)輥14邊旋轉(zhuǎn) 邊支承板16，以將板16引導(dǎo)至支承輥20上的方式發(fā)揮功能。涂敷頭18以涂敷頭前端和連續(xù)行進(jìn)的板16接近且非接觸的狀態(tài)對(duì)置 配置。如上所述，以可以調(diào)整涂敷頭18和板16的間隔的方式構(gòu)成。涂敷 頭18利用泵從涂敷液容器輸送液體。雖未圖示，但是作為泵，從涂敷液 的供給流量的穩(wěn)定化方面考慮，優(yōu)選使用定量泵。作為定量泵，例如可以 使用齒輪泵、滾柱泵等各種泵。在涂敷頭18內(nèi)，如圖3所示，筒狀的口袋部18B與板16的寬度方向 平行地形成。該涂敷用的口袋部18B與供給線18A連接。另外，在涂敷 頭18內(nèi)，在涂敷頭前端形成有具有排出口的涂敷用狹縫18C。涂敷用狹 縫18C與涂敷用口袋部18B連通。涂敷用狹縫18C是連接口袋部18B和涂敷頭前端的狹窄的流路，且在 板16的寬度方向延伸。而且，向板16上進(jìn)行涂敷的所希望的涂敷量的涂 敷液由供給線18A供給到涂敷頭18的涂敷用口袋部18B，從而在板16上 形成涂敷膜。涂敷了涂敷液的板16被送出至設(shè)置于下游的干燥區(qū)域、加熱區(qū)域， 之后，在板16上形成液晶層。另外，雖圖示了省略，但控制板16的張力 的張力輥及控制板16的輸送的驅(qū)動(dòng)輥設(shè)置于光學(xué)補(bǔ)償片的制造線上。下面，通過圖2對(duì)有關(guān)設(shè)置有支承上述的涂敷裝置10及支承輥部21 的架臺(tái)30的有源型除振裝置32的結(jié)構(gòu)進(jìn)行說明。在該結(jié)構(gòu)中，涂敷頭18 及支承輥部21固定于架臺(tái)30上。如上所述，涂敷頭18通過涂敷頭架臺(tái) 31固定于架臺(tái)30上。另外，支承輥部21也固定于架臺(tái)30上。該架臺(tái)30因板16的寬度等成為大型尺寸的架臺(tái)，例如，總重量為6.5 噸重。對(duì)于固定于這樣的架臺(tái)30上的涂敷頭18及支柱15，通過配置有源 型除振裝置32的促動(dòng)器33、 33、…，能夠抑制各種振動(dòng)，從而不易對(duì)涂 敷膜造成不良影響。圖4是說明有源型除振裝置32的系統(tǒng)構(gòu)成的概念圖。在有源型除振 裝置32的基座40上通過空氣促動(dòng)器42支承有載荷承受部44。另外，在本發(fā)明中，促動(dòng)器只要可以消除振動(dòng)，就不局限于空氣彈簧，也可以是液 壓式、機(jī)械式等促動(dòng)器。在該載荷承受部44上固定有可檢測(cè)加速度的加速度傳感器46，另外，在基座40和載荷承受部44之間設(shè)置有可測(cè)定載荷 承受部44的變位的變位傳感器48，另外，在基座40上也固定有可檢測(cè)加 速度的加速度傳感器50。載荷承受部44的控制通過用伺服閥54調(diào)節(jié)由空氣源52供給的壓縮 空氣的流量并供給至空氣促動(dòng)器42來進(jìn)行。來自加速度傳感器46的信號(hào) 通過振動(dòng)控制裝置56反饋給該伺服閥54，另外，來自變位傳感器48的信 號(hào)通過位置控制裝置58反饋給該伺服閥54。還有，前文所述的加速度傳 感器50使用于前饋控制。在向這種系統(tǒng)施加干擾F時(shí)，以質(zhì)量M、衰減Z、彈簧K為代表的控 制對(duì)象被空氣促動(dòng)器42控制，在除去來自地板的振動(dòng)的同時(shí)，對(duì)于施加 于載荷承受部44的干擾F也具有制振效果，從而構(gòu)成能動(dòng)除振系統(tǒng)。其結(jié)果為，能夠得到膜厚度精度高、而且表面平滑且沒有涂敷不均的 涂敷膜。下面，對(duì)架臺(tái)30的一次固有振動(dòng)頻率優(yōu)選為80Hz以上的理由進(jìn)行說 明。為了抑制在涂敷時(shí)的振動(dòng)，使得不易對(duì)涂敷膜造成不良影響，優(yōu)選極 力抑制架臺(tái)30的振動(dòng)加速度。這時(shí)，即使架臺(tái)30的一次固有振動(dòng)頻率小 于80Hz，也可以減小振動(dòng)加速度。將架臺(tái)30的一次固有振動(dòng)頻率設(shè)定為 80Hz以上時(shí)，在有勵(lì)振時(shí)涂敷裝置10強(qiáng)烈振動(dòng)的頻率范圍成為該一次固 有振動(dòng)頻率的頻率范圍。而且，在涂敷時(shí)產(chǎn)生的階段不均等節(jié)距與該頻率 相對(duì)應(yīng)。但是，光學(xué)膜(光學(xué)補(bǔ)償膜、反射防止膜等)的涂敷膜，只要是 該頻率，就不易產(chǎn)生階段不均，不易對(duì)涂敷膜造成不良影響。因此，架臺(tái) 30的一次固有振動(dòng)頻率更優(yōu)選是100Hz以上，進(jìn)一步優(yōu)選是120Hz以上。另外，支承輥20前后的引導(dǎo)輥14、17的一次固有振動(dòng)頻率優(yōu)選是20Hz 以上(參照?qǐng)Dl)。由于支承輥20前后的引導(dǎo)輥14、 17的一次固有振動(dòng)頻 率為20Hz以上，因此能夠得到表面平滑且沒有涂敷不均的涂敷膜。另外， 為了避免共振，引導(dǎo)輥的一次固有振動(dòng)頻率優(yōu)選是20Hz以上，更優(yōu)選是 30Hz以上，進(jìn)一步優(yōu)選是50Hz以上。另外，在本發(fā)明中，從架臺(tái)30的底面至支承輥20的中心的高度H(參照?qǐng)D1)優(yōu)選是1500mm以下。從架臺(tái)的底面至支承輥的中心的高度H越 長(zhǎng)，相對(duì)于板的張力變動(dòng)越容易產(chǎn)生力矩，因此涂敷裝置的振動(dòng)越大。為 了抑制該振動(dòng)，從架臺(tái)的底面至支承輥的中心的高度H優(yōu)選是1500mm以 下，更優(yōu)選是1250mm以下，進(jìn)一步優(yōu)選是1000mm以下。而且，在本發(fā)明中，架臺(tái)30的板輸送方向的寬度L (參照?qǐng)D1)優(yōu)選 是750mm以上。相對(duì)于板的張力變動(dòng)，涂敷裝置引起擺動(dòng)振動(dòng)(圍繞與 板行進(jìn)方向軸和重力方向軸垂直的軸的振動(dòng))。為了抑制該振動(dòng)，架臺(tái)的 所述板輸送方向的寬度L優(yōu)選是750mm以上，更優(yōu)選是1000mm以上， 進(jìn)一步優(yōu)選是1500mm以上。通過設(shè)定這樣的H及/或L的范圍，能夠得到膜的厚度精度進(jìn)一步提 高、并且表面平滑且沒有涂敷不均的涂敷膜。對(duì)使用了涂敷裝置10的涂敷膜的形成進(jìn)行說明。作為涂敷液，例如 可以使用粘度為10mPa，s以下、含有有機(jī)溶劑的物質(zhì)。但是，也可以使 用其以外粘度的、不含有有機(jī)溶劑的物質(zhì)。作為板16，通?？墒褂糜梢?guī)定寬度、規(guī)定長(zhǎng)度、厚度為2 200ym左 右的聚對(duì)苯二甲酸乙二酯(PET)、聚乙烯-2， 6-萘、纖維素雙醋酸酯、纖 維素三醋酸酯、纖維素醋酸丙酸酯、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚碳酸酯、 聚酰亞胺、聚酰胺等的塑料膜、紙、涂敷或?qū)訅河芯垡蚁?、聚丙烯、乙?-丁烯共聚物等碳原子數(shù)為2~10的a-聚烯烴類的紙、金屬板等構(gòu)成的撓性 帶狀物或?qū)⒃搸钗镒鳛榛w材料而在其表面形成有加工層的帶狀物。在圖1的光學(xué)補(bǔ)償板的制造線中，由送出機(jī)66送出板16，同時(shí)控制 泵的流量以使涂敷裝置10的涂敷頭18的狹縫18C中的涂敷液的平均流速 達(dá)到100 500mm/秒，另外，控制板16的輸送速度而進(jìn)行涂敷，以使剛涂 敷的涂敷膜28的膜厚成為規(guī)定的厚度。在涂敷后的干燥等中，以可以得到涂敷膜的厚度精度高、且表面平滑 的涂敷膜28的方式進(jìn)行干燥區(qū)域76、加熱區(qū)域78、紫外線燈80等的設(shè) 定。涂敷、干燥后的板16被巻繞機(jī)82巻繞。上述一系列的工序優(yōu)選在良好的無塵度及最適當(dāng)?shù)臏貪穸鹊沫h(huán)境下 實(shí)施。因此，優(yōu)選在無塵室內(nèi)進(jìn)行，尤其涂敷裝置10優(yōu)選設(shè)置于等級(jí)為 100以下的環(huán)境下。以上，對(duì)本發(fā)明的涂敷裝置的實(shí)施方式進(jìn)行了說明，但是，本發(fā)明不 局限于上述的實(shí)施方式，可以采取各種方式。例如，在本實(shí)施例中，作為涂敷裝置10采用了擠出型的涂敷機(jī)，但 是，也可以應(yīng)用除此以外的涂敷機(jī)，例如，棒式涂敷機(jī)(也稱為"桿式涂 敷機(jī)"、也包括邁耶棒式涂敷機(jī))、凹版式涂敷機(jī)(直接凹版式涂敷機(jī)、凹 板接觸式涂敷機(jī)等)、輥式涂敷機(jī)(自動(dòng)輥式涂敷機(jī)、逆轉(zhuǎn)輥式涂敷機(jī)等)、 金屬型涂敷機(jī)、噴射式涂敷機(jī)、滑動(dòng)料斗等。另外，作為涂敷裝置10的用途，不但用于光學(xué)補(bǔ)償膜等光學(xué)膜，而 且可以適用于各種涂敷。
權(quán)利要求
1、一種涂敷裝置，其具備支承輥部，其具有以外周面支承沿長(zhǎng)度方向行進(jìn)的長(zhǎng)條狀的板的支承輥；涂敷液供給部，其以一定間隔的間隙與支承輥對(duì)置配置，向板供給涂敷液，通過在所述間隙形成的所述涂敷液的液珠進(jìn)行涂敷，所述涂敷裝置的特征在于，所述涂敷液供給部和所述支承輥部雙方支承在一個(gè)架臺(tái)上，且該架臺(tái)固定于有源型除振裝置上。
2、 如權(quán)利要求1所述的涂敷裝置，其特征在于， 所述有源型除振裝置是根據(jù)傳感器檢測(cè)出的振動(dòng)成分進(jìn)行反饋控制，使促動(dòng)器進(jìn)行工作，從而有源地進(jìn)行除振的裝置。
3、 如權(quán)利要求1所述的涂敷裝置，其特征在于，所述有源型除振裝置是根據(jù)傳感器檢測(cè)出的振動(dòng)成分進(jìn)行反饋控制 及前饋控制，使促動(dòng)器進(jìn)行工作，從而有源地進(jìn)行除振的裝置。
4、 如權(quán)利要求1~3中任一項(xiàng)所述的涂敷裝置，其特征在于， 所述架臺(tái)的一次固有振動(dòng)頻率為80Hz以上。
5、 如權(quán)利要求1 4中任一項(xiàng)所述的涂敷裝置，其特征在于， 設(shè)置所述涂敷裝置的地板面的一次固有振動(dòng)頻率設(shè)定為10Hz以上。
6、 如權(quán)利要求1~5中任一項(xiàng)所述的涂敷裝置，其特征在于， 所述支承輥前后的引導(dǎo)輥的一次固有振動(dòng)頻率為20Hz以上。
7、 如權(quán)利要求1 6中任一項(xiàng)所述的涂敷裝置，其特征在于， 從所述架臺(tái)的底面至所述支承輥的中心的高度H為1500mm以下。
8、 如權(quán)利要求1 7中任一項(xiàng)所述的涂敷裝置，其特征在于， 所述架臺(tái)的所述板輸送方向的寬度L為750mm以上。
全文摘要
本發(fā)明提供一種涂敷裝置，其能夠得到膜的厚度精度高、而且表面平滑且沒有涂敷不均的涂敷膜。該涂敷裝置具備支承輥部(21)，其具有以外周面支承沿長(zhǎng)度方向行進(jìn)的長(zhǎng)條狀的板(16)的支承輥20；涂敷液供給部18，其以一定間隔的間隙和支承輥(20)對(duì)置配置，向板(16)供給涂敷液，通過在所述間隙形成的所述涂敷液的液珠進(jìn)行涂敷，其中，在一個(gè)架臺(tái)(30)上支承涂敷液供給部(18)和支承輥部(21)雙方，將架臺(tái)(30)固定于有源型除振裝置(32)上。
文檔編號(hào)B05C11/02GK101274315SQ20081008787
公開日2008年10月1日 申請(qǐng)日期2008年3月27日 優(yōu)先權(quán)日2007年3月30日
發(fā)明者長(zhǎng)谷川昌孝 申請(qǐng)人:富士膠片株式會(huì)社