一種錫槽平板玻璃污染減緩裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及平板玻璃生產(chǎn)領(lǐng)域，特別是涉及一種錫槽平板玻璃污染減緩裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]在平板玻璃浮法工藝中，錫槽為盛裝錫液的成形設(shè)備。當(dāng)熔融的玻璃液進(jìn)入錫槽后，會(huì)在錫液上漂浮、攤平而成形。由于錫液易氧化，故生產(chǎn)時(shí)須向錫槽內(nèi)注入由氫氣與氮?dú)饣旌系谋Ｗo(hù)氣體，用以消耗和隔絕氧氣。而在實(shí)際使用中，總會(huì)有少量氧氣滲入錫槽內(nèi)，使少量錫液被氧化，并產(chǎn)生氧化亞錫(SnO)氣體，當(dāng)混有氧化亞錫氣體成分的保護(hù)氣體溫度降至870°C以下后，氧化亞錫氣體會(huì)凝結(jié)為錫化合物的固體粉末狀，稱為錫灰，錫灰一旦錫灰脫落到玻璃帶上，就會(huì)產(chǎn)生光畸變點(diǎn)，形成污染點(diǎn)，影響產(chǎn)品的品質(zhì)。故而，目前常采用交替加壓減壓的方式，對(duì)錫槽進(jìn)行定時(shí)清掃，使錫灰集中脫落，造成平板玻璃的集中污染。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型的目的在于解決現(xiàn)有技術(shù)下錫灰易落在玻璃帶上、需要頻繁地進(jìn)行清掃的技術(shù)問(wèn)題，而提供一種錫槽平板玻璃污染減緩裝置。
[0004]本實(shí)用新型的目的是通過(guò)以下技術(shù)方案予以實(shí)現(xiàn)的:
[0005]一種錫槽平板玻璃污染減緩裝置，包括側(cè)壁、頂蓋和外殼，其中側(cè)壁與頂蓋、外殼之間設(shè)有進(jìn)氣腔，進(jìn)氣腔通過(guò)管道與保護(hù)氣源連通，所述頂蓋由一組頂蓋磚組合構(gòu)成，每個(gè)頂蓋磚均通過(guò)吊掛連接件與外殼連接，頂蓋磚之間留有縫隙，供保護(hù)氣體注入，其特征在于相鄰頂蓋磚之間設(shè)有主集塵塊，主集塵塊上端設(shè)有第一開(kāi)口槽，第一開(kāi)口槽與所述的相鄰頂蓋磚之間的縫隙相互對(duì)齊、連通，在第一開(kāi)口槽底部沿其長(zhǎng)度方向均布一排第一通孔，第一通孔水平貫穿第一開(kāi)口槽，沿主集塵塊長(zhǎng)度方向在其下端兩側(cè)分別設(shè)有第一外延凸臺(tái)。
[0006]所述頂蓋磚和側(cè)壁之間設(shè)有副集塵塊，副集塵塊一側(cè)設(shè)有第二開(kāi)口槽，第二開(kāi)口槽與所述的頂蓋磚和側(cè)壁之間的縫隙相互平齊、連通，第二開(kāi)口槽底部沿其長(zhǎng)度方向均布一排第二通孔，第二通孔水平貫穿第二開(kāi)口槽，沿副集塵塊長(zhǎng)度方向在其另一側(cè)下端設(shè)有第二外延凸臺(tái)。
[0007]所述主集塵塊和副集塵塊的材質(zhì)與頂蓋磚的材質(zhì)一致，都是耐火材料磚制成的，其中主集塵塊為工字型、副集塵塊為凹字型。
[0008]本實(shí)用新型的有益效果在于結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、制造成本低廉，通過(guò)承接錫槽內(nèi)錫灰，來(lái)延長(zhǎng)錫槽的清掃周期，減緩了錫灰對(duì)產(chǎn)品造成的污染。
[0009]下面便結(jié)合【附圖說(shuō)明】和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說(shuō)明。
【附圖說(shuō)明】
[0010]圖1為本實(shí)用新型主剖結(jié)構(gòu)示意圖；
[0011]圖2為主集塵塊的立體結(jié)構(gòu)示意圖；
[0012]圖3為副集塵塊的立體結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0013]如圖1所示，為本實(shí)用新型提供的一種錫槽平板玻璃污染減緩裝置，包括側(cè)壁2、頂蓋3和外殼1，其中側(cè)壁2與頂蓋3、外殼I之間設(shè)有進(jìn)氣腔la，進(jìn)氣腔通過(guò)管道5與保護(hù)氣源連通，所述頂蓋3由一組頂蓋磚3a組合構(gòu)成，每個(gè)頂蓋磚3a均通過(guò)吊掛連接件4與外殼I連接，頂蓋磚3之間留有縫隙，供保護(hù)氣體注入，所述相鄰頂蓋磚4之間設(shè)有工字型的主集塵塊6，主集塵塊上端設(shè)有第一開(kāi)口槽6a，第一開(kāi)口槽6a與所述的相鄰頂蓋磚3a之間的縫隙相互對(duì)齊、連通，在第一開(kāi)口槽6a底部沿其長(zhǎng)度方向均布一排第一通孔6b，第一通孔6b水平貫穿第一開(kāi)口槽6a，沿主集塵塊6長(zhǎng)度方向在其下端兩翼分別設(shè)有第一外延凸臺(tái)6c ;所述頂蓋磚3a和側(cè)壁2之間設(shè)有凹字型的副集塵塊7，副集塵塊7 —側(cè)設(shè)有第二開(kāi)口槽7a，第二開(kāi)口槽7a與所述的頂蓋磚3a和側(cè)壁2之間的縫隙相互平齊、連通，第二開(kāi)口槽7a底部沿其長(zhǎng)度方向均布一排第二通孔7b，第二通孔7b水平貫穿第二開(kāi)口槽7a，沿副集塵塊長(zhǎng)度方向在其另一側(cè)下端設(shè)有第二外延凸臺(tái)7c。
[0014]在生產(chǎn)時(shí)，保護(hù)氣體經(jīng)管道5注入進(jìn)氣腔Ia中，進(jìn)氣腔中的保護(hù)氣體會(huì)從頂蓋磚3a之間的縫隙、頂蓋磚3a與側(cè)壁2之間的縫隙進(jìn)入主集塵塊6的第一開(kāi)口槽6a、副集塵塊7的第二開(kāi)口槽7a中，再?gòu)牡谝婚_(kāi)口槽6a經(jīng)第一通孔6b注入錫槽空間內(nèi)、從第二開(kāi)口槽7a經(jīng)第二通孔7b注入錫槽空間內(nèi)，當(dāng)保護(hù)氣體從第一通孔6b、第二通孔7b注入錫槽時(shí)，低溫的保護(hù)氣體會(huì)使高溫的氧化亞錫氣體在注入口處凝結(jié)成固體粉末，固體粉末脫落時(shí)，受第一外延凸臺(tái)6c、第二外延凸臺(tái)7c的阻擋，固體粉末就不會(huì)脫落到平板玻璃上，從而可大大延長(zhǎng)錫槽進(jìn)行定時(shí)清掃的周期。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種錫槽平板玻璃污染減緩裝置，包括側(cè)壁(2)、頂蓋(3)和外殼(I )，其中側(cè)壁(2)與頂蓋(3)、外殼(I)之間設(shè)有進(jìn)氣腔(la)，進(jìn)氣腔通過(guò)管道(5)與保護(hù)氣源連通，所述頂蓋(3)由一組頂蓋磚(3a)組合構(gòu)成，每個(gè)頂蓋磚均通過(guò)吊掛連接件(4)與外殼連接，相鄰頂蓋磚(3)之間留有縫隙，供保護(hù)氣體注入，其特征在于相鄰頂蓋磚之間設(shè)有主集塵塊(6)，主集塵塊上端設(shè)有第一開(kāi)口槽(6a)，第一開(kāi)口槽與所述的相鄰頂蓋磚之間的縫隙相互對(duì)齊、連通，在第一開(kāi)口槽底部沿其長(zhǎng)度方向均布一排第一通孔(6b)，第一通孔水平貫穿第一開(kāi)口槽，沿主集塵塊長(zhǎng)度方向在其下端兩側(cè)分別設(shè)有第一外延凸臺(tái)(6c)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種錫槽平板玻璃污染減緩裝置，其特征在于頂蓋磚(3a)和側(cè)壁(2)之間設(shè)有副集塵塊(7)，副集塵塊一側(cè)設(shè)有第二開(kāi)口槽(7a)，第二開(kāi)口槽(7a)與所述的頂蓋磚(3a)和側(cè)壁(2)之間的縫隙相互平齊、連通，第二開(kāi)口槽底部沿其長(zhǎng)度方向均布一排第二通孔(7b)，第二通孔水平貫穿第二開(kāi)口槽，沿副集塵塊長(zhǎng)度方向在其另一側(cè)下端設(shè)有第二外延凸臺(tái)(7c)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種錫槽平板玻璃污染減緩裝置，其特征在于主集塵塊為工字型耐火磚。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種錫槽平板玻璃污染減緩裝置，其特征在于副集塵塊為凹字型。
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種錫槽平板玻璃污染減緩裝置，包括側(cè)壁（2）、頂蓋（3）和外殼（1），其中側(cè)壁與頂蓋、外殼之間設(shè)有進(jìn)氣腔（1a），進(jìn)氣腔通過(guò)管道（5）與保護(hù)氣源連通，所述頂蓋（3）由一組頂蓋磚（3a）組合構(gòu)成，每個(gè)頂蓋磚均通過(guò)吊掛連接件（4）與外殼連接，相鄰頂蓋磚之間留有縫隙，供保護(hù)氣體注入，其特征在于相鄰頂蓋磚之間設(shè)有主集塵塊（6），主集塵塊上端設(shè)有第一開(kāi)口槽（6a），第一開(kāi)口槽底部均布一排第一通孔（6b），第一通孔水平貫穿第一開(kāi)口槽，主集塵塊下端兩側(cè)分別設(shè)有第一外延凸臺(tái)（6c）。本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、制造成本低廉，通過(guò)承接錫槽內(nèi)錫灰，來(lái)延長(zhǎng)錫槽的清掃周期，減緩了錫灰對(duì)產(chǎn)品造成的污染。
【IPC分類】C03B18-18
【公開(kāi)號(hào)】CN204569714
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520294309
【發(fā)明人】肖俊清, 張治民
【申請(qǐng)人】蚌埠玻璃工業(yè)設(shè)計(jì)研究院
【公開(kāi)日】2015年8月19日
【申請(qǐng)日】2015年5月9日