氧化鋯瓷塊生產(chǎn)工藝的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及瓷塊生產(chǎn)工藝，尤其涉及氧化鋯瓷塊生產(chǎn)工藝。
【背景技術(shù)】
[0002]—般而言，陶瓷材料的硬度高，抗腐蝕好，耐高溫，但脆性大，使得陶瓷在沖擊磨損條件下的應(yīng)用受到了局限，氧化鋯陶瓷因?yàn)槠涔逃械木娃D(zhuǎn)變而產(chǎn)生的相變增韌機(jī)理，使得氧化鋯陶瓷具有一定的韌性和兼具有陶瓷的硬度，而氧化鋯陶瓷的韌性、硬度、生物相容性，使得該種材料在現(xiàn)代牙科修復(fù)材料領(lǐng)域展現(xiàn)了廣泛的應(yīng)用前景。但氧化鋯陶瓷在低溫條件下，由于四方晶相向單斜相轉(zhuǎn)變，使得陶瓷的硬度、韌性降低而出現(xiàn)所謂的“低溫老化”現(xiàn)像，而現(xiàn)有技術(shù)中，為了能制備出無缺陷的納米氧化鋯瓷塊，成型添加劑的量較大，較多的添加劑量經(jīng)排膠工藝后形成較多的孔隙，間接降低了素坯的密度，增大了陶瓷的孔隙率，孔隙的存在使陶瓷的低溫老化加快，最終影響瓷牙的使用壽命。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]有鑒于此，本發(fā)明的目的是提供一種氧化鋯瓷塊生產(chǎn)工藝，能夠制出具有高素坯密度以及密度均勻的素坯陶瓷塊，以滿足牙科修復(fù)使用。
[0004]本發(fā)明的氧化鋯瓷塊生產(chǎn)工藝，包括以下步驟:
[0005]a.干壓成型:將混合有成型添加劑的氧化鋯陶瓷粉末放入成型模具中干壓成型制成陶瓷素還;
[0006]b.排膠:采用氧化性氣氛下高溫煅燒的方式去除陶瓷素坯中的殘留有機(jī)物；
[0007]c.冷等靜壓成型:將陶瓷素坯放置于冷等靜壓機(jī)壓缸中進(jìn)行等靜壓處理；
[0008]d.燒結(jié):排膠后的陶瓷素坯放在高溫爐內(nèi)進(jìn)行燒結(jié)處理；
[0009]e.機(jī)械加工:對燒結(jié)后的陶瓷素坯進(jìn)行機(jī)械加工制成氧化鋯瓷塊。
[0010]進(jìn)一步，步驟a中所述成型模具為有機(jī)尼龍模具；干壓成型的成型壓力為5?20Mpa。
[0011]進(jìn)一步，步驟b中排膠氣氛為空氣或氧氣，控制升溫速率為0.2 0C /min?5°C /min升溫至220°C，保溫0.5?3h，然后控制升溫速率為0.2?5°C /min升溫至650°C，保溫I?6h。
[0012]進(jìn)一步，步驟c中冷等靜壓機(jī)壓缸的壓力為180Mpa，保壓時(shí)間不小于lmin。
[0013]進(jìn)一步，在溫度900°C下保溫5h，高溫爐內(nèi)升、降溫速率為I?10°C /min。
[0014]進(jìn)一步，步驟d與步驟e之間執(zhí)行步驟f:將燒結(jié)后的陶瓷素坯放于大氣高溫爐中進(jìn)行退火處理，退火溫度為600?800°C，退火時(shí)間為2-5h，升、降溫速率為I?5°C /min。
[0015]本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明的氧化鋯瓷塊生產(chǎn)工藝，在冷等靜壓之前通過排膠工藝排除添加劑，再通較高的冷等靜壓力消除原來陶瓷粉末中添加劑留下的孔隙，大大增加了陶瓷素坯的密度；失去添加劑的素坯顆粒之間粘結(jié)力減少，再進(jìn)行等靜壓可最大限度的消除顆粒之間的團(tuán)聚，減少終燒后大晶粒的數(shù)量；縮短終燒結(jié)工藝中顆粒移動的距離，使素坯能在較低的燒結(jié)溫度、較短的燒結(jié)時(shí)間內(nèi)燒結(jié)得晶粒更細(xì)、晶粒分布均勻的牙科修復(fù)用氧化鋯陶瓷體；限制陶瓷的低溫老化，延長使用壽命，以滿足牙科修復(fù)使用。
【具體實(shí)施方式】
[0016]本實(shí)施例的氧化鋯瓷塊生產(chǎn)工藝，包括以下步驟:
[0017]a.干壓成型:將混合有成型添加劑的氧化鋯陶瓷粉末放入成型模具中干壓成型制成陶瓷素還;
[0018]b.排膠:采用氧化性氣氛下高溫煅燒的方式去除陶瓷素坯中的殘留有機(jī)物；
[0019]c.冷等靜壓成型:將陶瓷素坯放置于冷等靜壓機(jī)壓缸中進(jìn)行等靜壓處理；
[0020]d.燒結(jié):排膠后的陶瓷素坯放在高溫爐內(nèi)進(jìn)行燒結(jié)處理；
[0021]e.機(jī)械加工:對燒結(jié)后的陶瓷素坯進(jìn)行機(jī)械加工制成氧化鋯瓷塊；
[0022]與現(xiàn)有技術(shù)相比，在冷等靜壓之前進(jìn)行排膠處理，再通較高的冷等靜壓力消除原來陶瓷粉末中添加劑留下的孔隙，大大增加了陶瓷素坯的密度；失去添加劑的素坯顆粒之間粘結(jié)力減少，再進(jìn)行等靜壓可最大限度的消除顆粒之間的團(tuán)聚，減少終燒后大晶粒的數(shù)量；縮短終燒結(jié)工藝中顆粒移動的距離，使素坯能在較低的燒結(jié)溫度、較短的燒結(jié)時(shí)間內(nèi)燒結(jié)得晶粒更細(xì)、晶粒分布均勻的牙科修復(fù)用氧化鋯陶瓷體；限制陶瓷的低溫老化，延長使用壽命，以滿足牙科修復(fù)使用。
[0023]本實(shí)施例中，步驟a中所述成型模具為有機(jī)尼龍模具；干壓成型的成型壓力為5?20Mpa。
[0024]本實(shí)施例中，步驟b中排膠氣氛為空氣或氧氣，控制升溫速率為0.2°C /min?50C /min升溫至220°C，保溫0.5?3h，然后控制升溫速率為0.2?5°C /min升溫至650°C，保溫I?6h。
[0025]本實(shí)施例中，步驟c中冷等靜壓機(jī)壓缸的壓力為180Mpa，保壓時(shí)間不小于lmin。
[0026]本實(shí)施例中，在溫度900°C下保溫5h，高溫爐內(nèi)升、降溫速率為I?10°C /min。
[0027]本實(shí)施例中，步驟d與步驟e之間執(zhí)行步驟f:將燒結(jié)后的陶瓷素坯放于大氣高溫爐中進(jìn)行退火處理，退火溫度為600?800°C，退火時(shí)間為2?5h，升、降溫速率為I?5°C /min。
[0028]最后說明的是，以上實(shí)施例僅用以說明本發(fā)明的技術(shù)方案而非限制，盡管參照較佳實(shí)施例對本發(fā)明進(jìn)行了詳細(xì)說明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，可以對本發(fā)明的技術(shù)方案進(jìn)行修改或者等同替換，而不脫離本發(fā)明技術(shù)方案的宗旨和范圍，其均應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的權(quán)利要求范圍當(dāng)中。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種氧化鋯瓷塊生產(chǎn)工藝，其特征在于:包括以下步驟: a.干壓成型:將混合有成型添加劑的氧化鋯陶瓷粉末放入成型模具中干壓成型制成陶瓷素還; b.排膠:采用氧化性氣氛下高溫煅燒的方式去除陶瓷素坯中的殘留有機(jī)物； c.冷等靜壓成型:將陶瓷素坯放置于冷等靜壓機(jī)壓缸中進(jìn)行等靜壓處理； d.燒結(jié):排膠后的陶瓷素坯放在高溫爐內(nèi)進(jìn)行燒結(jié)處理； e.機(jī)械加工:對燒結(jié)后的陶瓷素坯進(jìn)行機(jī)械加工制成氧化鋯瓷塊。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氧化鋯瓷塊生產(chǎn)工藝，其特征在于:步驟a中所述成型模具為有機(jī)尼龍模具；干壓成型的成型壓力為5?20Mpa。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氧化鋯瓷塊生產(chǎn)工藝，其特征在于:步驟b中排膠氣氛為空氣或氧氣，控制升溫速率為0.20C /min?5°C /min升溫至220°C，保溫0.5?3h，然后控制升溫速率為0.2?5°C /min升溫至650°C，保溫I?6h。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氧化鋯瓷塊生產(chǎn)工藝，其特征在于:步驟c中冷等靜壓機(jī)壓缸的壓力為180Mpa，保壓時(shí)間不小于lmin。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氧化鋯瓷塊生產(chǎn)工藝，其特征在于:在溫度900°C下保溫5h，高溫爐內(nèi)升、降溫速率為I?10°c /min。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氧化鋯瓷塊生產(chǎn)工藝，其特征在于:步驟d與步驟e之間執(zhí)行步驟f:將燒結(jié)后的陶瓷素坯放于大氣高溫爐中進(jìn)行退火處理，退火溫度為600-800°C，退火時(shí)間為5h，升、降溫速率為I?5°C /min。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種氧化鋯瓷塊生產(chǎn)工藝，在冷等靜壓之前通過排膠工藝排除添加劑，再通較高的冷等靜壓力消除原來陶瓷粉末中添加劑留下的孔隙，大大增加了陶瓷素坯的密度；失去添加劑的素坯顆粒之間粘結(jié)力減少，再進(jìn)行等靜壓可最大限度的消除顆粒之間的團(tuán)聚，減少終燒后大晶粒的數(shù)量；縮短終燒結(jié)工藝中顆粒移動的距離，使素坯能在較低的燒結(jié)溫度、較短的燒結(jié)時(shí)間內(nèi)燒結(jié)得晶粒更細(xì)、晶粒分布均勻的牙科修復(fù)用氧化鋯陶瓷體；限制陶瓷的低溫老化，延長使用壽命，以滿足牙科修復(fù)使用。
【IPC分類】C04B35/48, C04B35/622
【公開號】CN105130429
【申請?zhí)枴緾N201510458619
【發(fā)明人】汪元武
【申請人】重慶卓田齒克科技有限公司
【公開日】2015年12月9日
【申請日】2015年7月30日