刻液產(chǎn)生一由下自由端20b往上自由端20a波動的水波，并且該蝕刻液的波動可擴散到載具20內(nèi)部所有不容易到達的死角，以均勻蝕刻全部的加工件S表面；進一步地，溢出載具20的上開口端1a的部分蝕刻液可自載具20的外壁面與槽體10環(huán)側(cè)壁之間的空間流動至回流通道112。
[0045]為使槽體10內(nèi)的蝕刻液能夠循環(huán)利用以降低工藝成本，承載板11上還布設(shè)有多條出酸管12，槽體10的底端1b (底壁)則連接設(shè)置有一回酸管13 ;具體地說，回酸管13連通于回流通道112，回酸管13還經(jīng)由一回流管路15連接該些出酸管12，其中每一出酸孔120具有多個出酸孔120，且相鄰的兩出酸孔120相隔一第一間距dl，系介于3cm至5cm之間，約等同于一加工件S的厚度。進一步值得說明的是，流通過回流通道112的蝕刻液可進入回酸管13并經(jīng)由回流管路15回流至出酸管12，提供蝕刻液的循環(huán)利用。
[0046]更詳細地說，回流管路15包含一加壓泵(Pump) 151及多條引流管152，其中加壓泵151連接設(shè)置于回酸管13與該些引流管152之間，而該些引流管152分別連接該些出酸管；據(jù)此，加壓泵151可以高壓方式將進入回酸管13的蝕刻液導入引流管152，并進一步運轉(zhuǎn)以加壓蝕刻液進入出酸管12而排出至槽體10內(nèi)。
[0047]較佳地，槽體10外可加裝一濃度控制器及一溫度控制器(未繪示)，其中濃度控制器可定時補充一預定濃度的新鮮蝕刻液(如50%的HF)，以維持槽體10內(nèi)蝕刻液的濃度，確保蝕刻速率能維持一致，溫度控制器則用以控制槽體10內(nèi)的蝕刻反應溫度。
[0048]進一步地，為加快蝕刻液在相鄰的兩加工件S之間的間隙內(nèi)的流速以產(chǎn)生理想的流場，承載板11上更進一步布設(shè)有多條氣泡管14，用以施予氣泡以攪動蝕刻液，其中每一氣泡管14具有多個噴氣孔140，且相鄰的兩噴氣孔140相隔一第二間距d2，其同樣介于3cm至5cm之間，約等同于一加工件S的厚度；在本實施例中，該些氣泡管14間隔設(shè)置于出酸管12上方，但本發(fā)明并不限制于此。
[0049]在本實施例中，該些出酸管12可沿著第一方向間隔排列在承載板11的上方，該些氣泡管14則可沿著垂直于第一方向的第二方向間隔排列在該些出酸管12的上方(如圖1所示)，每一氣泡管14位于出酸管12上相鄰的兩個噴氣孔140之間，并且該些氣泡管14可以借由一空氣泵(未標示)導入空氣；據(jù)此，本發(fā)明在供給蝕刻液的同時，還可進一步施予氣泡以攪動蝕刻液，兩者互不沖突?；蛘撸撔┏鏊峁?2可與該些氣泡管14沿著同一方向排列在承載板11的上方，且相鄰的兩條出酸管12之間布設(shè)有一條氣泡管14 (如圖2所示)，同樣可達成上述功效。
[0050]綜上所述，相較于傳統(tǒng)濕式蝕刻裝置，本發(fā)明至少具有下列功效:
[0051]1.本發(fā)明的循環(huán)式均勻蝕刻裝置借由槽體與其內(nèi)的承載板所界定出的回流通道，搭配回酸管、回流管路及出酸管的布局設(shè)計，可持續(xù)回流與更新槽體內(nèi)容納的蝕刻液，達到節(jié)省工藝成本的目的。
[0052]2.再者，當一裝有多個加工件的載具由上而下傳送至承載板上時，可致使蝕刻液產(chǎn)生一由下自由端往上自由端波動的水波，且該水波能夠擴散到載具內(nèi)部所有不容易到達的死角，以均勻蝕刻全部的加工件表面。
[0053]3.此外，本發(fā)明的循環(huán)式均勻蝕刻裝置更于出酸管上方布設(shè)多條氣泡管，其可施予氣泡以攪動蝕刻液，進而可增加蝕刻速率及均勻度。進一步地，該氣泡作用產(chǎn)生的擾動可使加工件(玻璃基板)于蝕刻過程中析出的氟硅酸根顆粒脫離，并隨蝕刻液回流入回酸管。
[0054]惟以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施例，非意欲局限本發(fā)明的專利保護范圍，故舉凡運用本發(fā)明說明書及附圖內(nèi)容所為的等效變化，均同理皆包含于本發(fā)明的權(quán)利要求范圍內(nèi)，合予陳明。
【主權(quán)項】
1.一種循環(huán)式均勻蝕刻裝置，其特征在于，包括: 一槽體，該槽體內(nèi)容納有一蝕刻液； 一承載板，設(shè)置于該槽體內(nèi)且鄰近該槽體的底端，該承載板與該槽體的底端共同界定出一回流通道； 多條出酸管，設(shè)置于該承載板上； 一回酸管，設(shè)置于該槽體的底端且連通于該回流通道，該回酸管還經(jīng)由一回流管路連接所述多條出酸管；以及 多條氣泡管，設(shè)置于該承載板上，用以施予氣泡以促進該蝕刻液的擾動。
2.如權(quán)利要求1所述的循環(huán)式均勻蝕刻裝置，其中所述多條出酸管沿著一第一方向間隔設(shè)置于該承載板上，每一所述出酸管具有多個出酸孔，且相鄰的兩個所述出酸孔相隔一第一間距。
3.如權(quán)利要求2所述的循環(huán)式均勻蝕刻裝置，其中所述多條氣泡管沿著垂直于該第一方向的一第二方向間隔設(shè)置于所述多條出酸管的上方，每一所述氣泡管具有多個噴氣孔，且相鄰的兩個所述噴氣孔相隔一第二間距。
4.如權(quán)利要求3所述的循環(huán)式均勻蝕刻裝置，其中該第一間距介于3至5厘米之間，該第二間距介于3至5厘米之間。
5.如權(quán)利要求1所述的循環(huán)式均勻蝕刻裝置，其中該回流管路包括一加壓泵及多條引流管，該加壓泵連接設(shè)置于該回酸管與所述多條引流管之間，所述多條引流管分別連接所述多條出酸管。
6.一種循環(huán)式均勻蝕刻裝置，用于均勻蝕刻一載具內(nèi)的多個加工件，其中該載具具有供液體流通的一上自由端及一下自由端，其特征在于，該循環(huán)式均勻蝕刻裝置包括: 一槽體，該槽體內(nèi)容納有一蝕刻液，該槽體具有一開口端及相對于該開口端的一底端; 一承載板，設(shè)置于該槽體內(nèi)且鄰近該底端，該承載板與該底端共同界定出一回流通道； 多條出酸管，設(shè)置于該承載板上； 一回酸管，設(shè)置于該底端且連通于該回流通道，該回酸管還經(jīng)由一回流管路連接所述多條出酸管；以及 多條氣泡管，設(shè)置于該承載板上，用以施予氣泡以促進該蝕刻液的擾動； 其中，該載具從該槽體的外部通過該開口端傳送至該承載板上時，該蝕刻液產(chǎn)生一由該下自由端朝該上自由端的波動，使部分該蝕刻液溢出該載具的上開口端并經(jīng)該回流通道流入該回酸管，進一步經(jīng)該回流管路回流至所述多條出酸管。
7.如權(quán)利要求6所述的循環(huán)式均勻蝕刻裝置，其中所述多條出酸管沿著一第一方向間隔設(shè)置于該承載板上，每一所述出酸管具有多個出酸孔，且相鄰的兩個所述出酸孔相隔一第一間距。
8.如權(quán)利要求7所述的循環(huán)式均勻蝕刻裝置，其中所述多條氣泡管沿著垂直于該第一方向的一第二方向間隔設(shè)置于所述多條出酸管的上方，每一所述氣泡管具有多個噴氣孔，且相鄰的兩個所述噴氣孔相隔一第二間距。
9.如權(quán)利要求8所述的循環(huán)式均勻蝕刻裝置，其中該第一間距介于3至5厘米之間，該第二間距介于3至5厘米之間。
10.如權(quán)利要求6所述的循環(huán)式均勻蝕刻裝置，其中該回流管路包括一加壓泵及多條引流管，該加壓泵連接設(shè)置于該回酸管與所述多條引流管之間，所述多條引流管分別連接所述多條出酸管。
【專利摘要】本發(fā)明公開一種循環(huán)式均勻蝕刻裝置，包括一槽體、一承載板、多條出酸管、一回酸管及多條氣泡管，該槽體內(nèi)容納有一蝕刻液，該承載板設(shè)置于該槽體內(nèi)且鄰近該槽體的底端，該承載板與該槽體的底端共同界定出一回流通道，該些出酸管設(shè)置于該承載板上，該回酸管設(shè)置于該槽體的底端且連通于該回流通道，該回酸管還經(jīng)由一回流管路連接該些出酸管，該些氣泡管設(shè)置于該承載板上，用以施予氣泡以促進該蝕刻液的擾動。采用本發(fā)明的循環(huán)式均勻蝕刻裝置，可配合載具所產(chǎn)生的波動使加工件表面均勻薄化。
【IPC分類】C03C15-00
【公開號】CN104628261
【申請?zhí)枴緾N201310632760
【發(fā)明人】顏錫鴻, 陳毓正
【申請人】弘塑科技股份有限公司
【公開日】2015年5月20日
【申請日】2013年11月29日
【公告號】CN203653437U