循環(huán)式均勻蝕刻裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種濕式蝕刻技術(shù)(Wet etching),且特別涉及一種可使加工件均勻薄化的循環(huán)式均勻蝕刻裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]一般來說，手機(jī)、數(shù)碼相機(jī)、個(gè)人數(shù)字助理(PDA)、平板電腦(Tablet PC)及筆記本電腦(Notebook)等可攜式電子裝置的顯示屏幕(特別是觸控式屏幕)，為了防止刮傷或因?yàn)槭种甘┝^大而受損，通常會(huì)在屏幕表面上覆蓋一片玻璃蓋板作為保護(hù)之用。另外，為了適應(yīng)半導(dǎo)體、平面顯示器等產(chǎn)業(yè)的發(fā)展以及消費(fèi)者對(duì)產(chǎn)品的輕薄短小需求，現(xiàn)今正積極開發(fā)各種玻璃基板/蓋板的薄化技術(shù)。
[0003]目前各家廠商常用的薄化技術(shù)主要有以下幾種:多片直立式浸泡(Dip)、單片水平噴灑(In-line horizontal)及單片直立式噴灑(Spray)。其中不論是哪種方法,都是利用化學(xué)蝕刻液(如氟化氫溶液)以對(duì)玻璃基板/蓋板做等向性蝕刻，而玻璃基板/蓋板的薄化程度取決于蝕刻時(shí)間的控制，若配合物理性蝕刻，可進(jìn)一步薄化玻璃基板/蓋板。
[0004]然而，現(xiàn)有濕式蝕刻裝置對(duì)于大面積的玻璃基板的蝕刻，通常只考慮到蝕刻速率而忽略了蝕刻的均勻性；舉例來說，玻璃基板于濕式蝕刻時(shí)是容置于載具(Cassette)內(nèi)，而載具因其結(jié)構(gòu)性可能具有蝕刻液無法到達(dá)的死角，導(dǎo)致蝕刻不完全；另外，玻璃基板于蝕刻過程中表面會(huì)持續(xù)析出氟硅酸根顆粒，然而現(xiàn)有濕式蝕刻裝置并無法提供蝕刻液足夠的流體剪力和慣性力，造成玻璃基板表面有顆粒殘留，此不只會(huì)影響蝕刻的均勻性，也會(huì)影響蝕刻速率。
[0005]因此，本發(fā)明人有鑒于現(xiàn)有濕式蝕刻裝置實(shí)在有其改良的必要性，遂以其多年從事相關(guān)領(lǐng)域的創(chuàng)作設(shè)計(jì)及專業(yè)制造經(jīng)驗(yàn)，積極地針對(duì)濕式蝕刻裝置進(jìn)行研究改良，在各方條件的審慎考量下終于開發(fā)出本發(fā)明“循環(huán)式均勻蝕刻裝置”。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的缺失，提出一種循環(huán)式均勻蝕刻裝置，通過槽體內(nèi)容納的蝕刻液持續(xù)回流與更新，并配合載具在槽體內(nèi)下降所產(chǎn)生的波動(dòng)，除了可降低工藝成本外，還可提高蝕刻均勻度以增進(jìn)良率。
[0007]為達(dá)成上述目的及功效，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案:一種循環(huán)式均勻蝕刻裝置，包括一槽體、一承載板、多條出酸管、一回酸管及多條氣泡管。該槽體內(nèi)容納有一蝕刻液，該承載板設(shè)置于該槽體內(nèi)且鄰近該槽體的底端，該承載板與該槽體的底端共同界定出一回流通道，所述多條出酸管設(shè)置于該承載板上，該回酸管設(shè)置于該槽體的底端且連通于該回流通道，該回酸管還經(jīng)由一回流管路連接所述多條出酸管，所述多條氣泡管設(shè)置于該承載板上，用以施予氣泡以促進(jìn)該蝕刻液的擾動(dòng)。
[0008]本發(fā)明另采用以下技術(shù)方案:一種循環(huán)式均勻蝕刻裝置，用于均勻蝕刻一載具內(nèi)的多片玻璃基板，其中該載具具有供液體流通的一上自由端及一下自由端，該循環(huán)式均勻蝕刻裝置包括一槽體、一承載板、多條出酸管、一回酸管及多條氣泡管。
[0009]該槽體內(nèi)容納有一蝕刻液，該槽體具有一開口端及相對(duì)于該開口端的一底端；該承載板設(shè)置于該槽體內(nèi)且鄰近該底端，該承載板與該底端共同界定出一回流通道；所述多條出酸管設(shè)置于該承載板上；該回酸管設(shè)置于該底端且連通于該回流通道，該回酸管還經(jīng)由一回流管路連接所述多條出酸管；所述多條氣泡管設(shè)置于該承載板上，用以施予氣泡以促進(jìn)該蝕刻液的擾動(dòng)；其中，該載具從該槽體的外部通過該開口端傳送至該承載板上時(shí)，該蝕刻液產(chǎn)生一由該下自由端朝該上自由端的波動(dòng)，使部分該蝕刻液溢出該載具的上開口端并經(jīng)該回流通道流入該回酸管，進(jìn)一步經(jīng)該回流管路回流至所述多條出酸管。
[0010]在本發(fā)明的一實(shí)施例中，所述多條出酸管沿著一第一方向間隔設(shè)置于該承載板上，每一出酸管具有多個(gè)出酸孔，且相鄰的兩出酸孔相隔一第一間距。
[0011 ] 在本發(fā)明的一實(shí)施例中，所述多條氣泡管沿著垂直于該第一方向的一第二方向間隔設(shè)置于所述多條出酸管的上方，每一氣泡管具有多個(gè)噴氣孔，且相鄰的兩噴氣孔相隔一第二間距。
[0012]在本發(fā)明的一實(shí)施例中，該第一間距介于3至5厘米之間，該第二間距介于3至5厘米之間。
[0013]在本發(fā)明的一實(shí)施例中，該回流管路包括一加壓泵及多條引流管，該加壓泵連接設(shè)置于該回酸管與所述多條引流管之間，所述多條引流管分別連接所述多條出酸管。
[0014]本發(fā)明的其他目的和優(yōu)點(diǎn)可以從本發(fā)明所揭露的技術(shù)特征得到進(jìn)一步的了解。為了讓本發(fā)明的上述和其他目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，下文特舉實(shí)施例并配合附圖作詳細(xì)說明如下。
【附圖說明】
[0015]圖1為本發(fā)明的循環(huán)式均勻蝕刻裝置的立體視圖。
[0016]圖2為本發(fā)明的循環(huán)式均勻蝕刻裝置的剖面視圖。
[0017]圖3為本發(fā)明的循環(huán)式均勻蝕刻裝置的使用狀態(tài)圖。
[0018]其中，附圖標(biāo)記說明如下:
[0019]I 循環(huán)式均勻蝕刻裝置
[0020]10 槽體
[0021]1a 開口端
[0022]1b 底端
[0023]11承載板
[0024]111固定架
[0025]112回流通道
[0026]12 出酸管
[0027]120出酸孔
[0028]13 回酸管
[0029]14氣泡管
[0030]140噴氣孔
[0031]15回流管路
[0032]151加壓泵
[0033]152引流管
[0034]20載具
[0035]20a上自由端
[0036]20b下自由端
[0037]S加工件
[0038]dl第一間距
[0039]d2第二間距
【具體實(shí)施方式】
[0040]本公開提出一種新穎的濕式蝕刻裝置，其通過特殊的蝕刻液回流設(shè)計(jì)，可持續(xù)回流與更新槽體內(nèi)容納的蝕刻液；進(jìn)一步地，所提出的濕式蝕刻裝置通過特殊的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，當(dāng)裝載多個(gè)加工件的一載具從外部環(huán)境傳送至槽體內(nèi)時(shí)，可在載具內(nèi)部產(chǎn)生一由下而上的波動(dòng)以提高加工件的蝕刻均勻度，并且溢出載具的部分蝕刻液可自槽體底端流入一回流管路，進(jìn)一步重新回流至槽體內(nèi)；所述的加工件例如是玻璃基板、晶圓等，但不限制于此。下文特舉一較佳實(shí)施例并配合附圖來詳細(xì)說明本發(fā)明的循環(huán)式均勻蝕刻裝置的細(xì)部特征。
[0041]請(qǐng)參考圖1及2，圖1為本發(fā)明的循環(huán)式均勻蝕刻裝置的立體視圖，圖2為本發(fā)明的循環(huán)式均勻蝕刻裝置的剖面視圖。如圖所示，本發(fā)明的循環(huán)式均勻蝕刻裝置I包括一槽體10、一承載板11、多條出酸管12、一回酸管13及多條氣泡管14。
[0042]詳細(xì)而言，槽體10為一底壁及一環(huán)側(cè)壁所構(gòu)成(未標(biāo)示)，其中環(huán)側(cè)壁由底壁垂直延伸所形成，且底壁與環(huán)側(cè)壁共同界定出一開口端1a及相對(duì)于開口端1a的一底端10b。在本實(shí)施例中，槽體10內(nèi)容納有一蝕刻液，用以進(jìn)行濕式蝕刻反應(yīng)以對(duì)加工件S進(jìn)行薄化，所采用的蝕刻液可以是氫氟酸(HF)，但本發(fā)明并不限制于此。更詳細(xì)地說，多個(gè)加工件S是以平行置放方式密集排列于一載具20內(nèi)，而載具20借由一自動(dòng)化搬運(yùn)裝置從槽體10外部通過其開口端1a傳送至槽體10內(nèi)部，直到所有加工件浸泡于蝕刻液為止。
[0043]承載板11固設(shè)于槽體10內(nèi)的鄰近底端1b處，具體地說是借由固定架111架設(shè)在底端1b的上方，用以承載固定載具20及其內(nèi)的加工件S，其中承載板11還與底端1b(底壁)共同界定出一回流通道112。
[0044]值得說明的是，適用于本發(fā)明的載具20具有可讓蝕刻液流通的一上自由端20a及一下自由端20b，當(dāng)載具20由上而下傳送至承載板11上時(shí)，可使蝕