7的噴灑時(shí)間和噴灑間隔時(shí)間的控制，時(shí)間控制氣閥22的進(jìn)氣端連通高壓氣體。
[0011]—種藍(lán)寶石晶片的拋光方法，其特征在于，包括以下步驟:
(1)鉆石拋光液振蕩處理:打開(kāi)鉆石拋光液包裝盒，取出瓶裝鉆石拋光液，無(wú)需打開(kāi)瓶蓋，將瓶裝鉆石拋光液置于震蕩機(jī)的拋動(dòng)座上并固定，啟動(dòng)震蕩機(jī)，瓶裝鉆石拋光液通過(guò)震蕩機(jī)上下拋動(dòng)，其內(nèi)的金剛石微粉充分與液體攪拌均勻，振蕩時(shí)間設(shè)定為20分鐘；
(2)鉆石拋光液磁力攪拌處理:振蕩處理完成后，取下瓶裝鉆石拋光液，將其內(nèi)的鉆石拋光液倒入加熱磁力攪拌器上面的攪拌容器中，打開(kāi)加熱磁力攪拌器電源，當(dāng)攪拌器底座產(chǎn)生磁場(chǎng)后，帶動(dòng)攪拌容器中的攪拌子成圓周循環(huán)運(yùn)動(dòng)時(shí)，調(diào)整設(shè)定加熱磁力攪拌器的轉(zhuǎn)速為500RPM，攪拌子會(huì)產(chǎn)生足夠的旋轉(zhuǎn)攪拌力對(duì)鉆石拋光液進(jìn)行不停的攪拌動(dòng)作，并產(chǎn)生漩渦，從而保持鉆石拋光液里面金剛石微粉懸浮的均勻性，設(shè)定溫度為25°C，加熱磁力攪拌器會(huì)智能加溫并持續(xù)保持為25°C，此時(shí)容器中的鉆石拋光液溫度接近拋光的盤(pán)面溫度；
(3)拋光盤(pán)的盤(pán)面平整度測(cè)量與修整:使用平尺測(cè)量拋光盤(pán)的盤(pán)面平整度，要求為盤(pán)面中心位置凹下0~10um，如果不符合要求，則使用車(chē)刀修整盤(pán)面，直到達(dá)到所需的平整度；
(4)噴嘴連接:將噴嘴的液體輸入口通過(guò)氣管與加熱磁力攪拌器上的尼龍氣管響亮，將壓縮空氣輸入口與時(shí)間控制氣閥相連，準(zhǔn)備抽取攪拌容器中的鉆石拋光液；
(5)晶片貼蠟處理:在貼蠟前，先對(duì)預(yù)貼付于某個(gè)陶瓷盤(pán)的所有藍(lán)寶石晶片進(jìn)行厚度測(cè)量篩選，所有藍(lán)寶石晶片的厚度差應(yīng)控制在3um以內(nèi)，TTV控制在3um以內(nèi)，隨后采用貼蠟工藝將藍(lán)寶石晶片貼付在陶瓷盤(pán)，此時(shí)，藍(lán)寶石晶片的拋光面朝上，隨后，將陶瓷盤(pán)反扣于拋光盤(pán)上，并操作壓力盤(pán)下移，壓住陶瓷盤(pán)，設(shè)定加工壓力為0.8kgf/cm2，此時(shí)，藍(lán)寶石晶片的拋光面貼近拋光盤(pán)盤(pán)面；
(6)藍(lán)寶石晶片拋光:啟動(dòng)程序進(jìn)行拋光，拋光盤(pán)進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)，拋光盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)的同時(shí)帶動(dòng)壓力盤(pán)的自轉(zhuǎn)，對(duì)晶片表面進(jìn)行均勻拋光，根據(jù)晶片需要拋光的厚度和移除率設(shè)定第1段拋光時(shí)間，設(shè)定轉(zhuǎn)速為50rpm，同時(shí)，時(shí)間控制氣閥啟動(dòng)，控制噴頭噴灑鉆石拋光液進(jìn)行間歇噴灑，鉆石拋光液的噴灑時(shí)間為3秒，間隔時(shí)間為3秒，每拋光一段時(shí)間，需取下陶瓷盤(pán)，測(cè)量藍(lán)寶石晶片厚度，記錄藍(lán)寶石晶片厚度和拋光時(shí)間，并計(jì)算出移除率，根據(jù)移除率和還需要拋光的厚度，設(shè)定再次拋光時(shí)間，隨后進(jìn)行二次拋光，直到藍(lán)寶石晶片拋光到所需的厚度范圍，取下陶瓷盤(pán)，最后，將陶瓷盤(pán)放在加熱臺(tái)上加熱，設(shè)定加熱臺(tái)溫度為100°C，加熱時(shí)長(zhǎng)為2分鐘，蠟融化，取下完成拋光的藍(lán)寶石晶片，放入周轉(zhuǎn)盒中。
[0012]以上所述，僅為本發(fā)明較佳的【具體實(shí)施方式】，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到的變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)該以權(quán)利要求書(shū)的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種藍(lán)寶石晶片的拋光裝置，其特征在于，包括震蕩機(jī)、加熱磁力攪拌器和拋光機(jī)，所述震蕩機(jī)包括底座、拋動(dòng)座、電機(jī)、偏心輪和連接桿，所述底座上設(shè)有4根滑動(dòng)軸，所述滑動(dòng)軸為豎直設(shè)置的直線光軸，所述拋動(dòng)座的兩側(cè)套合在滑動(dòng)軸上，拋動(dòng)座上設(shè)有固定塊，所述電機(jī)設(shè)置于底座內(nèi)，所述偏心輪與電機(jī)的傳動(dòng)端固接，所述連接桿的上端與拋動(dòng)座的一側(cè)鉸接，下端與偏心輪鉸接，實(shí)現(xiàn)拋動(dòng)座的豎直上下移動(dòng)。2.如權(quán)利要求1所述的一種藍(lán)寶石晶片的拋光裝置，其特征在于，所述加熱磁力攪拌器包括攪拌容器，所述攪拌容器上設(shè)有加注口和尼龍氣管，所述加注口位于攪拌容器的上端面的中心位置，并配備有加注口蓋，所述加注口蓋于加注口契合，加注口蓋上設(shè)有透氣孔，所述尼龍氣管的數(shù)量為2個(gè)，并對(duì)稱(chēng)設(shè)置于加注口的兩側(cè)，尼龍氣管貫穿攪拌容器的上端面，其下端伸入攪拌容器內(nèi)，上端露出攪拌容器上端面。3.如權(quán)利要求1所述的一種藍(lán)寶石晶片的拋光裝置，其特征在于，所述拋光機(jī)包括拋光盤(pán)、壓力盤(pán)和噴嘴，所述拋光盤(pán)呈圓形，其上設(shè)有4個(gè)均勻分布的陶瓷盤(pán)，所述壓力盤(pán)設(shè)置于拋光盤(pán)上方，并可上下移動(dòng)，與陶瓷盤(pán)一一對(duì)應(yīng)，所述噴嘴的數(shù)量為2個(gè)，位于拋光盤(pán)和壓力盤(pán)之間，并對(duì)稱(chēng)設(shè)置，其噴射方向指向拋光盤(pán)所呈的圓形的圓心，噴嘴包括液體輸入口和壓縮空氣輸入口，所述液體輸入口通過(guò)氣管與尼龍氣管的上端連接，所述壓縮空氣輸入口連接時(shí)間控制氣閥。4.一種藍(lán)寶石晶片的拋光方法，其特征在于，包括以下步驟: (1)鉆石拋光液振蕩處理:打開(kāi)鉆石拋光液包裝盒，取出瓶裝鉆石拋光液，無(wú)需打開(kāi)瓶蓋，將瓶裝鉆石拋光液置于震蕩機(jī)的拋動(dòng)座上并固定，啟動(dòng)震蕩機(jī)，瓶裝鉆石拋光液通過(guò)震蕩機(jī)上下拋動(dòng)，其內(nèi)的金剛石微粉充分與液體攪拌均勻，振蕩時(shí)間設(shè)定為20分鐘； (2)鉆石拋光液磁力攪拌處理:振蕩處理完成后，取下瓶裝鉆石拋光液，將其內(nèi)的鉆石拋光液倒入加熱磁力攪拌器上面的攪拌容器中，打開(kāi)加熱磁力攪拌器電源，當(dāng)攪拌器底座產(chǎn)生磁場(chǎng)后，帶動(dòng)攪拌容器中的攪拌子成圓周循環(huán)運(yùn)動(dòng)時(shí)，調(diào)整設(shè)定加熱磁力攪拌器的轉(zhuǎn)速為500RPM，攪拌子會(huì)產(chǎn)生足夠的旋轉(zhuǎn)攪拌力對(duì)鉆石拋光液進(jìn)行不停的攪拌動(dòng)作，并產(chǎn)生漩渦，從而保持鉆石拋光液里面金剛石微粉懸浮的均勻性，設(shè)定溫度為25°C，加熱磁力攪拌器會(huì)智能加溫并持續(xù)保持為25°C，此時(shí)容器中的鉆石拋光液溫度接近拋光的盤(pán)面溫度； (3)拋光盤(pán)的盤(pán)面平整度測(cè)量與修整:使用平尺測(cè)量拋光盤(pán)的盤(pán)面平整度，要求為盤(pán)面中心位置凹下0~10um，如果不符合要求，則使用車(chē)刀修整盤(pán)面，直到達(dá)到所需的平整度； (4)噴嘴連接:將噴嘴的液體輸入口通過(guò)氣管與加熱磁力攪拌器上的尼龍氣管響亮，將壓縮空氣輸入口與時(shí)間控制氣閥相連，準(zhǔn)備抽取攪拌容器中的鉆石拋光液； (5)晶片貼蠟處理:在貼蠟前，先對(duì)預(yù)貼付于某個(gè)陶瓷盤(pán)的所有藍(lán)寶石晶片進(jìn)行厚度測(cè)量篩選，所有藍(lán)寶石晶片的厚度差應(yīng)控制在3um以內(nèi)，TTV控制在3um以內(nèi)，隨后采用貼蠟工藝將藍(lán)寶石晶片貼付在陶瓷盤(pán)，此時(shí)，藍(lán)寶石晶片的拋光面朝上，隨后，將陶瓷盤(pán)反扣于拋光盤(pán)上，并操作壓力盤(pán)下移，壓住陶瓷盤(pán)，設(shè)定加工壓力為0.8kgf/cm2，此時(shí)，藍(lán)寶石晶片的拋光面貼近拋光盤(pán)盤(pán)面； (6)藍(lán)寶石晶片拋光:啟動(dòng)程序進(jìn)行拋光，拋光盤(pán)進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)，拋光盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)的同時(shí)帶動(dòng)壓力盤(pán)的自轉(zhuǎn)，對(duì)晶片表面進(jìn)行均勻拋光，根據(jù)晶片需要拋光的厚度和移除率設(shè)定第1段拋光時(shí)間，設(shè)定轉(zhuǎn)速為50rpm，同時(shí)，時(shí)間控制氣閥啟動(dòng)，控制噴頭噴灑鉆石拋光液進(jìn)行間歇噴灑，鉆石拋光液的噴灑時(shí)間為3秒，間隔時(shí)間為3秒，每拋光一段時(shí)間，取下陶瓷盤(pán)，測(cè)量藍(lán)寶石晶片厚度，記錄藍(lán)寶石晶片厚度和拋光時(shí)間，并計(jì)算出移除率，根據(jù)移除率和還需要拋光的厚度，設(shè)定再次拋光時(shí)間，隨后進(jìn)行二次拋光，直到藍(lán)寶石晶片拋光到所需的厚度范圍，取下陶瓷盤(pán)，最后，將陶瓷盤(pán)放在加熱臺(tái)上加熱，設(shè)定加熱臺(tái)溫度為100 °c，加熱時(shí)長(zhǎng)為2分鐘，蠟融化，取下完成拋光的藍(lán)寶石晶片，放入周轉(zhuǎn)盒中。
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明提出的一種藍(lán)寶石晶片的拋光裝置及其拋光方法，對(duì)現(xiàn)有工藝流程進(jìn)行改進(jìn)，包括：鉆石拋光液振蕩處理、磁力攪拌處理、拋光盤(pán)的盤(pán)面平整度測(cè)量與修整、噴嘴連接、晶片貼蠟處理和藍(lán)寶石晶片拋光，并設(shè)計(jì)和改進(jìn)與工藝配合的震蕩機(jī)、加熱磁力攪拌器和拋光機(jī)，對(duì)鉆石拋光液品質(zhì)和均勻性進(jìn)行改良，確保了晶片的拋光品質(zhì)，穩(wěn)定了拋光的移除率，有效減少對(duì)晶片表面的劃傷和劃痕，拋光后晶片的拋光品質(zhì)更加好，晶片表面平整度明顯提高，TTV會(huì)控制在2以內(nèi)，同時(shí)采取了相應(yīng)的自動(dòng)化機(jī)構(gòu)，不需要人員額外付出時(shí)間，減少了人力搖晃攪拌的人力成本和攪拌不均勻現(xiàn)象。
【IPC分類(lèi)】B24B37/10, B24B37/04, B24B57/02, B24B37/34
【公開(kāi)號(hào)】CN105382678
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510722822
【發(fā)明人】趙元亞, 王晨宇, 王祿寶
【申請(qǐng)人】江蘇吉星新材料有限公司
【公開(kāi)日】2016年3月9日
【申請(qǐng)日】2015年10月29日