發(fā)明人：

davidj.chaikoandcarloseyzaguirre

相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用

本申請(qǐng)要求于2014年12月16日提交的題為“systemandmethodforenhancedmetalrecoveryduringatmosphericleachingofmetalsulfides”的共同未決的第62/092,773號(hào)美國(guó)臨時(shí)專利申請(qǐng)的權(quán)益，并且還涉及以下共同未決的申請(qǐng)：于2014年9月14日提交的pct/us2015/050045，于2014年11月20日提交的pct/us2015/061761，和于2014年11月20日提交的pct/us2015/062000。這些申請(qǐng)的內(nèi)容在此通過(guò)引用整體并入用于任何和所有目的，如同在本文中完全闡述一樣。

本發(fā)明的實(shí)施方式涉及用于改進(jìn)從金屬硫化物礦石提取金屬價(jià)的設(shè)備、系統(tǒng)和方法。特別地，公開了用于在金屬硫化物精礦的高于常壓的氧化浸出過(guò)程中提高金屬溶解和回收的系統(tǒng)和方法。

背景技術(shù)：

需要用于金屬硫化物的高于常壓的氧化浸出的改進(jìn)方法。特別地，需要用于浸出硫化銅諸如黃銅礦和硫砷銅礦的改進(jìn)方法。

發(fā)明目的

優(yōu)選地，本發(fā)明的實(shí)施方式提供了能夠快速和/或有效地改進(jìn)原生金屬硫化物(特別是銅金屬硫化物，諸如硫砷銅礦)的濕法冶金加工的裝置、系統(tǒng)和方法。

還優(yōu)選地，本發(fā)明的實(shí)施方式減少和/或消除了向浸出回路中添加多余試劑的需要，所述多余試劑可能會(huì)花費(fèi)額外的錢來(lái)購(gòu)買、運(yùn)送和施用；和/或其可能會(huì)對(duì)下游sx/ew系統(tǒng)產(chǎn)生負(fù)面影響。

進(jìn)一步優(yōu)選的是，本發(fā)明的實(shí)施方式降低了在高固體密度條件下浸出硫化銅如硫砷銅礦時(shí)通常所需的研磨能量和/或加熱能量，而不需添加多余的催化劑。

進(jìn)一步優(yōu)選的是，本發(fā)明的實(shí)施方式可有利地設(shè)置為形成催化劑產(chǎn)物，例如可以包括(或可用于生產(chǎn))鐵氧化劑的催化劑產(chǎn)物。

進(jìn)一步優(yōu)選的是，本發(fā)明的實(shí)施方式可有利地設(shè)置為形成可以包括(或可用于生產(chǎn))能被用作試劑的稀酸的產(chǎn)物。

進(jìn)一步優(yōu)選的是，所公開的方法的一些實(shí)施方式可以在浸出緩慢的含鈷硫化物或者難處理金精礦的浸出中具有特別的用途，而不限于此。

本發(fā)明的這些和其它目的將從本文的附圖和描述中變得顯而易見。盡管認(rèn)為本發(fā)明的目的是通過(guò)本發(fā)明的至少一個(gè)實(shí)施方式來(lái)實(shí)現(xiàn)的，但是本發(fā)明并不一定有任何一個(gè)實(shí)施方式實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的所有目的。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

公開了一種在金屬硫化物的高于常壓的氧化浸出過(guò)程中改善浸出動(dòng)力學(xué)和回收的系統(tǒng)和方法。在一些實(shí)施方式中，所述系統(tǒng)和方法可以分別包括氧化浸出回路或包括利用氧化浸出回路的步驟。氧化浸出回路可以包括一個(gè)或多個(gè)剪切釜反應(yīng)器(如上文中引用的共同未決的申請(qǐng)中所定義的)，諸如一個(gè)或多個(gè)攪拌介質(zhì)反應(yīng)器，但不限于此。在一些實(shí)施方式中，剪切釜反應(yīng)器可以包括攪拌介質(zhì)反應(yīng)器、包含一個(gè)或多個(gè)高剪切葉輪的高剪切反應(yīng)器或包含高剪切轉(zhuǎn)子和高剪切定子的高剪切反應(yīng)器。攪拌介質(zhì)反應(yīng)器也可以稱為在共同未決申請(qǐng)中更常用的“磨耗洗滌器”或標(biāo)記為“smrt”或“智能反應(yīng)器”。

在一些實(shí)施方式中，一個(gè)或多個(gè)剪切釜反應(yīng)器可以在氧化浸出反應(yīng)器之間(例如在可以是相鄰的金屬硫化物浸出高壓釜的高壓釜之間)串聯(lián)布置(即，“級(jí)間”)。在一些實(shí)施方式中，一個(gè)或多個(gè)剪切釜反應(yīng)器可以與氧化浸出反應(yīng)器并聯(lián)(即，“級(jí)內(nèi)”)布置。在一些實(shí)施方式中，一個(gè)或多個(gè)剪切釜反應(yīng)器可操作地連接到一個(gè)或多個(gè)高壓釜內(nèi)的一個(gè)或多個(gè)室。在一些實(shí)施方案中，可以在浸出回路中提供固液分離或脫水步驟，以便解決系統(tǒng)內(nèi)的過(guò)度濃度積聚-特別是為了防止超過(guò)溶解度極限和/或sx/ew系統(tǒng)能力的銅濃度。在一些實(shí)施方式中，多室氧化浸出反應(yīng)器中的連續(xù)室可以連續(xù)增加、減少、保持相同，或者根據(jù)停留時(shí)間、尺寸和/或容量變化，而不限于此。在一些實(shí)施方式中，多個(gè)單室氧化浸出反應(yīng)器的連續(xù)室可以連續(xù)增加、減少、保持相同，或者根據(jù)停留時(shí)間、尺寸和/或容量變化，而不限于此。

還公開了一種在包括氧化浸出步驟的金屬硫化物的高出常壓的浸出過(guò)程中改善浸出動(dòng)力學(xué)和回收的系統(tǒng)和方法。在一些實(shí)施方式中，所述系統(tǒng)可以包括含有用于浸出的反應(yīng)器的氧化浸出回路，諸如在其中具有至少一個(gè)室的高壓釜。所述方法可以包括利用氧化浸出回路來(lái)氧化和/或浸出金屬硫化物的步驟。高壓釜可具有在其中的至少一個(gè)室。高壓釜的至少一個(gè)室可以包含一定量的預(yù)定類型的研磨介質(zhì)。研磨介質(zhì)的尺寸、直徑、形狀、密度、材料或類型可以是均一的。或者，研磨介質(zhì)的尺寸、直徑、形狀、密度、材料或類型可能不均一。高壓釜可以包括用于將研磨介質(zhì)引入到其中的至少一個(gè)室中和/或?qū)⑵湟瞥难b置。用于引入和/或移除研磨介質(zhì)的裝置可以包括以下中的一個(gè)或多個(gè)：料斗、儲(chǔ)備槽、泵，入口、出口、組合的入口/出口、至少一個(gè)閥或其組合。

進(jìn)一步公開了一種在金屬硫化物的高于常壓的浸出過(guò)程中改善浸出動(dòng)力學(xué)和回收的方法。所述方法可以包括一個(gè)或多個(gè)以下步驟：經(jīng)由浮選生產(chǎn)金屬硫化物精礦；將所產(chǎn)生的金屬硫化物精礦移動(dòng)到至少一個(gè)用于浸出的反應(yīng)器(例如，至少一個(gè)高壓釜浸出反應(yīng)器)的至少一個(gè)室；以及在氧氣存在下，在高于環(huán)境的壓力和/或溫度下，并且在至少一個(gè)室內(nèi)存在部分用過(guò)的和/或新的研磨介質(zhì)的情況下，在所述至少一個(gè)室中浸出所生產(chǎn)的金屬硫化物精礦。在一些實(shí)施方式中，所述方法還可以包括將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟。在一些實(shí)施方式中，至少一個(gè)室中的部分用過(guò)的或新的研磨介質(zhì)可以設(shè)置為與至少一個(gè)室中的金屬硫化物精礦相接觸。在一些實(shí)施方式中，至少一個(gè)室可以包括在其中的部分用過(guò)的或新的研磨介質(zhì)。在一些實(shí)施方式中，將所生產(chǎn)的金屬硫化物精礦移動(dòng)到至少一個(gè)高壓釜的至少一個(gè)室的步驟可以包括經(jīng)由第一入口將所產(chǎn)生的金屬硫化物精礦接收到至少一個(gè)高壓釜中。在一些實(shí)施方式中，所述方法可以包括經(jīng)由第一出口從至少一個(gè)高壓釜中提取浸出的漿料的步驟。在一些實(shí)施方式中，浸出的漿料可以包括超過(guò)可使用壽命的部分用過(guò)的研磨介質(zhì)。在一些實(shí)施方式中，所述方法還可以包括經(jīng)由用于引入新的研磨介質(zhì)的裝置來(lái)將新的研磨介質(zhì)引入到至少一個(gè)高壓釜的步驟。在一些實(shí)施方式中，用于將新的研磨介質(zhì)引入到至少一個(gè)高壓釜的裝置可以包括一個(gè)或多個(gè)料斗、一個(gè)或多個(gè)儲(chǔ)備室、一個(gè)或多個(gè)研磨介質(zhì)儲(chǔ)備和/或一個(gè)或多個(gè)泵，但不限于此。在一些實(shí)施方式中，一個(gè)或多個(gè)泵可以是正排量泵(positivedisplacementpump)，其設(shè)置為將所述新的研磨介質(zhì)移動(dòng)到至少一個(gè)高壓釜中。在一些實(shí)施方式中，研磨介質(zhì)可以包括陶瓷研磨珠。在一些實(shí)施方式中，在浸出系統(tǒng)內(nèi)浸出的金屬硫化物精礦可以包含硫砷銅礦。在一些實(shí)施方式中，用于將新的研磨介質(zhì)引入到至少一個(gè)高壓釜的裝置可以包括多個(gè)入口、多個(gè)出口和多個(gè)閥，但不限于此。

在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可以在低于220℃和高于70℃時(shí)進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可以在低于215℃和高于70℃時(shí)進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可以在低于210℃和高于70℃時(shí)進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可以在低于205℃和高于70℃時(shí)進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可以在低于200℃和高于70℃時(shí)進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可以在低于195℃和高于70℃時(shí)進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可以在低于190℃和高于70℃時(shí)進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可以在低于185℃和高于70℃時(shí)進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可以在低于180℃和高于70℃時(shí)進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可以在低于175℃和高于70℃時(shí)進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可以在低于170℃和高于70℃時(shí)進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可以在低于165℃和高于70℃時(shí)進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可以在低于160℃和高于70℃時(shí)進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可以在低于155℃和高于70℃時(shí)進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可以在低于150℃和高于70℃時(shí)進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可以在低于145℃和高于70℃時(shí)進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可以在低于140℃和高于70℃時(shí)進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可以在低于135℃和高于70℃時(shí)進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可以在低于130℃和高于70℃時(shí)進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可以在低于125℃和高于70℃時(shí)進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可以在低于120℃和高于70℃時(shí)進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可以在低于115℃和高于70℃時(shí)進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可以在低于110℃和高于70℃時(shí)進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可以在低于105℃和高于70℃時(shí)進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可以在低于100℃和高于70℃時(shí)進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可以在低于155℃和高于70℃時(shí)進(jìn)行。

在一些實(shí)施方式中，例如包含硫砷銅礦的金屬硫化物，對(duì)于將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟來(lái)說(shuō)特別有利的是在低于硫熔點(diǎn)(大約高于115℃和低于122℃，或在約118-120℃之間)和高于室溫(或環(huán)境溫度)時(shí)進(jìn)行，而不限于此。通過(guò)阻止元素硫進(jìn)入液態(tài)，可以避免鈍化。

將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可以在約70℃和約118℃之間，或約80℃和約118℃之間進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可以在約90℃和約118℃之間，或約100℃和約118℃之間進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可以在約110℃和約118℃之間進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可以在約70℃和約120℃之間，或約80℃和約120℃之間進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可以在約90℃和約120℃之間，或約100℃和約120℃之間進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可以在約110℃和約120℃之間進(jìn)行。

可能需要對(duì)金屬硫化物(例如，鐵金屬硫化物黃鐵礦)進(jìn)行基本或完全氧化以制備酸的實(shí)施方式，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可進(jìn)一步在高于100℃并低于220℃時(shí)進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可進(jìn)一步在高于110℃并低于220℃時(shí)進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可進(jìn)一步在高于120℃并低于220℃時(shí)進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可進(jìn)一步在高于130℃并低于220℃時(shí)進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可進(jìn)一步在高于140℃并低于220℃時(shí)進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可進(jìn)一步在高于150℃并低于220℃時(shí)進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可進(jìn)一步在高于160℃并低于220℃時(shí)進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可進(jìn)一步在高于170℃并低于220℃時(shí)進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可進(jìn)一步在高于180℃并低于220℃時(shí)進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可進(jìn)一步在高于190℃并低于220℃時(shí)進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可進(jìn)一步在高于200℃并低于220℃時(shí)進(jìn)行，但不限于此。

在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可在約110℃和約145℃之間進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可在約120℃和約150℃之間進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可在約125℃和約155℃之間進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可在約135℃和約150℃之間進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可在約140℃和約150℃之間進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可在約145℃時(shí)進(jìn)行。

在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物精礦中的硫化物基本氧化成硫酸鹽的步驟可以在約100℃和220℃之間進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，至少一個(gè)高壓釜可以設(shè)置為攪拌介質(zhì)反應(yīng)器。在一些實(shí)施方式中，至少一個(gè)高壓釜還可以包含至少一個(gè)攪拌介質(zhì)反應(yīng)器。

在一些實(shí)施方式中，高壓釜可以被設(shè)置用于浸出金屬硫化物，特別是硫砷銅礦。高壓釜可以包括至少一個(gè)隔室，用于接收金屬硫化物精礦(例如，經(jīng)由浮選生產(chǎn)的硫化物精礦)的第一入口，用于從高壓釜除去浸出的漿料的第一出口，和用于將研磨介質(zhì)引入到高壓釜的一個(gè)或多個(gè)的內(nèi)部部分的裝置。在一些實(shí)施方式中，用于將研磨介質(zhì)引入高壓釜的裝置可以包括一個(gè)或多個(gè)料斗、一個(gè)或多個(gè)儲(chǔ)備室、一個(gè)或多個(gè)研磨介質(zhì)儲(chǔ)備器和/或一個(gè)或多個(gè)泵[60]。在一些實(shí)施方式中，一個(gè)或多個(gè)泵可以包括設(shè)置成移動(dòng)研磨介質(zhì)的正排量泵。在一些實(shí)施方式中，研磨介質(zhì)可以包括陶瓷研磨珠，但不限于此。在一些優(yōu)選的實(shí)施方式中，金屬硫化物精礦可以包含硫砷銅礦。

本文公開的浸出金屬硫化物的方法可以包括以下步驟：(a)向至少一個(gè)反應(yīng)器[20]的至少一個(gè)室[22a]提供金屬硫化物精礦[34]，反應(yīng)器[20]其中可以包含研磨介質(zhì)。所述方法還可以包括以下步驟：(b)在氧氣[82]的存在下，在高于環(huán)境的壓力或溫度下，并且在至少一個(gè)室[22a]中存在研磨介質(zhì)的情況下，在至少一個(gè)室[22a]中浸出金屬硫化物精礦。在至少一個(gè)室[22a]中使用的研磨介質(zhì)可以接觸至少一個(gè)室[22a]內(nèi)的金屬硫化物精礦[34]并氧化金屬硫化物。所述方法還可以包括(d)將金屬硫化物精礦[34]中的金屬硫化物氧化成金屬硫酸鹽。在一些實(shí)施方式中，研磨介質(zhì)可以包括部分用過(guò)的研磨介質(zhì)[25]或新的研磨介質(zhì)[92]。在一些實(shí)施方式中，至少一個(gè)反應(yīng)器可包括高壓釜。

在一些實(shí)施方式中，所述方法還可以包括以下步驟：(e)經(jīng)由第一出口[28a]從至少一個(gè)反應(yīng)器[20]提取浸出的漿料[52]。在一些實(shí)施方式中，浸出的漿料[52]可以包括部分用過(guò)的研磨介質(zhì)[25]。在一些實(shí)施方式中，所述方法還可以包括以下步驟：(e)將新的研磨介質(zhì)[92]引入到至少一個(gè)反應(yīng)器[20]。在一些實(shí)施方式中，可以使用一個(gè)或多個(gè)料斗[90]將新的研磨介質(zhì)[92]引入到至少一個(gè)反應(yīng)器[20]。

在一些實(shí)施方式中，可以使用一個(gè)或多個(gè)可以用于儲(chǔ)備新的研磨介質(zhì)[92]的儲(chǔ)備室[96a-d]將新的研磨介質(zhì)[92]引入到至少一個(gè)反應(yīng)器[20]中。在一些實(shí)施方式中，可以使用研磨介質(zhì)儲(chǔ)備器[96]將新的研磨介質(zhì)[92]引入到至少一個(gè)反應(yīng)器[20]。在一些實(shí)施方式中，可以使用一個(gè)或多個(gè)泵[60]將新的研磨介質(zhì)[92]引入到至少一個(gè)反應(yīng)器[20]。在一些實(shí)施方式中，一個(gè)或多個(gè)泵[60]可以包括正排量泵。

在一些實(shí)施方式中，研磨介質(zhì)可以包括陶瓷研磨珠。然而，在本文中使用的并且在所附權(quán)利要求中使用的“研磨介質(zhì)”[92]可以包括非金屬硫化物(或其精礦)原生的外來(lái)物質(zhì)，并且可以包括任何一種或多種以下單獨(dú)或組合，但不限于此：高密度介質(zhì)(例如，陶瓷、高密度陶瓷或金屬珠、球，陶瓷振動(dòng)翻滾/去毛刺介質(zhì)，各種形狀的材料，諸如圓柱體、球體、切角圓柱體、切角三角棱柱、直切三角棱柱、切角橢圓棱柱、切角三星、圓柱楔形、圓錐形等)，顆粒介質(zhì)(例如，二氧化硅、砂、石英、冶煉爐渣，聚四氟乙烯)，低密度介質(zhì)(例如，各種形狀的聚合材料，諸如圓柱體、球體、切角圓柱體、角切三角棱柱、直切三角棱柱、切角橢圓棱柱、切角三星、圓柱楔形、圓錐形等，塑料振動(dòng)翻滾/去毛刺介質(zhì)，切碎的輪胎或輸送帶材料，碳，合成介質(zhì))。例如，在一些實(shí)施方式中，可以使用均一尺寸的珠形式的陶瓷介質(zhì)，但不限于此。

在一些實(shí)施方式中，金屬硫化物精礦包括可以由其中提取銅(cu)的硫砷銅礦。在一些實(shí)施方式中，金屬硫化物精礦可以包括鈷(co)，例如可以從其中提取鈷(co)的浸出緩慢的硫化鈷，但不限于此。在一些實(shí)施方式中，金屬硫化物精礦可以包括硫化鐵，諸如黃鐵礦(fes2)，其可以被完全氧化并用于制備或生成酸，例如稀酸，但不限于此。在一些實(shí)施方式中，金屬硫化物精礦可用于產(chǎn)生用作催化劑的鐵氧化劑(例如，用于上游浸出回路)，但不限于此。

在一些實(shí)施方式中，(例如，用于處理包含硫砷銅礦的金屬硫化物精礦)，將金屬硫化物氧化的步驟可以在約環(huán)境溫度至約120℃的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行，但不限于此。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物氧化的步驟可以在約70℃至約120℃的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物氧化的步驟可以在約80℃至約120℃的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，(例如，對(duì)于包括硫砷銅礦的金屬硫化物精礦)，將金屬硫化物氧化的步驟可以在約80℃至約硫或元素硫的熔點(diǎn)的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行，但不限于此。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物氧化的步驟可以在約70℃至約115℃的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行。

在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物氧化的步驟可以在約100至約220℃的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物氧化的步驟在約105至約210℃的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物氧化的步驟在約110至約200℃的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物氧化的步驟在約115至約190℃的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物氧化的步驟在約120至約180℃的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物氧化的步驟在約125至約170℃的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物氧化的步驟在約130至約160℃的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物氧化的步驟在約135至約150℃的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物氧化的步驟在約140至約150℃的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物氧化的步驟在約145℃的溫度進(jìn)行。

在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物氧化的步驟在約70℃和硫的熔融溫度之間進(jìn)行，其中金屬硫化物是硫砷銅礦。在一些實(shí)施方式中，將金屬硫化物氧化的步驟在約80℃至115℃之間進(jìn)行。在一些實(shí)施方式中，步驟(d)可以包括將金屬硫化物精礦[34]中的所有金屬硫化物基本氧化成金屬硫酸鹽，其中完成步驟(d)基本上將金屬硫化物精礦[34]中的所有金屬硫化物氧化成金屬硫酸鹽。在一些實(shí)施方式中，至少一個(gè)反應(yīng)器可以包括攪拌介質(zhì)反應(yīng)器[200]。

在一些優(yōu)選的實(shí)施方式中，高壓釜[20]可以被設(shè)置用于浸出金屬硫化物。在一些實(shí)施方式中，高壓釜[20]可以包括至少一個(gè)隔室[22a]，用于接收經(jīng)由浮選產(chǎn)生的金屬硫化物精礦[34]的第一入口[27a]，用于從高壓釜[20]去除浸出的漿料的第一出口[28a]，和用于將新的研磨介質(zhì)[92]引入高壓釜[20]的至少一個(gè)隔室的裝置。在一些實(shí)施方式中，用于將新的研磨介質(zhì)[92]引入高壓釜[20]的裝置包括一個(gè)或多個(gè)料斗[90]。在一些實(shí)施方式中，用于將新的研磨介質(zhì)[92]引入高壓釜[20]的裝置包括一個(gè)或多個(gè)儲(chǔ)備室[96a-d]。在一些實(shí)施方式中，用于將新的研磨介質(zhì)[92]引入高壓釜[20]的裝置包括研磨介質(zhì)儲(chǔ)備器[96]。在一些實(shí)施方式中，用于將新的研磨介質(zhì)[92]引入高壓釜[20]的裝置包括一個(gè)或多個(gè)泵[60]。在一些實(shí)施方式中，一個(gè)或多個(gè)泵[60]是正排量泵。在一些實(shí)施方式中，新的研磨介質(zhì)[92]包括陶瓷研磨珠。在一些實(shí)施方式中，金屬硫化物精礦包括硫砷銅礦。在一些實(shí)施方式中，高壓釜可以設(shè)置為攪拌介質(zhì)反應(yīng)器[200]。在一些實(shí)施方式中，高壓釜可以進(jìn)一步包括至少一個(gè)連接到高壓釜的攪拌介質(zhì)反應(yīng)器[200]。在一些實(shí)施方式中，高壓釜可設(shè)置為從金屬硫化物中浸出銅(cu)。在一些實(shí)施方式中，高壓釜可設(shè)置為從金屬硫化物中浸出金(au)。在一些實(shí)施方式中，高壓釜可設(shè)置為從金屬硫化物中浸出鈷(co)。

在一些實(shí)施方式中，高壓釜可以被設(shè)置為從金屬硫化物制備酸，其可被設(shè)置用于上游浸出。例如，在一些實(shí)施方式中，由金屬硫化物制備的酸可以包括稀酸。在一些實(shí)施方式中，金屬硫化物可以包含雙重難處理金精礦(double-refractorygoldconcentrate)。在一些實(shí)施方式中，金屬硫化物可以包含黃鐵礦(fes2)。在一些實(shí)施方式中，黃鐵礦(fes2)可用于制備酸，但不限于此。

在一些實(shí)施方式中，高壓釜可以被設(shè)置為從金屬硫化物制備鐵氧化劑，其中所述鐵氧化劑可被設(shè)置用于上游浸出。例如，在一些實(shí)施方式中，金屬硫化物可以包含黃鐵礦(fes2)。在一些實(shí)施方式中，黃鐵礦(fes2)可用于制備包含鐵氧化劑的產(chǎn)物，但不限于此。

根據(jù)一些實(shí)施方式，用于浸出金屬硫化物的高壓釜可以包括：用于接收經(jīng)由浮選產(chǎn)生的金屬硫化物精礦[34]的第一入口[27a]；用于接收含氧的液體或氣體的第二入口[27b]；用于接收新的研磨介質(zhì)[92]的第三入口[27c]；用于從高壓釜[20]去除浸出的漿料[52]的第一出口[28a]；用于排氣的第二出口[28b]；以及設(shè)置為儲(chǔ)備研磨介質(zhì)的至少一個(gè)隔室[22a]。研磨介質(zhì)可以設(shè)置為破壞金屬硫化物精礦中金屬硫化物顆粒的晶格結(jié)構(gòu)[34]，斷裂金屬硫化物精礦[34]中的金屬硫化物顆粒，機(jī)械化學(xué)處理在金屬硫化物精礦[34]中的金屬硫化物顆粒，和/或物理化學(xué)處理金屬硫化物精礦[34]中的金屬硫化物顆粒，但不限于此。

在整個(gè)說(shuō)明書中描述的高于常壓的氧化浸出可以獨(dú)立于浸出回路中，或者可以在之前進(jìn)行一個(gè)或多個(gè)預(yù)處理過(guò)程，諸如在wo/2015/095054中描述的浮選浸出方法(其通過(guò)引用并入本文)或還原預(yù)處理或浸出過(guò)程，但不限于此。

附圖說(shuō)明

為了補(bǔ)充正在進(jìn)行的描述，并且為了幫助更好地理解本發(fā)明的特征，示出了優(yōu)選的裝置及其使用方法的一組附圖作為其整體部分附加在本說(shuō)明書上，其中已經(jīng)描述了以下的說(shuō)明性和非限制性的特性。應(yīng)當(dāng)理解，附圖中使用的相同附圖標(biāo)記(如果使用任何)可以標(biāo)識(shí)類似的部件。

圖1是示出可以包括氧化浸出回路的流程的非限制性的示例性部分的示意圖，所述氧化浸出回路包括用于浸出的反應(yīng)器，諸如設(shè)置有多個(gè)隔室和研磨介質(zhì)的高壓釜；其中研磨介質(zhì)可以經(jīng)由諸如料斗的研磨介質(zhì)引入/去除裝置和重力而被提供到一個(gè)或多個(gè)隔室。

圖2是示出可以包括氧化浸出回路的流程的非限制性的示例性部分的示意圖，所述氧化浸出回路包括用于浸出的反應(yīng)器，諸如設(shè)置有多個(gè)隔室和研磨介質(zhì)的高壓釜；其中研磨介質(zhì)可以經(jīng)由正排量泵提供到一個(gè)或多個(gè)隔室，但不限于此。

圖3a-3b共同示出了可以包括氧化浸出回路的流程的非限制性的示例性部分，所述氧化浸出回路包括用于浸出的多個(gè)反應(yīng)器，諸如多個(gè)高壓釜，每個(gè)反應(yīng)器設(shè)置具有和/或設(shè)置為接收研磨介質(zhì)；其中研磨介質(zhì)可以經(jīng)由正排量泵提供到一個(gè)或多個(gè)反應(yīng)器，但不限于此。應(yīng)當(dāng)理解，可以不是多個(gè)反應(yīng)器中的每個(gè)都包含研磨介質(zhì)。

圖4a-4b共同示出了可以包括氧化浸出回路的流程的非限制性的示例性部分，所述氧化浸出回路包括用于浸出的多個(gè)反應(yīng)器，諸如多個(gè)高壓釜，每個(gè)高壓釜設(shè)置具有和/或設(shè)置為接收研磨介質(zhì)；其中研磨介質(zhì)可以經(jīng)由料斗(和重力)、經(jīng)由至少一個(gè)正排量泵和/或其組合提供給一個(gè)或多個(gè)高壓釜。

圖5示出了一系列反應(yīng)器，其包括攪拌介質(zhì)反應(yīng)器型(即“smrt”反應(yīng)器)的剪切釜反應(yīng)器，其可以被封蓋或可以不被封蓋(即，它們優(yōu)選是可加壓的)。如圖所示，攪拌介質(zhì)(smrt)反應(yīng)器可串聯(lián)或非串聯(lián)連接，并且其中一個(gè)或多個(gè)反應(yīng)器可能不會(huì)在高于環(huán)境的溫度或壓力下運(yùn)行。優(yōu)選地，所有反應(yīng)器都在高于環(huán)境的溫度或壓力下運(yùn)行。一個(gè)、一些或每個(gè)攪拌介質(zhì)反應(yīng)器可以具有類似的條件(例如，氧化還原電位、壓力、溫度、ph)，或者一個(gè)、一些或每個(gè)攪拌介質(zhì)反應(yīng)器可以在不同條件下操作(例如，氧化還原電位、壓力、溫度、ph)。雖然未示出，但是一個(gè)或多個(gè)其它反應(yīng)器，諸如一個(gè)或多個(gè)高壓釜，可以串聯(lián)或并聯(lián)放置在所示的攪拌的介質(zhì)反應(yīng)器之間，但不限于此。此外，一個(gè)、一些或所有攪拌介質(zhì)反應(yīng)器可以在與相鄰或操作連接的高壓釜20或其它反應(yīng)器的相似或不同的條件下操作，但不限于此。

圖6示出了多隔室反應(yīng)器，諸如包括被設(shè)置作為相對(duì)于彼此(即，級(jí)內(nèi))并聯(lián)布置的攪拌介質(zhì)反應(yīng)器的多個(gè)其它反應(yīng)器的高壓釜。攪拌介質(zhì)反應(yīng)器可以被封蓋(即，加壓的)或不封蓋。攪拌介質(zhì)反應(yīng)器可以串聯(lián)或非串聯(lián)布置。它們可以在常壓或高于環(huán)境的高溫(即，高于環(huán)境壓力)下運(yùn)行。一些或每個(gè)攪拌介質(zhì)反應(yīng)器可以具有相似的條件(例如，氧化還原電位、壓力、溫度、ph)，或者一些或每個(gè)攪拌介質(zhì)反應(yīng)器可以在不同條件下操作(例如，氧化還原電位、壓力、溫度、ph)。此外，攪拌介質(zhì)反應(yīng)器可以在與相鄰或操作連接高壓釜20的相似或不同的條件下操作，但不限于此。

圖7示出了與圖6中所示和描述的實(shí)施方式類似的又一實(shí)施方式，其中可以利用設(shè)置作為高壓釜20的多個(gè)反應(yīng)器。每個(gè)高壓釜20反應(yīng)器可以包括單個(gè)隔室或多個(gè)隔室，但不限于此。

圖8和9顯示了用于測(cè)試目的的原型實(shí)驗(yàn)室規(guī)模測(cè)試裝置的照片。

圖10示出了使用所公開的裝置、系統(tǒng)和方法的一個(gè)實(shí)施方式的浸出測(cè)試過(guò)程中的氧(o2)消耗速率。

在下文中，將結(jié)合示例性實(shí)施方式參考附圖來(lái)更詳細(xì)地描述本發(fā)明。

具體實(shí)施方式

附圖中所示的非限制性實(shí)施方式的以下描述本質(zhì)上僅僅是示例性的，并且絕不旨在限制本文公開的發(fā)明、其應(yīng)用或用途。

圖1-4b示出了如下非限制性實(shí)施方式，其中金屬回收流程的一部分可以包括包含至少一個(gè)浸出反應(yīng)器(諸如至少一個(gè)高壓釜)的氧化金屬浸出回路。金屬回收流程可以包括銅、金、鈷或鐵回收流程，但不限于此。至少一個(gè)浸出反應(yīng)器/高壓釜可以設(shè)置具有研磨介質(zhì)，任選的研磨介質(zhì)引入裝置，和/或可選的研磨介質(zhì)去除裝置。在一些優(yōu)選的實(shí)施方式中，可以允許研磨介質(zhì)25最終降解成小塊，其然后可以成為浸出的精礦漿料流的一部分，并且可以從系統(tǒng)中取出。在一些實(shí)施方式中，任選的研磨介質(zhì)引入裝置可以僅在攪拌器裝置26已經(jīng)開始旋轉(zhuǎn)，達(dá)到最小rpm和/或到達(dá)或接近操作rpm之后才用于引入新的研磨介質(zhì)92。在這方面，啟動(dòng)轉(zhuǎn)矩可以最小化，并隨著時(shí)間逐漸增加，以避免過(guò)早的馬達(dá)或變速器磨損以及停滯狀況。在根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的包含研磨介質(zhì)的反應(yīng)器或高壓釜試運(yùn)行時(shí)，也可以使用微動(dòng)驅(qū)動(dòng)器或輔助起動(dòng)馬達(dá)和傳動(dòng)裝置。

可以將研磨介質(zhì)92提供給反應(yīng)器/高壓釜20(例如，經(jīng)由任選的研磨介質(zhì)引入裝置或在反應(yīng)器/高壓釜20的組裝和/或制造過(guò)程中)，以便破壞浸出的漿料顆粒內(nèi)的晶格結(jié)構(gòu)(如前述共同未決的申請(qǐng)中所述)。如圖5-7所示，并非或除了其中具有研磨介質(zhì)的反應(yīng)器/高壓釜20和/或研磨介質(zhì)引入裝置之外，還可以將研磨介質(zhì)92提供給一個(gè)或多個(gè)外部反應(yīng)器，諸如攪拌介質(zhì)反應(yīng)器(稱為包含研磨介質(zhì)的“smrt”反應(yīng)器或“磨耗洗滌器”或“高剪切反應(yīng)器”)。一個(gè)或多個(gè)攪拌介質(zhì)反應(yīng)器可以設(shè)置具有一些高壓釜特征(即，它們可以被設(shè)置為具有保持壓力和/或適應(yīng)高溫的能力——優(yōu)選地在室溫和220℃之間的溫度)。

浸出系統(tǒng)10可以包括一個(gè)或多個(gè)反應(yīng)器，諸如一個(gè)或多個(gè)高壓釜20。一個(gè)或多個(gè)反應(yīng)器/高壓釜20可以包括改型高壓釜(modifiedautoclave)或加蓋的攪拌介質(zhì)反應(yīng)器(例如，密封或加蓋的“smrt”反應(yīng)器或磨耗洗滌器)的一個(gè)或多個(gè)特征，但不限于此。一個(gè)或多個(gè)反應(yīng)器/高壓釜20可以各自包括一個(gè)或多個(gè)分隔壁21。一個(gè)或多個(gè)分隔壁21可以限定反應(yīng)器/高壓釜20內(nèi)的一個(gè)或多個(gè)一個(gè)或多個(gè)室22a、22b、22c、22d。一個(gè)或多個(gè)室22a、22b、22c、22d可以包括至少第一室22a。在一些實(shí)施方式中，可以使用第二室22b、第三室22c和/或第四室22d?？梢允褂酶嗷蚋俚氖?2a、22b、22c、22d。室22a、22b、22c、22d可以相對(duì)于彼此相似地設(shè)置或獨(dú)特地設(shè)置。例如，第一室22a可以包括與在第二室22b中使用的相同類型的新的研磨介質(zhì)92。在另一個(gè)非限制性示例中，第一室22a可以包括與在第二室22b中所用的新的研磨介質(zhì)92不同的新的研磨介質(zhì)92。

在一些實(shí)施方式中，一個(gè)或多個(gè)反應(yīng)器/高壓釜20的每個(gè)室可以包括由驅(qū)動(dòng)器24供電的軸23。驅(qū)動(dòng)器24可以例如但不限于電動(dòng)或液壓馬達(dá)、變速器、傳動(dòng)裝置和/或其各種組合?？梢允褂脭嚢杵餮b置26，其可以包括例如一個(gè)或多個(gè)葉輪、槳葉、轉(zhuǎn)子、水翼、攪拌裝置、攪拌棒，其組合和/或類似物，并且其部件優(yōu)選地附接到驅(qū)動(dòng)器24另一端的軸的一部分。在一些實(shí)施方式中，如圖所示，攪拌器裝置26可以連接到鄰近軸23的遠(yuǎn)端部分的軸23，諸如在軸23的遠(yuǎn)端處。在一些實(shí)施例中(未示出)，攪拌裝置26可沿軸23的不同部分分布，包括其中間部分，但不限于此。應(yīng)當(dāng)理解，盡管在附圖中僅示出了一個(gè)水翼，但是可以在沿軸23的一個(gè)或多個(gè)部分上將多個(gè)攪拌裝置26配備到軸23，但不限于此。

在每個(gè)室22a、22b、22c、22d內(nèi)，所用(或用過(guò))的研磨介質(zhì)25可以通過(guò)攪拌裝置26直接介入或者間接影響，并在其各自的室22a、22b、22c、22d內(nèi)來(lái)回移動(dòng)。所用或用過(guò)的研磨介質(zhì)25可以碰撞入料精礦的顆粒(例如，從未示出的上游預(yù)處理槽接收的)。所用或用過(guò)的的研磨介質(zhì)25的各個(gè)塊也可能碰撞和/或相互碰撞。原位研磨介質(zhì)25可用于刷去、斷裂、破壞、改變或干擾可能在入料精礦32內(nèi)的浸出顆粒上形成的鈍化層。原位研磨介質(zhì)25還可用于破壞入料精礦32內(nèi)的未浸出和/或部分浸出的顆粒內(nèi)的下層晶格結(jié)構(gòu)。原位研磨介質(zhì)25還可用于機(jī)械化學(xué)活化或重新機(jī)械化學(xué)活化至少一個(gè)反應(yīng)器/高壓釜20內(nèi)的未浸出和/或部分浸出的顆粒。原位研磨介質(zhì)25還可以用于物理化學(xué)活化或重新物理化學(xué)活化至少一個(gè)反應(yīng)器/高壓釜20內(nèi)的未浸出和/或部分浸出的顆粒。已在過(guò)去的使用期粉碎的研磨介質(zhì)25可能會(huì)懸浮在漿料中，并最終進(jìn)入用于漿料排出的第一出口28a。

或者，在一些實(shí)施方式中，可能希望保持一個(gè)或多個(gè)浸出反應(yīng)器/高壓釜20內(nèi)的研磨介質(zhì)25的粒度分布。盡管未明確說(shuō)明，但在這種情況下，用過(guò)的研磨介質(zhì)25可以從一個(gè)或多個(gè)特定設(shè)置在一個(gè)或多個(gè)相應(yīng)的室22a、22b、22c、22d附近的下部出口取出。這種特別設(shè)置的下部出口可以類似于第一個(gè)28k、第二個(gè)28m和第三個(gè)28n出口，用于將漿料移動(dòng)到圖6所示的攪拌介質(zhì)反應(yīng)器；然而，不同于進(jìn)入攪拌介質(zhì)反應(yīng)器，可以將提取的漿料從介質(zhì)25分離或以其它方式從介質(zhì)25中除去，漿料可以返回到系統(tǒng)中，并且介質(zhì)25可以被洗滌、篩選、丟棄或再循環(huán)。與一個(gè)或多個(gè)特別設(shè)置的下部出口成一直線并且鄰近的一個(gè)或多個(gè)閥門100可以間歇地提取研磨介質(zhì)25。

一個(gè)或多個(gè)浸出反應(yīng)器/高壓釜20可以包括，但不限于，用于由上游濃縮器(未示出)所產(chǎn)生的精礦32的進(jìn)入的第一入口27a。精礦32可能已經(jīng)在上游預(yù)調(diào)理槽(未示出)中用酸進(jìn)行漿化，或者酸可被添加到精礦儲(chǔ)備槽30中。一個(gè)或多個(gè)反應(yīng)器/高壓釜20還可以包括用于液體和/或氣體進(jìn)入(例如，引入液體和/或氣態(tài)氧氣)的第二入口27b，用于接收新的研磨介質(zhì)92的第一入口27c，用于接收新的研磨介質(zhì)92的第二入口27d，和用于接收新的研磨介質(zhì)的第三入口27e。第一27c、第二27d和第三27e入口可以被布置成分別供給第一22a、第二22b和第三22c室(例如，被布置成垂直于每個(gè)室)。

雖然未示出，但也可以或替代地將新介質(zhì)92添加到精礦儲(chǔ)備槽30(例如，可以位于預(yù)調(diào)理槽下游和一個(gè)或多個(gè)浸出反應(yīng)器/高壓釜20上游的儲(chǔ)備槽)。在這方面，包含在精礦儲(chǔ)備槽30內(nèi)的貯存精礦32可以用作將研磨介質(zhì)92輸送并引入到反應(yīng)器/高壓釜20的裝置。換言之，憑借進(jìn)入一個(gè)或多個(gè)反應(yīng)器/高壓釜20的精礦32的流動(dòng)，入料精礦32可將新的研磨介質(zhì)92攜帶到一個(gè)或多個(gè)反應(yīng)器/高壓釜20的一個(gè)或多個(gè)室22a、22b、22c、22d。一個(gè)或多個(gè)反應(yīng)器/高壓釜20可進(jìn)一步包括但不限于，用于引入再循環(huán)萃余液42(例如，cu萃余液)的第一入口27f，用于再循環(huán)萃余液42的第二入口27g，用于再循環(huán)萃余液42的第三入口27h，和/或用于再循環(huán)萃余液42的第四入口27i，這些入口可以被布置為分別供給第一22a、第二22b、第三22c和第四22d室。

一個(gè)或多個(gè)反應(yīng)器/高壓釜20還可以包括，但不限于，用于氣體排放的第二出口28b(其中在一個(gè)或多個(gè)高壓釜20內(nèi)的化學(xué)反應(yīng)過(guò)程中產(chǎn)生的氣體可能被驅(qū)除/排出)，用于可以貯存在第一研磨介質(zhì)儲(chǔ)備室96a中的研磨介質(zhì)的干舷氣體沖洗(freeboardgasflushing)的第一出口28c，用于可以貯存在第二研磨介質(zhì)儲(chǔ)備室96b中的研磨介質(zhì)的干舷氣體沖洗的第二入口28d，和用于可以貯存在第三研磨介質(zhì)儲(chǔ)備室96c中的研磨介質(zhì)的干舷氣體沖洗的第三出口28e。一個(gè)或多個(gè)閥100可以位于一個(gè)或多個(gè)反應(yīng)器/高壓釜20的容器主體和相應(yīng)的研磨介質(zhì)儲(chǔ)備室96a、96b、96c之間。

在浸出系統(tǒng)10中使用第四室22d的情況下，可以有利地使用和利用用于可以貯存在第四研磨介質(zhì)儲(chǔ)備室96d中的新的研磨介質(zhì)92的干舷氣體沖洗的第四出口28f。可以向至少一個(gè)反應(yīng)器/高壓釜20配備用于引入新的研磨介質(zhì)的第四入口27j，用于使新的研磨介質(zhì)能夠進(jìn)入第四室22d。

可以設(shè)置為從預(yù)調(diào)理槽(未示出)接收入料精礦34并且還被設(shè)置為在環(huán)境(和/或高于環(huán)境)的溫度和/或壓力下容納貯存的精礦32的精礦儲(chǔ)備槽30可以被定位在預(yù)調(diào)理槽的下游，所述預(yù)調(diào)理槽混合了酸和由上游濃縮器產(chǎn)生的精礦。再循環(huán)萃余液儲(chǔ)備槽40可以含有貯存的再回收萃余液42(例如，用于銅金屬回收過(guò)程的cu萃余液)，例如，可以含有從下游的溶劑萃取(sx)回路接收的入料再循環(huán)萃余液44。貯存的再循環(huán)萃余液42可以憑借一個(gè)或多個(gè)泵60和閥100將它們通到一個(gè)或多個(gè)反應(yīng)器/高壓釜20的一個(gè)或多個(gè)室22a-d。例如，如圖所示，閥100可以鄰近用于再循環(huán)萃余液42的第一27f、第二個(gè)27g、第三27h和/或第四27i入口，以及鄰近圖中描繪的到一個(gè)或多個(gè)反應(yīng)器/高壓釜20的其它入口和出口。

當(dāng)入料精礦32從室22a-d前進(jìn)至室22a-d時(shí)，浸出的漿料可以最終經(jīng)由一個(gè)或多個(gè)第一出口28a離開至少一個(gè)反應(yīng)器/高壓釜20。然后可以將排出的漿料經(jīng)由一個(gè)或多個(gè)泵60接著移動(dòng)到包含貯存的浸出漿料52的浸出的漿料儲(chǔ)備槽50中。離開浸出的漿料儲(chǔ)備槽50的離開的浸出漿料54可以被送到脫水過(guò)程，其中固體可以再循環(huán)到浸出系統(tǒng)10中，被送到尾料和/或用于貴金屬的分開處理(例如，送到熔煉過(guò)程)，并且其中液體可以向下游移動(dòng)到未示出的溶劑萃取(sx)過(guò)程。在本文中使用的情況下，如文中所述的術(shù)語(yǔ)“泵”，在附圖中以附圖標(biāo)記60示出，可以包括一個(gè)或多個(gè)任何所需類型的泵。例如，在一些非限制性實(shí)施方式中，離心泵60可用于移動(dòng)/輸送較小粘度的漿料，且正排量泵60可用于移動(dòng)/輸送研磨介質(zhì)92(無(wú)論研磨介質(zhì)是干燥的還是懸浮的在輸送介質(zhì)中)。入料研磨介質(zhì)94可以被接收到料斗90中或放置在常壓或可加壓的儲(chǔ)備器96中，但不限于此。在一些優(yōu)選的實(shí)施方式中，一個(gè)或多個(gè)螺旋泵60可有利地用于輸送新的92或用過(guò)的25個(gè)研磨介質(zhì)。

可能在至少一個(gè)反應(yīng)器/高壓釜20的容器主體內(nèi)隨時(shí)間積聚的氣體可以經(jīng)由一個(gè)或多個(gè)第二出口28b離開，并且可以進(jìn)入一個(gè)或多個(gè)閃蒸容器/氣體儲(chǔ)備容器70。包含在該容器70中的貯存氣體72可以包含蒸氣相和/或凝聚液相。盡管未示出，但是可以采用一個(gè)或多個(gè)熱交換器/冷凝器用于相鄰導(dǎo)管，或直接用于這種容器70，并且諸如一個(gè)或多個(gè)出口和閥100的液體移除裝置可以位于這樣的容器70的下部附近，以便提取可能在容器70內(nèi)積聚的凝聚液體。離開一個(gè)或多個(gè)閃蒸容器/氣體儲(chǔ)備容器70的排出氣體74(例如，氣相和/或凝聚相)可以在浸出系統(tǒng)10內(nèi)再循環(huán)，洗滌/處理用于處置、排放到大氣中(例如，作為co2排放)，或在單獨(dú)的下游回路中進(jìn)一步處理，但不限于此。

浸出系統(tǒng)10還可以包括用于容納液體和/或氣體(例如，液氧)的儲(chǔ)備槽80。貯存的液體和/或氣體82(例如，液氧)可能離開儲(chǔ)備槽80并經(jīng)由一個(gè)或多個(gè)第二入口27b進(jìn)入至少一個(gè)高壓釜20的一個(gè)或多個(gè)室22a-d，用于引入入料液體和/或氣體84(例如，液氧)并將其暴露于在至少一個(gè)高壓釜20內(nèi)進(jìn)行浸出/機(jī)械化學(xué)處理的精礦32。

根據(jù)一些實(shí)施方式，可以打開閥100，并且新的研磨介質(zhì)92經(jīng)由泵60泵入至少一個(gè)反應(yīng)器/高壓釜20的至少一個(gè)室22a-d中，其中泵60可以是正排量泵。在一些實(shí)施方式中，如3a-4b所示，新的研磨介質(zhì)92可以經(jīng)由中間研磨介質(zhì)儲(chǔ)備器96或存儲(chǔ)室96a-d被輸送到至少一個(gè)反應(yīng)器/高壓釜20的至少一個(gè)室22a-d。在這方面，可以在將新的研磨介質(zhì)92裝載到至少一個(gè)反應(yīng)器/高壓釜20中的步驟之前建立壓力平衡。本領(lǐng)域普通技術(shù)人員將容易理解和意識(shí)到，料斗90可以被設(shè)置為可加壓的，諸如研磨介質(zhì)儲(chǔ)備器96，并且這可以稍微消除對(duì)儲(chǔ)備室96a-d的需要。本領(lǐng)域普通技術(shù)人員將容易理解和意識(shí)到，可能不需要料斗90，并且可以將新的研磨介質(zhì)92分別裝載到儲(chǔ)備室96a-d中?？梢栽诿總€(gè)儲(chǔ)備室96a-d中使用類似或不同類型的研磨介質(zhì)92。此外，在每個(gè)儲(chǔ)備室96a-d中的研磨介質(zhì)的尺寸分布、材料、硬度、密度和/或形狀可以相似或可以不同，但不限于此。

根據(jù)一些示例性實(shí)施方式(見圖1)，閥100可以選擇性地打開和關(guān)閉，以允許新的研磨介質(zhì)92經(jīng)由重力經(jīng)由一個(gè)或更多的中間研磨介質(zhì)儲(chǔ)備室96a-d落入至少一個(gè)反應(yīng)器/高壓釜20的至少一個(gè)室22a-d中。中間研磨介質(zhì)儲(chǔ)備室96a-d可以最初被減壓，并且可以從料斗90接收新的研磨介質(zhì)以便于裝載，所述料斗90可以保持在常壓下。此時(shí)，儲(chǔ)備室96a-d和至少一個(gè)反應(yīng)器/高壓釜20之間的其它閥可以是最初關(guān)閉的。然后可以封閉閥100，所述閥100可以是計(jì)算機(jī)控制閥并可以位于料斗90和儲(chǔ)備室96a-d之間。隨后，可以打開儲(chǔ)備室96a-d和至少一個(gè)反應(yīng)器/高壓釜20之間的閥100，以同時(shí)對(duì)儲(chǔ)備室96a-d加壓并經(jīng)由重力或經(jīng)由壓力差將其內(nèi)容物(即，其中所含的新的研磨介質(zhì)92)釋放到至少一個(gè)反應(yīng)器/高壓釜20的一個(gè)相應(yīng)的室22a-d?？梢允褂冒ㄆ叫泄艿篮烷y的一個(gè)或多個(gè)干舷機(jī)構(gòu)來(lái)平衡壓力，或產(chǎn)生壓力差以有助于從儲(chǔ)備室96a-d去除剩余的研磨介質(zhì)92。例如，如附圖所示和從圖中固有地得到，出口28c、28d、28e和28f可用于通過(guò)使用至少一個(gè)反應(yīng)器/高壓釜20內(nèi)部的壓力沖洗來(lái)自儲(chǔ)備室96a-d的剩余的新的研磨介質(zhì)92。

根據(jù)一些實(shí)施方式，如圖5所示，可以使用各種反應(yīng)器的組合，諸如攪拌介質(zhì)反應(yīng)器200，以定義根據(jù)本發(fā)明的某些實(shí)施方式的浸出系統(tǒng)10。根據(jù)一些實(shí)施方式，如圖6和7所示，可以使用反應(yīng)器/高壓釜20和攪拌介質(zhì)反應(yīng)器200的各種組合來(lái)定義根據(jù)本發(fā)明的某些實(shí)施方式的浸出系統(tǒng)10。例如，每個(gè)具有一個(gè)或多個(gè)隔室22a-d的一個(gè)或多個(gè)反應(yīng)器/高壓釜20可以與其中具有一個(gè)或多個(gè)室的一個(gè)或多個(gè)攪拌介質(zhì)反應(yīng)器200串聯(lián)或并聯(lián)或其組合/排列可操作地連接，但不限于此。在一些實(shí)施方式中，一個(gè)或多個(gè)或所有反應(yīng)器/高壓釜20可以包含或不包含研磨介質(zhì)25。在一些實(shí)施方式中，一些攪拌介質(zhì)反應(yīng)器200可以不包含研磨介質(zhì)。在一些實(shí)施方式中，反應(yīng)器/高壓釜20中的一些室22a-d可以不包含研磨介質(zhì)?？梢源嬖诟鞣N排列，其中至少一個(gè)反應(yīng)器/高壓釜20和至少一個(gè)攪拌介質(zhì)反應(yīng)器200兩者的室可以包含或可以不包含研磨介質(zhì)，以便根據(jù)入料精礦32的特定組成并且為了最佳的能量效率定制。

盡管未示出，但在一些實(shí)施方式中，多個(gè)室22a-d可以共享單個(gè)攪拌介質(zhì)反應(yīng)器200并且可操作地連接到單個(gè)攪拌介質(zhì)反應(yīng)器200或與單個(gè)攪拌介質(zhì)反應(yīng)器200連通，由此減少資本和運(yùn)營(yíng)支出。在一些實(shí)施方式中，研磨介質(zhì)92在反應(yīng)器/高壓釜20和/或攪拌介質(zhì)反應(yīng)器200的室中的平均尺寸分布和/或密度可以相似或不同。例如，反應(yīng)器/高壓釜20的第一室22a可以包含與反應(yīng)器/高壓釜20的第二室22b中的不同的新的研磨介質(zhì)92，但不限于此。作為另一個(gè)非限制性實(shí)例，反應(yīng)器/高壓釜20的第一室22a可以包含與反應(yīng)器/高壓釜20的第二室22b不同的新的研磨介質(zhì)92。作為另一非限制性實(shí)例，反應(yīng)器/高壓釜20的第一室22a可以包含與攪拌介質(zhì)反應(yīng)器200的室中使用的不同的新的研磨介質(zhì)92，所述攪拌介質(zhì)反應(yīng)器200的室與所述第一室22a可操作連接。作為另一非限制性實(shí)例，第一攪拌介質(zhì)反應(yīng)器200可以包含與第二攪拌介質(zhì)反應(yīng)器200中使用的不同的新研磨介質(zhì)92，所述第二攪拌介質(zhì)反應(yīng)器200在第一攪拌介質(zhì)反應(yīng)器200的下游。作為另一非限制性實(shí)例，反應(yīng)器/高壓釜20的第一室22a可包含研磨介質(zhì)25，其中相同反應(yīng)器/高壓釜20的第二室22b不包含研磨介質(zhì)25。根據(jù)另一非限制性實(shí)例，反應(yīng)器/高壓釜20的第一室22a可以不包含研磨介質(zhì)25，其中同一反應(yīng)器/高壓釜20的第二室22b包含研磨介質(zhì)25。根據(jù)另一非限制性實(shí)例，第一反應(yīng)器/高壓釜20的第一室22a可以不包含研磨介質(zhì)25，其中另一個(gè)反應(yīng)器/高壓釜20的第二室22b包含研磨介質(zhì)25。根據(jù)另一非限制性實(shí)例，第一反應(yīng)器/高壓釜20的第一室22a可以包含研磨介質(zhì)25，其中另一個(gè)反應(yīng)器/高壓釜20的第二室22b不包含研磨介質(zhì)25?？梢源嬖谄渌帕校渲邪辽僖粋€(gè)反應(yīng)器/高壓釜20和至少一個(gè)攪拌器介質(zhì)反應(yīng)器200的組中的至少一個(gè)室包含研磨介質(zhì)25。

雖然在本申請(qǐng)中沒(méi)有明確表示，如在2014年8月11日提交的題為“systemforoptimizingefficiencyofsmeltingcopperconcentrates,andmethodsthereof”的第62/036,038號(hào)的有關(guān)美國(guó)臨時(shí)專利申請(qǐng)中建議，可以用分析設(shè)備測(cè)量精礦(特別是，含砷精礦，其可以包括硫化銅砷、硫砷銅礦和/或砷黃鐵礦)和由濃縮器(例如，浸出系統(tǒng)10上游的銅濃縮器)，以確定產(chǎn)生的精礦的組成。分析設(shè)備可用于確定砷或其他有害雜質(zhì)的含量、數(shù)量、百分比或濃度，根據(jù)冶煉廠合同砷和這些有害雜質(zhì)可能引起處罰或費(fèi)用的。離開上游濃縮器的產(chǎn)生的精礦(例如，銅開采操作下游和浸出系統(tǒng)10上游的的銅濃縮器)可以根據(jù)砷或其它有害雜質(zhì)的水平、量、百分比或濃度進(jìn)行分類。在確定產(chǎn)生的精礦具有低水平、量、百分比或濃度的砷或其他有害雜質(zhì)，和/或砷或其他有害雜質(zhì)的水平、量、百分比或濃度落在預(yù)定的閾值以下的日期或時(shí)間段或間隔，所產(chǎn)生的精礦可以包裹用于熔煉和/或送到冶煉廠。在確定產(chǎn)生的精礦具有高水平、量、百分比或濃度的砷或其他有害雜質(zhì)，和/或砷或其他有害雜質(zhì)的水平、量、百分比或濃度高于預(yù)定的閾值的日期或時(shí)間段或間隔，所產(chǎn)生的精礦可以臨時(shí)隔離，和/或輸送到如本文所述的浸出系統(tǒng)10。可以根據(jù)冶煉廠合同的條款和條件，關(guān)于雜質(zhì)的處罰來(lái)設(shè)定或調(diào)整預(yù)定的閾值。

盡管未示出，在圖中示出并在此描述的入口27a-n和出口28a-n，可以提供一個(gè)或多個(gè)篩網(wǎng)、過(guò)濾元件或可滲透的屏障，以防止新的92或用過(guò)的研磨介質(zhì)25流出特定的位置。例如，篩網(wǎng)可以永久地或可移除地固定到鄰近構(gòu)成入口或出口的孔口的分隔壁21，但不限于此。在一些實(shí)施方式中，在特定浸出步驟之后，除了或替代篩網(wǎng)、過(guò)濾元件或可滲透或障礙物(未示出)之外，通過(guò)諸如旋風(fēng)分離、篩選等的固液分離技術(shù)，可將研磨介質(zhì)(無(wú)論是新的或用過(guò)的)與完全或部分浸出的漿料52分離，但不限于此。洗滌可以在固液分離之前和/或之后進(jìn)行，以確保從所使用的研磨介質(zhì)25中除去所有漿料52。

可以有利地利用研磨介質(zhì)92的常見或獨(dú)有的尺寸分布?？梢酝ㄟ^(guò)周期性地去除所有用過(guò)的研磨介質(zhì)25并用所有新的研磨介質(zhì)92代替它來(lái)構(gòu)成和維持常見的尺寸分布，其中新的研磨介質(zhì)92的每個(gè)成分包括相似的平均粒度或直徑。可以通過(guò)去除一些或不去除用過(guò)的研磨介質(zhì)25并且用所有新的研磨介質(zhì)92替換其中的一些來(lái)構(gòu)成獨(dú)有或隨機(jī)的尺寸分布。在一些實(shí)施方式中，可以通過(guò)使用新的包括具有不同平均粒度或直徑的成分的研磨介質(zhì)92，來(lái)建立獨(dú)有或隨機(jī)的尺寸分布。在這方面，可以建立和維持關(guān)于精礦32顆粒與研磨介質(zhì)接觸的某些程度的“隨機(jī)化”。此外，可以建立在室22a-d內(nèi)的研磨介質(zhì)的更大的填裝密度。相同的原理也適用于密度分布。例如，可以連同所描述的裝置和方法有利地利用研磨介質(zhì)類型、材料或密度的常見或獨(dú)有/隨機(jī)分布。

盡管本文所示的和描述的系統(tǒng)、組件和方法主要以良好的方式適用硫砷銅礦，但是應(yīng)當(dāng)理解，類似的系統(tǒng)、組件和方法可以有利地用于以下中的一種或多種：黃銅礦浸出、黃鐵礦浸出、砷黃鐵礦浸出和/或其各種組合，但不限于此。

盡管未示出，但是在一些實(shí)施方式中，圖5-7中所示的任何兩個(gè)或更多個(gè)攪拌介質(zhì)反應(yīng)器200可以結(jié)合在一起以產(chǎn)生由單個(gè)分隔壁21限定的單個(gè)室。或者，在一些實(shí)施方式中，圖5-7中所示的任何兩個(gè)或更多個(gè)攪拌介質(zhì)反應(yīng)器200可以結(jié)合在一起以產(chǎn)生包括由多個(gè)分隔壁21限定的多個(gè)室的單一攪拌介質(zhì)反應(yīng)器200。

根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施方式，可以進(jìn)行低ph浮選步驟和/或低ph固/液分離步驟(在本具體申請(qǐng)中未示出，但在上述參考的共同未決申請(qǐng)中描述)，以便在使用本文公開的浸出系統(tǒng)10的裝置、系統(tǒng)和方法的氧化浸出步驟之前，從金屬硫化物精礦中分離脈石(例如，黃鐵礦)、除去雜質(zhì)和/或提取和濃縮其它有價(jià)礦物(例如，鉬、貴金屬)。在這方面，在氧化浸出步驟中處理的金屬硫化物精礦的量可以最小化，并且可以降低諸如可消耗試劑成本的營(yíng)運(yùn)(opex)支出。此外，在使用本文所公開的浸出系統(tǒng)10的裝置、系統(tǒng)和方法的氧化浸出步驟之前，可以采用還原浸出或預(yù)處理過(guò)程。在這方面，包含大量黃銅礦的進(jìn)料可能經(jīng)歷有利的浸出動(dòng)力學(xué)和比通常預(yù)期的更快的浸出時(shí)間。

在一些實(shí)施方式中，通過(guò)使用根據(jù)一些實(shí)施方式的浸出系統(tǒng)10來(lái)進(jìn)行硫化物到硫酸鹽的基本上完全轉(zhuǎn)化(即，在浸出的精礦中基本上所有硫的“燃燒”或“氧化”)。

實(shí)施例1

進(jìn)行一系列浸出試驗(yàn)以說(shuō)明本發(fā)明方法的一個(gè)或多個(gè)實(shí)施方式的優(yōu)越性能。含有原生和次生硫化銅混合物的浮選精礦(包括硫砷銅礦)在10wt％的固體和145℃時(shí)在硫酸鐵浸濾液中浸出。浸出容器內(nèi)的總壓力(即，蒸汽+氧氣)約為7.5巴。提供冷卻以在整個(gè)測(cè)試中保持恒定的溫度。進(jìn)行一個(gè)具有添加的陶瓷研磨介質(zhì)的浸出試驗(yàn)，以說(shuō)明本發(fā)明的益處。在相同的條件下進(jìn)行參考試驗(yàn)，除了不包括研磨介質(zhì)。將容器密封并加熱，然后用1lo2凈化。在浸出試驗(yàn)過(guò)程中，反應(yīng)器保持在恒定的氧分壓下。隨著氧化浸出反應(yīng)的進(jìn)行，記錄了從壓縮氣缸向反應(yīng)器的o2流動(dòng)。測(cè)試過(guò)程中的o2消耗速率如圖10所示。本領(lǐng)域技術(shù)人員將認(rèn)識(shí)到，在研磨介質(zhì)存在下的氧化浸出反應(yīng)顯著快于在不存在研磨介質(zhì)下進(jìn)行的參考試驗(yàn)。不希望受到任何具體的理論的限制，我們認(rèn)為研磨介質(zhì)的作用或影響代替升高的溫度來(lái)加速化學(xué)反應(yīng)。換言之，與不使用研磨介質(zhì)的常規(guī)高壓釜相比，等同的反應(yīng)速率和反應(yīng)程度可在顯著較低的反應(yīng)器溫度下在加壓攪拌介質(zhì)反應(yīng)器中實(shí)現(xiàn)。在某些情況下，需要溫度為180-220℃的反應(yīng)可以在低至120-140℃的溫度和相當(dāng)?shù)臅r(shí)間下進(jìn)行。在本例中，觀察到硫化物基本上完全轉(zhuǎn)化為硫酸鹽(即，在浸出的精礦中基本上所有的硫的“燃燒”或“氧化”)發(fā)生在約145℃，盡管認(rèn)為接近100-110℃的溫度可能會(huì)產(chǎn)生類似的結(jié)果。

應(yīng)當(dāng)知道，本文詳細(xì)示出和描述的具體特征、過(guò)程和益處本質(zhì)上僅是示例性的，并且不應(yīng)限制本發(fā)明的范圍。此外，雖然已經(jīng)根據(jù)具體實(shí)施方式和應(yīng)用描述了本發(fā)明，但是鑒于該教導(dǎo)，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員可以在不偏離所要求保護(hù)的發(fā)明的精神或超出所要求保護(hù)的發(fā)明的范圍的情況下產(chǎn)生額外的實(shí)施方式和修改。例如，在本文中使用的并且當(dāng)提到共同未決的相關(guān)申請(qǐng)時(shí)，術(shù)語(yǔ)“高壓釜”、“攪拌介質(zhì)反應(yīng)器”、“smrt反應(yīng)器”、“智能反應(yīng)器”和“磨耗洗滌器”可以共享一個(gè)或多個(gè)機(jī)械特征，和/或可以在功能上共享一個(gè)或多個(gè)相似性，但不限于此。在一些實(shí)施方式中，在本文和其它所提及的共同未決申請(qǐng)中使用的，術(shù)語(yǔ)“攪拌介質(zhì)反應(yīng)器”，“smrt反應(yīng)器”和/或“智能反應(yīng)器”可被認(rèn)為是在浸出系統(tǒng)10中使用的“改性的高壓釜”和/或“改性的磨耗洗滌器”。例如，根據(jù)一些實(shí)施方式，可以以比傳統(tǒng)的高壓釜的更低的成本更廉價(jià)地構(gòu)建“攪拌介質(zhì)反應(yīng)器”、“smrt反應(yīng)器”和/或“智能反應(yīng)器”，并且可以不一定設(shè)置為如在更傳統(tǒng)的意義上的常規(guī)高壓釜承受那樣高的壓力或高的溫度。例如，在一些實(shí)施方式中，“攪拌介質(zhì)反應(yīng)器”、“smrt反應(yīng)器”和/或“智能反應(yīng)器”可以不需要磚襯，并且可以僅需要聚四氟乙烯襯墊等。在一些實(shí)施方式中，“攪拌介質(zhì)反應(yīng)器”、“smrt反應(yīng)器”和/或“智能反應(yīng)器”可以被設(shè)置成從用于浸出的傳統(tǒng)高壓釜不能發(fā)現(xiàn)的內(nèi)部接收、容納和/或去除研磨介質(zhì)。

本文使用的術(shù)語(yǔ)“高壓釜”可以在金屬選礦或萃取冶金領(lǐng)域內(nèi)包含其一般含義，或者可以包括可用于金屬選礦或萃取冶金的反應(yīng)器或浸出反應(yīng)器，特別是被設(shè)置為在高溫和/或高壓下操作的反應(yīng)器或浸出反應(yīng)器，但不限于此。在本說(shuō)明書(或權(quán)利要求書)中出現(xiàn)的術(shù)語(yǔ)“反應(yīng)器”和“高壓釜”可以互換使用，而不偏離本公開的范圍和意圖。

因此，應(yīng)當(dāng)理解，這里的附圖和描述是通過(guò)示例的方式提供的，以便于理解本發(fā)明，并且不應(yīng)被解釋為限制其范圍。

附圖標(biāo)記說(shuō)明

10浸出系統(tǒng)

20浸出反應(yīng)器/高壓釜

21分隔壁

22a第一室/隔室

22b第二室/隔室

22c第三室/隔室

22d第四室/隔室

22e第五室/隔室

22f第六室/隔室

23軸

24驅(qū)動(dòng)器(例如，包括電動(dòng)或液壓馬達(dá)、變速器、傳動(dòng)裝置等)

25所用/用過(guò)的研磨介質(zhì)

26攪拌裝置(例如，葉輪、槳葉、轉(zhuǎn)子、水翼、攪拌器)

27a用于精礦進(jìn)入的第一入口

27b用于液體和/或氣體(例如，液氧)進(jìn)入的第二入口

27c用于研磨介質(zhì)的第一入口

27d用于研磨介質(zhì)的第二入口

27e用于研磨介質(zhì)的第三入口

27f用于再循環(huán)萃余液(例如，cu萃余液)的第一入口

27g用于再循環(huán)萃余液(例如，cu萃余液)的第二入口

27h用于再循環(huán)萃余液(例如，cu萃余液)的第三入口

27i用于再循環(huán)萃余液(例如，cu萃余液)的第四入口

27j用于研磨介質(zhì)的第四入口

27k用于來(lái)自攪拌介質(zhì)反應(yīng)器的漿料的第一入口

27m用于來(lái)自攪拌介質(zhì)反應(yīng)器的漿料的第二入口

27n用于來(lái)自攪拌介質(zhì)反應(yīng)器的漿料的第三入口

28a用于漿料排出的第一出口

28b用于漿料排出的第二出口

28c用于在儲(chǔ)備室中的研磨介質(zhì)的干舷氣體沖洗的第一出口

28d用于在儲(chǔ)備室中的研磨介質(zhì)的干舷氣體沖洗的第二出口

28e用于在儲(chǔ)備室中的研磨介質(zhì)的干舷氣體沖洗的第三出口

28f用于在儲(chǔ)備室中的研磨介質(zhì)的干舷氣體沖洗的第四出口

28k用于去往攪拌介質(zhì)反應(yīng)器的漿料的第一出口

28m用于去往攪拌介質(zhì)反應(yīng)器的漿料的第二出口

28n用于去往攪拌介質(zhì)反應(yīng)器的漿料的第三出口

30精礦儲(chǔ)備槽(例如，在未示出的預(yù)調(diào)理槽的下游)

32貯存的精礦

34入料精礦(例如，從未示出的預(yù)調(diào)理槽的下游接收)

40再循環(huán)萃余液儲(chǔ)備槽

42貯存的再循環(huán)萃余液(例如，cu萃余液)

44入料再循環(huán)萃余液(例如，cu萃余液)

50浸出的漿料儲(chǔ)備槽

52貯存的浸出漿料

54離開的浸出漿料

60泵(例如，離心、正排量)

70閃蒸容器/氣體儲(chǔ)備容器

72貯存的氣體(例如，蒸汽相和/或凝聚相)

74離開氣體(例如，蒸汽相和/或凝聚相)

80用于液體和/或氣體(例如，液氧)的儲(chǔ)備槽

82貯存的液體和/或氣體(例如，液氧)

84入料液體和/或氣體(例如，液氧)

90用于研磨介質(zhì)的料斗

92新的研磨介質(zhì)

94入料研磨介質(zhì)

96研磨介質(zhì)儲(chǔ)備器

96a第一研磨介質(zhì)儲(chǔ)備室

96b第二研磨介質(zhì)儲(chǔ)備室

96c第三研磨介質(zhì)儲(chǔ)備室

96d第四研磨介質(zhì)儲(chǔ)備室

100閥

200攪拌介質(zhì)反應(yīng)器(即，“smrt”反應(yīng)器，“磨耗洗滌器”)