本發(fā)明的
技術(shù)領(lǐng)域：
涉及采礦，特別是濕法冶金、電解沉積和/或電解精煉的工藝。
背景技術(shù)：
：大規(guī)模獲得銅陰極是現(xiàn)有技術(shù)中已知的工藝。這種可獲利的工藝對于待獲得的大量材料來說是集約的。這種工藝的基礎(chǔ)是1869年在南威爾士首次使用的工藝，其中將電解精煉作為在電解槽中進行的金屬性銅的純化工藝進行測試，并且包括施加電流以溶解不純銅。以這種方式，獲得了可能的最純電解銅，其純度為99.99％，這允許其在其它應(yīng)用中作為電導(dǎo)體使用。智利是世界上銅的主要生產(chǎn)者和精煉者之一。獲得電解精煉銅的總體工藝為本領(lǐng)域技術(shù)人員所已知的(上面圖1/9)，并且操作如下：-破碎：在這個階段，將提取的材料減少到越來越小和更緊湊的部分。-浸出(lx)：冶金技術(shù)，包括用硫酸水溶液沖洗礦化堆、溶解氧化礦物中的銅含量和形成硫酸銅溶液，將其帶到pls(飽和浸出溶液)池。-溶劑提取(sx)：是通過使用溶劑分離混合物中一種或多種物質(zhì)的方法，獲得富含銅的溶液。-電解沉積(ew)：是將銅溶液(電解質(zhì))帶到電解沉積場所的工藝，在電解沉積場所中存在一系列槽，該一系列槽以當(dāng)向其施加電流時硫酸銅溶液分解并且銅保持附著于陰極的方式布置。(從圖9/9可以看出)-銅陰極，這些是在電解沉積工藝中獲得的銅板。以上按照這個順序呈現(xiàn)的步驟揭示了已知的工藝。每個步驟各自有自己的技術(shù)問題，在這些問題中申請人想要強調(diào)下面提到的那些。這種類型的濕法冶金、電解沉積和/或電解精煉工藝一直在固定的位置處執(zhí)行，這是由大量的設(shè)備、電氣支持、該操作所需的高噸位材料的管理以及集約工藝所致。通常，電解提取工藝在包含電解浴和多個陽極與陰極的不分開的電化學(xué)槽中進行。在這些工藝例如銅的電沉積中，在陰極(由不銹鋼制造)中發(fā)生的電化學(xué)反應(yīng)將金屬性形式的銅沉積在陰極本身上。通常由鉛制造的陽極被緩慢地消耗從而形成陽極泥渣并產(chǎn)生作為殘留元素的氣態(tài)氧(wo2013/060786)。通常，現(xiàn)有技術(shù)已知的是，如專利wo2013117805所述，這種類型的工藝通過每個陽極-陰極對并聯(lián)使用直流。事實上，整流器用于采用電化學(xué)工藝本身要求的電流來補償系統(tǒng)的直流輸入。電解沉積的總體工藝的另一個常見步驟(但是在使電解質(zhì)經(jīng)受電流之前)是通過用溶劑提取電解質(zhì)的礦石富集或濃縮步驟，這也是稱為飽和浸出溶液(pls)的步驟。這個步驟是達到電解質(zhì)中銅濃度為約7至48gr/l電解質(zhì)所必要的。這些濃度對于在中等規(guī)模和大規(guī)模采礦中使電解沉積工藝在經(jīng)濟上可行而言是必要的。技術(shù)實現(xiàn)要素：在本發(fā)明的第一方面，它是允許在電解沉積中直接使用飽和浸出溶液(pls)來獲得電解銅陰極的工藝，避免了通過用溶劑提取來濃縮礦石的步驟(下面的圖1/9)。本發(fā)明的第二方面在于該工藝以模塊化形式設(shè)置且整個工藝可以根據(jù)工藝本身的需求來調(diào)動。本發(fā)明的第三方面涉及電流，采用該電流精制了在電解沉積中溶解的電解質(zhì)，這樣使得在本發(fā)明中其表現(xiàn)像串聯(lián)而不是并聯(lián)(如目前執(zhí)行)的直流電流。本發(fā)明的第四方面允許這種工藝與較大體積的強浸出溶液和較小濃度的溶解銅一起使用。操作流量為現(xiàn)今通常使用的工藝的大約3至5倍。本發(fā)明的第五方面提出了進行上述工藝(破碎和浸出)的系統(tǒng)，其中pls產(chǎn)物直接通過電解沉積而不經(jīng)過溶劑提取(sx)階段，從而減少了生產(chǎn)時間，節(jié)省試劑和階段，最終允許生產(chǎn)高品質(zhì)陰極。本發(fā)明的第六方面是采用低的比表面積(m2/kg的陰極)、低的銅濃度和槽中的高引入流量實現(xiàn)朝向陰極的高的質(zhì)量傳遞速度。第七方面是在槽中使用低的直流并且能量消耗較低(電流效率提高99％)，因為傳統(tǒng)工藝使用高的直流，使得在高能耗下感受到其影響。第八方面是電流的消耗變得獨立于陰極和陽極的數(shù)量。最后，ewtech-led工藝對中小型采礦產(chǎn)生了巨大的影響，因為這些設(shè)備需要低投資和操作成本，并且能夠外包一種適應(yīng)它們所擁有的生產(chǎn)流程的工藝(因為它是模塊化的)。這種工藝希望解決的技術(shù)問題是：-如何獲得基于富集浸出溶液或飽和浸出溶液(pls)具有電解品質(zhì)的銅陰極，而不通過使用溶劑提取(sx)的濃縮步驟，-如何獲得電力系統(tǒng)的直流與電化學(xué)工藝對電解沉積銅陰極所需的電流精確相同，即電解沉積工藝是直流串聯(lián)的回路。-如何直接從具有低濃度銅的礦石浸出溶液獲得電解沉積銅。-如何在(物理)需要的情況下使用集約電解沉積工藝(針對其所需要的量并且在可能的最短時間內(nèi))，并且同樣可以在工地不再需要其工作時移動設(shè)備。-如何采用低的比表面積(m2/kg的陰極)、低的銅濃度和槽中的高引入流量實現(xiàn)朝向陰極的高的質(zhì)量傳遞速度。-如何在槽中使用低直流并且能耗較低(電流效率提高99％)，因為傳統(tǒng)工藝使用高直流，使得在高能耗下感受到其影響。-電流消耗如何變得獨立于陰極和陽極的數(shù)量。具體實施方式獲得銅陰極的生產(chǎn)工藝從礦石料堆的沖洗開始，其中先通過結(jié)塊步驟處理該材料，隨后運輸和堆積在為此目的的另外的場所中，在浸出(lx)區(qū)域中。用來自ew槽的廢溶液的殘液溶液沖洗這些料堆，然后用基于具有低的銅濃度的浸出溶液、工藝用水并且還添加該工藝對于其逐漸富集銅所需要的硫酸而形成的再循環(huán)的ils溶液沖洗這些料堆，然后將其送到pls類別的電解沉積(ew)區(qū)域。在這個區(qū)域中，在線調(diào)節(jié)pls溶液，添加和補充陽極和陰極添加劑(硫酸鈷和瓜爾膠)、試劑(硫酸)和工藝用水。在進入ew之前，將溶液熱調(diào)節(jié)，使得該工藝在優(yōu)化的操作條件下進行。一旦電解沉積工藝成功通過，就將溶液運送到處置容器(處置tk)，其再次將溶液送到lx中的初始排放池。后者進行特定次數(shù)，直至溶液中的銅濃度降低到確定的值。一旦實現(xiàn)了這個目標，電解溶液在最后離開艙時，就被導(dǎo)出到朝向相同池段的lx區(qū)域，但是作為殘液，用于銅的再富集并返回到電解工藝，從而處理連續(xù)體積的電解溶液。同時，與此操作同時，將lx中產(chǎn)生的pls溶液同時送到ew生產(chǎn)線代替先前的溶液，從而完成了在兩個階段之間設(shè)備中溶液的基本操作和處理。ew工藝的最終產(chǎn)物是測量為1x1米且稱重為42千克的片材形式的陰極銅，其純度等于或高于98％的cu，其被儲存、包裝和分配用于其商業(yè)化(f7)(圖2/9)。工藝本身銅陰極生產(chǎn)工藝通過led(浸出與直接電解沉積)工藝需要供應(yīng)和加工先前已經(jīng)由第三方粉碎的礦石，其中100％的產(chǎn)品尺寸在1.27cm以下?？蛇x和理想地，這種礦石可以在存料堆中儲存自主的7天，這將供給結(jié)塊階段。一旦到這里，材料被放置在旋轉(zhuǎn)鼓中。同時，向礦石添加在0.01和5噸/小時之間、優(yōu)選2.11噸/小時的體積的硫酸和水，其分別來自容器(酸t(yī)k)和來自供應(yīng)水給設(shè)備的地點；所有這些都是為了在接下來的步驟實現(xiàn)浸出溶液的良好滲透和分散，直至獲得具有10％濕度的結(jié)塊礦石作為產(chǎn)物(如圖3/9所示)。隨后，通過溢流將所得的材料從設(shè)備中排空，并在輸送帶上運輸?shù)娇ㄜ囇b載區(qū)域；卡車將產(chǎn)物運送到lx區(qū)域。浸出工藝一旦從ag區(qū)運輸?shù)V石，卡車就在lx區(qū)域中卸載材料。在這里，裝載設(shè)備負責(zé)在為此目的制備的料堆中執(zhí)行礦石的堆放，堆放每天處理的材料直至最終形成礦石堆。在完成這個過程時，首先用來自混合池(尤其是來自輪到的殘液段或子池)的殘液溶液(約2至3gr/l的銅)以40和80m3/h之間的最大速率對為該工藝準備的料堆進行沖洗。將稱為ils的由沖洗所得的溶液通過位于沖洗料堆一側(cè)的管道系統(tǒng)送至ils池。該溶液在料堆中再循環(huán)5至20次，以變得富集cu2+，直至獲得5至30g/l銅的最終濃度。所得的溶液稱為pls，被送到混合池–所輪到的pls段，其中最終將通過管道將其泵送并運送到ew區(qū)域。為了使工藝具有最連續(xù)和多功能的操作成為可能，ils和混合池具有內(nèi)部分區(qū)，形成子池，所述子池允許在這些子池和ew工藝之間獲得動態(tài)的操作表現(xiàn)。在ils池的情況下，這些子池允許使用分配閥的有效動力學(xué)，導(dǎo)出溶液至料堆的沖洗以及導(dǎo)出已經(jīng)處于pls類別的溶液至混合池。同時，混合池允許考慮不同濃度的cu2+來導(dǎo)出溶液至ew工藝，并且取決于操作情況，同時還管理和驅(qū)動溶液作為殘液至料堆，提供兩個階段之間的可變處理動力。在將pls送到ew-led設(shè)備的時刻，pls溶液同時再循環(huán)(來自ew-led)返回到源自電解沉積槽的混合池的相同驅(qū)動段，從而繼續(xù)其再循環(huán)工藝直至銅的濃度下降到約4gr/l，隨后在料堆中其再循環(huán)變得再次富含cu2+，直到它再次成為pls溶液，從而完成了該階段的操作回路。盡管沒有被認為是操作的一部分，但是當(dāng)輪到的料堆完成其90天的沖洗循環(huán)時，必須洗滌和排出該料堆，直至其中保留的所有溶液被提取，然后必須將其移除并加載在卡車中從而被帶到其在垃圾場的最后處置。必須采用用于其各自沖洗工藝的新材料填充被除去的材料所留下的空間，從而產(chǎn)生將動態(tài)材料恒定地集成到其中的大料堆。由于消耗和自然蒸發(fā)，如果需要，ils池分別接收硫酸和工藝用水的補充流，而出于相同的構(gòu)思，只向混合池提供工藝用水(圖4/9)。電解沉積-led(ew-led)如前所述，lx階段中產(chǎn)生的新鮮pls通過管道被送到ew-led區(qū)域，最小流量范圍為每平方米陰極3升/分鐘，最大流量范圍為每平方米陰極25升/分鐘。在線通過添加硫酸(直至獲得溶液中的濃度為90至140gr/l)和置換工藝用水來調(diào)節(jié)溶液。隨后，將其導(dǎo)出至電解質(zhì)/電解質(zhì)(e/e)板式熱交換器，以便根據(jù)電解質(zhì)循環(huán)將pls溶液/來自該工藝的殘液的熱能轉(zhuǎn)移到再循環(huán)/新鮮進入的pls，從而依次給溶液供給能量。然后在板式熱交換器中再一次對流體進行熱處理，這次為電解質(zhì)/水(e/a)，以熱水作為供熱液體在不直接接觸的逆流流動中操作，如在先前的設(shè)備中的情況那樣，在20至60℃、優(yōu)選45℃的溫度下獲得經(jīng)調(diào)節(jié)的pls。然后，在同一生產(chǎn)線中，添加先前在攪拌容器中制備的硫酸鈷和瓜爾膠的溶液(硫酸鈷和瓜爾膠tk)，分別作為陽極腐蝕抑制劑和陰極沉積物的規(guī)則織構(gòu)的控制劑。為了完成這些步驟，最后將經(jīng)調(diào)節(jié)的pls送到ew-led槽。銅電解沉積系統(tǒng)ew-led由串聯(lián)連接的幾個ew模塊的一系列復(fù)合電解槽組成。每個模塊具有幾個槽(2至10個)，并且這些槽又由陽極-陰極對形成。每個槽包含陰極，其工作面積為1m2，由其獲得具有相同面積的銅產(chǎn)物，并且由陽極施加150a/m2的最小電流密度范圍和510a/m2、優(yōu)選300a/m2的最大值，其連續(xù)地由每個槽和模塊串聯(lián)循環(huán)和控制。取決于待處理的pls的化學(xué)品質(zhì)，考慮到優(yōu)選在150和170a/m2之間的最小電流，采用串聯(lián)的儲料器的操作形式開辟了在儲料器的每個儲料器中使用不同電流密度工作的可能性。如果設(shè)備在同一電流下工作，它必須以250a/m2的額定電流密度操作，以實現(xiàn)計劃的正常生產(chǎn)。用于制造電極的材料將取決于在工廠中使用的水的品質(zhì)。如果使用的水具有高含量的活性氯，例如海水，則兩個電極將均為鈦基的，并且如果使用的水是氯化物少或無氯化物，例如飲用水或去離子水，則將使用常規(guī)電極：不銹鋼316l作為陰極，并且在陽極的情況下為鉛-鈣-錫合金。采用驅(qū)動系統(tǒng)通過先前分別位于每個儲料器中的供給容器將艙中循環(huán)的pls從一個儲料器導(dǎo)出至另一個儲料器，同時添加了瓜爾膠的替代溶液。一旦在儲料器中處理了輸出溶液，則將其送到轉(zhuǎn)移容器(轉(zhuǎn)移tk)和驅(qū)動朝向e/e熱交換器，直到輪到的再循環(huán)pls子池，從而實現(xiàn)設(shè)備中的pls通過的循環(huán)。這種循環(huán)操作(在來自lx的工藝中pls的發(fā)送和返回)在3至15次之間進行，優(yōu)選為6次，直到cu2+的濃度降至可能的最小冶金值(約4至5g/l)，這將取決于被處理的電解質(zhì)的物理條件，該物理條件又將取決于所處理的礦石的特性以及正在執(zhí)行的操作。當(dāng)溶液已經(jīng)完成總次數(shù)的循環(huán)時，在其最后一次從艙排放時，它作為殘液被送往e/e熱交換器，并且隨后送往lx區(qū)域中的其子池，同時驅(qū)動來自混合池的另一個子池的新鮮pls，以免在該步驟失去操作連續(xù)性，從而執(zhí)行所描述的回路的整體性。關(guān)于溶液加熱系統(tǒng)，由水加熱器、熱水累積容器、e/e板式換熱器和e/a板式換熱器組成。該系統(tǒng)一方面以送往e/a交換器的熱水的再循環(huán)而運行，以傳遞其熱量來增加并保持被送到艙的pls的操作溫度。設(shè)備的輸出水再循環(huán)到加熱器以用于其再調(diào)節(jié)，并將其送到儲存容器用于重新分配。同時，在室溫下將必要的工藝用水添加到加熱器，以用于向添加劑容器供應(yīng)熱水，用于因循環(huán)pls在至管線的過程中的蒸發(fā)和分解而進行替換，并且用于洗滌收獲的陰極。加熱器的能量來源是通過燃燒柴油或另外的燃料，其以熱的形式傳遞給在設(shè)備中循環(huán)的水。ew-led工藝的最終產(chǎn)物是大約42千克的片材形式的陰極銅，面積為1m2，純度等于或高于98％；其被洗滌、從陰極脫離、軋制并存儲在調(diào)度平臺中以用于其商業(yè)化(f7)(圖5/9)?？偠灾?，ewtech-led技術(shù)是新的濕法冶金工藝，相對于傳統(tǒng)工藝其提出了四大創(chuàng)新，如下：允許電解沉積銅陰極，其中電力系統(tǒng)的直流與電化學(xué)工藝對電解沉積陰極所需的電流精確相同。也就是說，電解沉積工藝是直流串聯(lián)的回路，而傳統(tǒng)技術(shù)是并聯(lián)的。銅的電解沉積基于pls進行，其不同于常規(guī)工藝，該常規(guī)工藝需要通過溶劑提取步驟來獲得供給ew槽的富含金屬的電解質(zhì)從而通過電解沉積獲得高品質(zhì)的陰極。供給電解沉積槽的pls的流量是傳統(tǒng)設(shè)備所需電解質(zhì)的流量的5倍以上。電解沉積可以以5至50gr/l的低濃度pls進行，從而獲得具有高濃度銅(自97％起)的陰極。當(dāng)進入電解沉積時pls的調(diào)節(jié)所需的低溫(30℃至50℃)(少于傳統(tǒng)電解沉積中使用的溫度的一半)，導(dǎo)致較少的腐蝕性氣體產(chǎn)生及其被提取的需要，以及導(dǎo)致已經(jīng)用熱交換器優(yōu)化的較低能量消耗。ewtech-led技術(shù)此工藝中所需的pls流量并聯(lián)和串聯(lián)供給電解沉積槽的不同模塊。在啟動工藝時，每升溶液必須含有5至50克銅。在進入ewtech-led槽的模塊之前在該溶液中加入試劑例如瓜爾膠和硫酸鈷分別作為用于陰極和陽極的添加劑，劑量分別為每噸所制備的銅約320克和220克。pls在系統(tǒng)中以并聯(lián)－串聯(lián)形式的流動循環(huán)，當(dāng)每升溶液為4至6克銅時，將其送至浸出料堆。ewtech-led工藝的優(yōu)化功能的另一個相關(guān)方面是供給ewtech-led槽的模塊的pls的溫度。它必須在30和50℃之間波動。本發(fā)明的另一個核心方面是產(chǎn)生ewtech-led工藝的艙。這個艙由1至20個、優(yōu)選4個儲料室的一系列儲料室組成。就其本身而言，每個儲料室包含1至15個電解模塊，優(yōu)選7個。因此，優(yōu)選的配置在這個艙中將有28個模塊。另一方面，電解沉積ewtech-led槽的每個模塊由2至12個槽組成，其中艙中的優(yōu)選配置由112個操作槽組成，體積獨立和緊湊，每個槽由陰極和陽極構(gòu)成；槽中的電連接的分布在陰極和陽極之間串聯(lián)連接并集成，目的是在整個模塊和模塊間保持相同的直流和相同的電流密度；陰極的工作面積為2至0.3m2，優(yōu)選為1m2；在模塊中調(diào)節(jié)電流密度在0和450安培之間的范圍內(nèi)，且操作電流密度在每平方米陰極150和300安培之間；還有管道系統(tǒng)，通過每個槽和模塊獨立控制pls的流量；并通過整流變壓器所提供的電力對槽的每組模塊進行電場的獨立控制。該模塊的重要部分之一是多路傳輸，其中獨立控制pls的流量，其允許將可變流量(4-22l/min/m2的陰極)的pls供給到一組模塊，并且以獨立的方式供給到每個電解沉積槽。附圖說明圖1/9該圖顯示了傳統(tǒng)的銅陰極生產(chǎn)工藝的簡化草圖(上方草圖)與本發(fā)明的工藝的簡化草圖(下方草圖)。a：破碎：在這個階段，將所提取的材料減少到越來越小和更緊湊的部分。b：浸出(lx)：冶金技術(shù)，包括用硫酸水溶液沖洗礦化材料堆、溶解氧化礦石中所含的銅和形成硫酸銅溶液，將其帶到pls(飽和浸出溶液)池。c：溶劑提取(sx)：使用溶劑從混合物中分離一種或多種物質(zhì)的方法，獲得富含銅的溶液。d：電解沉積(ew)：將銅溶液(在溶劑提取(sx)之后濃縮銅的電解質(zhì))帶到電解沉積艙的工藝，在電解沉積艙中存在一系列槽，當(dāng)向該一系列槽施加電流時硫酸銅溶液分解并且銅保持附著于陰極。e：直接電解沉積(ewtech)：是在加入試劑例如瓜爾膠和硫酸鈷作為用于陰極的添加劑之后將lps溶液(浸出(lx)階段之后獲得的溶液)帶到修改的電解沉積槽的不同模塊的工藝，最終銅附著于陰極。圖2/9該圖表示本發(fā)明的生產(chǎn)工藝的總圖。圖的上半部分的箭頭線顯示了在礦石移動的不同位置處水經(jīng)歷的物理現(xiàn)象：x：動力泵：流量控制器和溫度表f1：混合池的蒸發(fā)f2：ils池的蒸發(fā)f3：料堆的蒸發(fā)f4：ew中的蒸發(fā)f5：通過電解分解水f6：丟棄洗滌水f7：生產(chǎn)銅陰極上部箭頭之下緊鄰的線顯示了在礦石移動的不同位置處固體材料的行為：g1：來自破碎機－粘結(jié)機的結(jié)塊礦石g2：動態(tài)料堆g3：碎石至垃圾場在接下來的箭頭線中，呈現(xiàn)了酸的處置：h1：來自卡車的硫酸h2：酸t(yī)kh3：硫酸至結(jié)塊。在接下來的箭頭線中，呈現(xiàn)了工藝用水的處置：i1：來自水源的工藝用水i2：工業(yè)用水i3：ils池i4：混合池i5：備用池最后一條線呈現(xiàn)了系統(tǒng)的加熱網(wǎng)絡(luò)：j1：供油j2：鍋爐j3：水調(diào)節(jié)室j4：熱交換器在ewtech-led之前還有與lps的適應(yīng)和制備有關(guān)的其他部分：k1：化學(xué)產(chǎn)品，濃縮的瓜爾膠k2：化學(xué)產(chǎn)品，濃縮的硫酸鈷k3：瓜爾膠tk，這是一個容器，在其中瓜爾膠稀釋在水中，并保持在優(yōu)化濃度以被施加至送到ew槽的pls。k4：鈷tk，這是一個容器，在其中硫酸鈷稀釋在水中并保持在優(yōu)化濃度以被施加至送到ew槽的pls。k5：tk儲料器2，這是一個容器，在其中當(dāng)電解質(zhì)已經(jīng)通過ewtech-led系統(tǒng)的第一儲料器一次時，串聯(lián)接收電解質(zhì)。(不限制待使用的儲料器的數(shù)量，當(dāng)電解質(zhì)的濃度達到低于4gr/l的范圍時除外)。k6：tk儲料器3，這是一個容器，在其中當(dāng)電解質(zhì)已經(jīng)通過ewtech-led系統(tǒng)的第二儲料器一次時，串聯(lián)接收電解質(zhì)。(不限制待使用的儲料器的數(shù)量，當(dāng)電解質(zhì)的濃度達到低于4gr/l的范圍時除外)。k7：tk儲料器4，這是一個容器，在其中當(dāng)電解質(zhì)已經(jīng)通過ewtech-led系統(tǒng)的第三儲料器一次時，串聯(lián)接收電解質(zhì)。(不限制待使用的儲料器的數(shù)量，當(dāng)pls溶液中銅的濃度達到低于4gr/l的范圍時除外)。k8：tk轉(zhuǎn)移儲料器，這是一個容器，在其中串聯(lián)接收已經(jīng)通過ewcech-led系統(tǒng)的第四儲料器一次的pls。(不限制待使用的儲料器的數(shù)量，當(dāng)pls的濃度達到低于4gr/l的范圍時除外)。所用的pls被轉(zhuǎn)移到混合池。l1：ewtech-led儲料器n°1l2：ewtech-led儲料器n°2l3：ewtech-led儲料器n°3l4：ewtech-led儲料器n°4圖3/9該圖表示led工藝之前的步驟的具體草圖。圖4/9該圖表示浸出工藝的流程圖。在圖的右邊部分的箭頭中，呈現(xiàn)了在礦石移動的不同位置處水經(jīng)歷的物理現(xiàn)象：x：動力泵：流量控制器和溫度表f1a：混合池中的蒸發(fā)，殘液段f1b：混合池中的蒸發(fā)，pls段f2：ils池蒸發(fā)f3：料堆蒸發(fā)在上方的箭頭線中，呈現(xiàn)了在礦石移動的不同位置處固體物質(zhì)的行為：g1：來自破碎機－粘結(jié)機的結(jié)塊礦石g2：動態(tài)料堆g3：碎石至垃圾場在下方的箭頭線中，顯示了pls的處置和一條線：m1：再循環(huán)的pls/來自ewtech的殘液m2：pls/再循環(huán)到ewtech的pls在接下來的箭頭線中，顯示酸的處置：h1：來自卡車的硫酸h2：tk酸h3：硫酸至結(jié)塊h4：硫酸至ewtech在接下來的箭頭線中，呈現(xiàn)了工藝用水的處置：i1：來自水源的工藝用水i3：ils池i4：混合池i5：備用池i6：工藝用水至ewtechi7：備用lx淋浴另外，以下標記顯示：1.從ew排放殘液2.從ew可獲得的殘液(根據(jù)平衡)3.殘液至沖洗4.ils至池5.再循環(huán)的ils至沖洗6.工藝用水至操作7.水至備用lx服務(wù)8.水至混合池(殘液段)9.水至ils池10.硫酸至操作11.硫酸至結(jié)塊12.硫酸至ils池13.工藝用水至ew14.硫酸至ew15.蒸發(fā)混合池(殘液段)16.蒸發(fā)ils池17.蒸發(fā)混合池(pls段)18.pls至混合池(pls段)19.可用于ew的pls(根據(jù)平衡)20.將pls排放至ew圖5/9該圖代表串聯(lián)ew-led的直接電解沉積工藝的流程圖。在圖的右下角部分的箭頭線中，呈現(xiàn)了在礦石移動的不同位置處水經(jīng)歷的物理現(xiàn)象：f5：通過電解分解水f6：丟棄洗滌水f7：生產(chǎn)銅陰極f8：環(huán)境蒸發(fā)水f9：用于洗滌陰極的水在接下來的箭頭線中，呈現(xiàn)了酸的處置：x：動力泵：流量控制器和溫度表h4：硫酸至ew-led。在接下來的箭頭線中，呈現(xiàn)了工藝用水的處置：i6：工藝用水至ew-ledi7：lx備用淋浴i8：用于人類消費的工業(yè)用水最后一條線介紹了系統(tǒng)的加熱網(wǎng)絡(luò)：j1：供油j2：鍋爐j3：水調(diào)節(jié)室j4：熱交換器在ewtech-led之前還有與lps的適應(yīng)和制備有關(guān)的其他部分：k1：化學(xué)產(chǎn)品，濃縮的瓜爾膠k2：化學(xué)產(chǎn)品，濃縮的硫酸鈷k3：tk瓜爾膠，這是一種容器，在其中瓜爾膠稀釋在水中，并保持在優(yōu)化濃度以被施加至送到ew槽的pls。k4：tk鈷，這是一種容器，在其中硫酸鈷稀釋在水中并保持在優(yōu)化濃度以施加至被送到ew槽的pls。k5：tk儲料器2，這是一個容器，在其中當(dāng)pls已經(jīng)通過ewtech-led系統(tǒng)的第一儲料器一次時，串聯(lián)接收pls。(不限制待使用的儲料器的數(shù)量，當(dāng)pls的濃度達到低于4gr/l的范圍時除外)。k6：tk儲料器3，這是一個容器，在其中當(dāng)pls已經(jīng)通過ewtech-led系統(tǒng)的第二儲料器一次時，串聯(lián)接收pls。(不限制待使用的儲料器的數(shù)量，當(dāng)pls的濃度達到低于4gr/l的范圍時除外)。k7：tk儲料器4，這是一個容器，在其中當(dāng)pls已經(jīng)通過ewtech-led系統(tǒng)的第三儲料器一次時，串聯(lián)接收pls。(不限制待使用的儲料器的數(shù)量，當(dāng)pls的濃度達到低于4gr/l的范圍時除外)。k8：tk轉(zhuǎn)移儲料器，這是一個容器，在其中串聯(lián)接收已經(jīng)通過ewtech-led系統(tǒng)的第四儲料器一次的pls。(不限制待使用的儲料器的數(shù)量，當(dāng)pls的濃度達到低于4gr/l的范圍時除外)。所用的pls被轉(zhuǎn)移到混合池。l1：ewtech-led儲料器n°1l2：ewtech-led儲料器n°2l3：ewtech-led儲料器n°3l4：ewtech-led儲料器n°4在接下來的箭頭線中，呈現(xiàn)了pls和生產(chǎn)線的處置：m3：pls/從lx再循環(huán)的plsm4：再循環(huán)的pls/殘液至lx另外，以下標記顯示：21：pls至調(diào)節(jié)22：硫酸至生產(chǎn)線23：工藝用水至生產(chǎn)線24：pls至e/e熱交換器25：pls至e/a熱交換器26：硫酸鈷至硫酸鈷tk27：瓜爾膠至瓜爾膠tk28：硫酸鈷溶液29：瓜爾膠溶液至分配30：瓜爾膠溶液至ew1儲料器31：瓜爾膠溶液至ew2儲料器32：瓜爾膠溶液至ew3儲料器33：瓜爾膠溶液至ew4儲料器34：pls至ew1儲料器35：pls至ew2儲料器36：pls至ew3儲料器37：pls至ew4儲料器38：pls至轉(zhuǎn)移tk39：循環(huán)的pls至池40：來自加熱器的熱水41：熱水至硫酸鈷tk42：熱水至瓜爾膠tk43：熱水至熱交換器44：熱水至陰極洗滌45：返回的熱水46：工藝用水至服務(wù)和操作47：水至ew-led備用服務(wù)48：水至人消費服務(wù)49：工藝用水至替換50：水至加熱器51：油至加熱器52：艙中水的蒸發(fā)53：艙中水的分解54：陰極銅55：推進殘液至lx圖6/9該圖在其上方兩個草圖中顯示了bellaandina材料的iso-ph測試。下方的兩個草圖呈現(xiàn)了來自chiapa的材料的iso-ph測試。圖7/9在該圖中，描述了ite材料(下方圖表)和復(fù)合物材料(上方圖表)的硫酸化測試。圖8/9這個圖呈現(xiàn)了兩個圖表。下方的圖表顯示了銅提取的百分比和浸出比率之間的關(guān)系。明顯的是，在pls暴露于傳統(tǒng)ew的情況下，提取不是優(yōu)化的，其在電解質(zhì)中達到每升約48克銅的濃度。上方的圖表顯示了凈酸消耗與浸出比率之間的關(guān)系。圖9/9該圖示出了通過本發(fā)明的直接ew技術(shù)提取的銅陰極的照片。應(yīng)用實例在實驗中，制備2300kg的破碎礦石，并篩選直至獲得尺寸小于1.27cm或0.5英寸的產(chǎn)物尺寸(采用p80的粒度測定法)。這種礦石被儲存以用于開發(fā)測試，正如在現(xiàn)實中儲存庫存料堆一樣。一旦在這里，就將用于測試的材料以50千克的小批分開。一個小批被用于執(zhí)行化學(xué)表征(500gr)，iso-ph(1000gr)和冶金表征。將5kg的小批樣品在旋轉(zhuǎn)鼓中破碎并搖動，從而獲得代表性的250gr樣品。用這些樣品進行的測試是：a.浸出原料的化學(xué)分析cut，cus，fet，al，mg，mn，na，k，cl和caa(酸消耗分析)。為了量化礦石樣品中的污染元素，在浸出原料樣品中進行31種元素的icp(感應(yīng)耦合等離子體)分析。b.初步冶金測試進行初步冶金測試，目的是獲得浸出的冶金參數(shù)結(jié)果。c.iso-ph測試使用1kg采用合適的粒度測定法的礦石進行這些測試持續(xù)48小時的時間，且固體百分比為33％。測試在容量為10升的塑料反應(yīng)器中進行，該反應(yīng)器在輥子上以55rpm旋轉(zhuǎn)，特別設(shè)計用于進行該工作。浸出溶液始終保持在1.5的ph。這種情況是通過恒定和永久的添加h2so4酸來達到，這被報告為酸的凈消耗和總消耗。采用2、4、6、8、10、24、48小時的頻率，獲取漿料(具有10％濕度)的樣品以進行銅提取和酸消耗的動力學(xué)的跟蹤。在浸出期結(jié)束時，將漿料過濾和洗滌，獲得富洗滌溶液。將礦石餅(浸出碎石)干燥、稱重、碎裂并分析總cu(cut)和總fe(fet)，最后基于重量、溶液體積和化學(xué)分析執(zhí)行冶金平衡。d.硫酸化測試硫酸化測試用于確定在柱浸出測試中使用的酸的劑量。該方案成為一組四次硫酸化測試的一部分，其中使用48小時的休息期。一旦休息期結(jié)束，洗滌樣品以獲得溶液并用無酸的cu進行表征。根據(jù)四次硫酸化測試中得到的結(jié)果，確定了在使用最少量酸的原則下處理中酸的劑量，在該最少量酸的情況下開始留下殘余的酸。使用該劑量的酸在柱浸出步驟之前處理礦石。e.柱浸出測試柱浸出測試的目的是獲得具有8-10g/l加權(quán)cu的pls溶液，因為在這個水平上，這是在ew測試中使用所需要的。該冶金方案在直徑為20.32厘米(8英寸)和高度為3-5米的柱中進行了九(9)次浸出測試。每次測試使用在硫酸化測試的基礎(chǔ)上確定的處理中的酸速率。沖洗速率為10l/h/m2。此外，水的類型構(gòu)成變量，這就是為什么六(6)個柱使用由酸化飲用水組成的浸出溶液并且三(3)個柱采用酸化的海水的原因。浸出比率為2m3/噸，要不然直到獲得濃度為8-10gr/l的cu。實驗的控制包括：在前五(5)天期間對cu、fet和h+的每日分析，然后每隔一天繼續(xù)采樣直到?jīng)_洗周期結(jié)束。這些實驗的結(jié)果如下：對于化學(xué)特性，獲取來自秘魯?shù)娜齻€礦石樣品，其對應(yīng)于bellaandina、ite和chiapa礦。這些礦床非?？拷⒗锟?。用來自bellaandina和chiapa的樣品制備了復(fù)合物，通過原子吸收技術(shù)和icp對其進行表征，其結(jié)果示于表i和ii中。表i獲得的結(jié)果顯示，兩種礦石具有高礦石含量的cu總量：對于bellaandina和chiapa分別為2.45％和3.17％，而cus為2.0％和3.05％(bellaandina和chiapa)，這表明對于(chiapa礦)而言81.6％的溶解度比率，而(bellaandina)顯示出96.2％的溶解度比率。樣品顯示fet高，對于bellaandina和chiapa分別為10.7％和6.7％。對于分析的陽離子(al，mg，na，k)，這些呈現(xiàn)正常水平，al在3.7％和5％之間，mg在0.22％和1.81％之間。然后，濃度低于1％的有na，k，cl；這些后面的元素表明在兩種礦石中都不存在可溶性鹽。表ii這個表格呈現(xiàn)了icp的結(jié)果關(guān)于由icp分析的元素，申請人注意到兩種樣品中的鈣含量，其表明酸的高消耗。化學(xué)表征中的一個相關(guān)方面是確定樣品中可溶性鹽的含量及其酸消耗，其中采用10#的粒度測定法和一(1)升熱水(沸騰)進行礦石浸出，其在一小時期間被搖動。分析所獲得的溶液中的na、cl和k，其結(jié)果示于下表iii中。表iii這個表格呈現(xiàn)了鹽在熱水中的溶解。還觀察到在三種情況下溶解的鹽的濃度低；不存在原位的顯著濃度的鹽酸的可能性。測試中的下一步是進行iso-ph、硫酸化和柱浸出測試的冶金測試。對來自bellaandina(1940gr)和chiapa(1946gr)的樣品進行了第一次測試，ph恒定為1.5。該測試的結(jié)果見圖6/9和下表iv。表iv這個表格呈現(xiàn)了iso-ph測試結(jié)果的總結(jié)。還可以看出，樣品呈現(xiàn)cu的高提取水平，對于bellaandina為94％且對于chiapa為89％。其中，酸消耗對于bellaandina呈現(xiàn)最高水平(185kg/t)，而對于ite和chiapa樣品而言凈消耗為23kg/t。另一方面，基于在iso-ph測試中的酸消耗獲得的結(jié)果進行硫酸化測試。以35、45、55和65kg/t的濃度進行硫酸化測試，其結(jié)果列于表n°6中。圖7/9基于圖7/9所示的結(jié)果，從硫酸化測試獲得結(jié)塊中的酸度水平。作為下一步，執(zhí)行柱浸出測試，其包括獲得cu含量在8至10gr/l之間的pls溶液。這些測試的結(jié)果在表v和圖8/9中清楚明了。根據(jù)獲得的結(jié)果，觀察到低銅提取，用礦物復(fù)合物(25％bellaandina和75％chiapa)進行時，其3米柱(床高)的最大值為58％(c-1和c-2)，5米柱(c-3和c-4)為45％。采用ite礦物的柱(c-10和c-11)具有47％的cu提取。這些測試僅達到2m3/t的浸出比率。所有這些結(jié)果劣于溶解度比率，溶解度比率在所有情況下都高于90％，這就是為什么在實驗操作中需要進行某些調(diào)整的原因。在所有實驗中觀察到的低提取水平是沒有在用于通過滲透來浸出的優(yōu)化條件下操作的結(jié)果，其基于：·粒度測定法：自然地進行使用，并在阿里卡工業(yè)廠獲得。分離材料，且精細材料的組分非常低?！嶒灥淖罱K條件是cu在pls中的濃度，而不是最大提取水平(后續(xù)ew工藝沒有尋求)。基于上述，加載另外的柱以產(chǎn)生能夠進行ew測試所需的cu的體積和濃度。在前幾天，pls溶液呈現(xiàn)高濃度的fe(30至40g/l)，這對于ew工藝是不夠的。這就是為什么pls在同一柱中再循環(huán)，由此隨著酸的消耗減少鐵攝入量。對于cu的濃度，使用復(fù)合物(bellaandina和chiapa)制成的柱的濃度為8至9gr/l(加權(quán))，而使用ite礦物進行測試，濃度為22gr/l。使用兩種溶液的混合物，申請人設(shè)法獲得了用于ew測試的pls溶液。采用復(fù)合物(bellaandina和chiapa)進行時，柱c-1和c-2(3m)的凈酸消耗為33kg/噸，而c-3和c-4(5m)的消耗為24kg/噸。使用ite礦物進行的c-10和c-11測試呈現(xiàn)了16kg/噸的低水平的凈酸消耗。使用海水進行的測試(柱c-5、c-6和c-7，采用復(fù)合物樣品(5m))在與使用飲用水的測試不同的時間開始，僅達到2m3/噸的浸出比率。這些呈現(xiàn)了cu的低提取水平(30％)，cu濃度(加權(quán))為8gr/l。其凈酸消耗為17kg/噸。因為測試目的是獲得pls，所以溶液以cu的濃度儲存；因此，根據(jù)在10和20gr/l、5和10gr/l之間的濃度和小于5gr/l的濃度將它們放置在分別的鼓中?？梢钥闯?，在九次實驗中獲得的結(jié)果是獲得需要在直接ew工藝中使用的條件的pls溶液的工藝結(jié)果。因此，所獲得的冶金結(jié)果不是通過滲透來優(yōu)化浸出工藝的結(jié)果。表v另一方面，制備電解質(zhì)溶液以暴露于ew工藝。制備電解質(zhì)用于2次實驗(p1和p2)，其中第一次為400l用于校準，隨后一次為800l用于ew測試本身，向其中添加所需水平(150gr/l)的酸。根據(jù)后者，通過對cu和fet的eaa，對體積分析的cl和通過icp的多元素分析來表征溶液。表vi顯示了ew工藝入口處兩種電解質(zhì)的化學(xué)表征，而表vii顯示了p2溶液的雜質(zhì)分析。表vi測試n°cu++(g/l)h+(g/l)fet(g/l)cl(g/l)p112.27151.00.710.87p214.78149.50.570.69表vii樣品al(g/l)mn(g/l)ca(g/l)mg(g/l)na(g/l)k(mg/l)so4(g/l)p20.620.170.420.610.4247.64142.53其中，表viii顯示了pls溶液的多元素組成(使用飲用水和海水作為介質(zhì))，在添加酸以將其轉(zhuǎn)化為用于電解沉積的溶液之前。表viii最后，對于ew測試(2)，它們的化學(xué)表征通過cu++、h+、fet和cl-執(zhí)行，其結(jié)果如表ix和x所示。表ix測試n°時間cu++(g/l)h+(g/l)fet(g/l)cl(g/l)p1-016:2012.27151.00.710.87p1-117:2012.19156.050.590.92p1-218.2011.63152.950.681.15p1-319.2010.98156.700.751.26p1-420.2010.33157.210.780.82p1-521.209.85158.400.831.26p1-622:209.37158.440.860.82p1-723:208.88160.420.890.82p1-800.208.56161.020.921.03p1-901:208.24160.920.940.92p1-1002.207.75160.910.971.26p1-1103:207.43160.861.001.15p1-1204:20----p1-1305:207.27160.571.051.26p1-1406:206.78160.750.971.47表x在這些表格中，可以清楚地看到，實際上電解質(zhì)溶液之后銅的濃度下降，這是電解沉積物的指示。與后者保持一致，酸濃度增加。在該測試中施加的電和體積變量是施加每平方米陰極250安培的電流密度，并且每個槽的pls流量為每平方米陰極每分鐘15升。在這些實驗之后，還進行了兩次以相同方式進行的測試即e1和e2，區(qū)別在于這些測試的持續(xù)時間為約24小時，并且其最終結(jié)果是可以分離和表征的陰極。(如圖9/9所示)由于質(zhì)量低，陰極不是非常厚，分離時其破碎，如照片中所示(圖9/9)。盡管這樣，如表xi所示，從陰極的上部、中部和下部獲取三個樣品用于各自的化學(xué)分析。表xi基于獲得的結(jié)果(直接分析)，通過電重量分析法確定陰極的純度平均為99.80％。申請人可以說，它關(guān)于深度是均勻的，因為觀察到的小差異可能與實驗誤差有關(guān)。關(guān)于污染物，主要是pb，它是明顯分層的，并且其來源不可能是陽極以外的，因為pls不具有所述量的這種元素以用于沉積所分析的元素。這些測試的結(jié)論是，采用低級別礦石或初始濃度為在8和22gr/l之間的低市場性的銅的pls開始，如果充分調(diào)節(jié)pls并且操作直接電解沉積系統(tǒng)，則可以獲得高品質(zhì)銅的電極，而不需要用溶劑(sx)濃縮銅。ew-led工藝的最終產(chǎn)物是約42千克的片材形式的陰極銅，面積為1m2且純度等于或高于98％。應(yīng)用實例2在實驗工廠的實際測試中，每天需要83.3噸的礦石，其尺寸為100％低于1.27cm，并積累在庫存料堆中(自主7天和583噸儲備)。然后將該材料研磨并篩分，直至其具有10％濕度，且硫酸比例為10kg/噸，從而產(chǎn)生92.5噸/天的潮濕礦石流。這些數(shù)據(jù)可以在下表xii中看到。表xii在這個工藝中，浸出是連續(xù)工藝，每天24小時，且礦石的每年處理時間為358天。每個料堆總體礦石處理周期為100天。為了能夠符合這一點，處理83.3噸/天的每日干燥流量，且碎石至垃圾場為相同的流量。根據(jù)表xiii，實驗工廠的浸出中的礦石的實際要求如下。表xiii(*)來自ew的新鮮殘液(**)直到考慮了在最終發(fā)送到ew之前的循環(huán)的溶液的表征。(***)pls品質(zhì)方面的溶液表征。一旦執(zhí)行電解沉積的浸出工藝和pls的制備，后一工藝需要每天24小時的連續(xù)操作，每年相同的礦石處理時間為358天。ewtech-led工藝中的陰極循環(huán)為5天，每個陰極收集42千克銅，純度高于97％，操作電流密度為300a/m2。進入艙的pls流量為30.2m3/h，且六個循環(huán)的pls體積進入艙。ewtech-led工藝的操作的數(shù)據(jù)和特性在下表xix和xx中描述。表xix表xx(*)來自lx的新鮮殘液(**)直到考慮了在最終發(fā)送到lx之前的循環(huán)的溶液的表征。(***)作為殘液的溶液表征。在前述條件下，獲得重42kg、高于97％的高純度銅陰極，例如在應(yīng)用實例1中所見的陰極。權(quán)利要求書(按照條約第19條的修改)1.在沒有用溶劑進行提取的情況下從具有5至30g/l之間的銅含量的飽和浸出溶液(pls)進行電解沉積的系統(tǒng)，其特征在于其包括：pls、ils、水、試劑的動力泵；pls累積容器；備用池；混合溶液和ils溶液(中間浸出溶液)；pls加熱器；熱交換器；ewtechled電解沉積槽的模塊；用于向電解沉積(ew)槽供給pls的管道；以及低電流整流變壓器和允許記錄和測量工藝變量的儀器。2.根據(jù)權(quán)利要求1的在沒有用溶劑進行提取的情況下從具有5至30g/l之間的銅含量的飽和浸出溶液(pls)進行電解沉積的系統(tǒng)，其特征在于pls加熱器和熱交換器一起工作使得：根據(jù)pls循環(huán)，pls/pls或(p/p)板式熱交換器將熱能從離開ewtechled工藝的pls/殘液轉(zhuǎn)移至再循環(huán)/新引入的pls，從而依次在能量方面回饋該溶液，隨后在板式熱交換器中再一次熱處理流體，這次為pls/水(p/a)，以熱水(加熱器)作為供熱流體在沒有直接接觸的逆流流動操作中操作，如在先前的交換中的那樣，從而允許在進入ewtechled電解沉積槽時維持pls的恒定溫度在20℃和60℃之間的范圍，優(yōu)選45℃。3.根據(jù)權(quán)利要求1的在沒有用溶劑進行提取的情況下從具有5至30g/l之間的銅含量的飽和浸出溶液(pls)進行電解沉積的系統(tǒng)，其特征在于pls動力泵、pls累積容器、備用池、混合溶液和ils溶液(中間浸出溶液)和用于向電解沉積(ew)槽供給pls的管道，順次工作：將源自ewtechled槽的廢溶液的lx殘液溶液泵送到動態(tài)的結(jié)塊材料堆上，隨后是來自其池的ils再循環(huán)溶液，該再循環(huán)溶液從逐漸的銅富集的具有低濃度的銅、工藝水以及硫酸的浸出溶液形成，通過管道被送到電解沉積(ew)區(qū)域作為pls，同樣地pls溶液被加熱和通過添加添加劑、新鮮的硫酸和工藝用水在線調(diào)節(jié)，隨后pls進入ewtechled電解沉積槽的模塊；一旦完成這個步驟，就將貧銅溶液輸送到轉(zhuǎn)移容器，該轉(zhuǎn)移容器將溶液導(dǎo)出至混合池；進行這個步驟特定的次數(shù)直到ewtechled的排出溶液中的銅濃度降低至預(yù)定值，此后，將該貧銅排出溶液導(dǎo)出至相同的混合池段，但是作為殘液，用于通過動態(tài)料堆對其進行銅的再次富集并且因而返回到電解工藝；以這種方式，操作了連續(xù)體積的電解溶液。4.根據(jù)權(quán)利要求1的在沒有用溶劑進行提取的情況下從具有5至30g/l之間的銅含量的飽和浸出溶液(pls)進行電解沉積的系統(tǒng)，其特征在于將允許記錄和測量工藝變量的儀器集成到系統(tǒng)中，并且其還允許檢測和控制直流、溫度、流量、ph和電導(dǎo)率。5.根據(jù)權(quán)利要求1的在沒有用溶劑進行提取的情況下從具有5至30g/l之間的銅含量的飽和浸出溶液(pls)進行電解沉積的系統(tǒng)，其特征在于整流變壓器供給和控制ewtechled的儲料器和槽的裝載密度。6.根據(jù)權(quán)利要求1的在沒有用溶劑進行提取的情況下從具有5至30g/l之間的銅含量的飽和浸出溶液(pls)進行電解沉積的系統(tǒng)，其特征在于整個系統(tǒng)是模塊化和可擴大的，這取決于材料的提供。7.根據(jù)權(quán)利要求1的在沒有用溶劑進行提取的情況下從具有5至30g/l之間的銅含量的飽和浸出溶液(pls)進行電解沉積的系統(tǒng)，其特征在于整個系統(tǒng)是可移動的并且可在實地現(xiàn)場安裝。8.在沒有用溶劑進行提取的情況下用具有5至30g/l之間的銅含量的pls進行電解沉積的方法，其特征在于其包括以下步驟：a.粉碎礦石直至100％的產(chǎn)物的直徑低于1.27cm；b.用酸和工藝用水使材料結(jié)塊直至獲得用于浸出的產(chǎn)物；c.通過用具有3－5gr/l的溶解銅的最大濃度范圍的殘液溶液沖洗具有結(jié)塊材料的動態(tài)池來浸出材料以獲得ils溶液；d.使ils溶液再循環(huán)通過動態(tài)料堆直至銅的濃度達到10－18gr/l溶液(pls)的范圍；e.用工藝用水和酸調(diào)節(jié)pls直至120gr/l經(jīng)調(diào)節(jié)的pls的酸濃度；f.在20℃和60℃之間的溫度范圍內(nèi)熱調(diào)節(jié)pls，其來自外部熱交換器，該外部熱交換器將來自ewtech－led的pls排出處的部分熱和來自基于鍋爐的另外的外部源的部分熱轉(zhuǎn)移到新鮮的pls，在進入ewtech-led之前；g.制備電解溶液，其中在進入ewtech-led之前向pls中摻入用于避免電極的包覆的添加劑；h.以0.1-10m3/小時的流量使pls溶液進入ewtech-led中，其中施加100-450a/m2的由儲料器和由模塊獨立地控制的電流密度；i.使艙中的pls經(jīng)過串聯(lián)的供給容器從儲料器到儲料器循環(huán)，其中輸出溶液含有在2和6gr/l之間的銅濃度，并且被送至轉(zhuǎn)移容器，以便隨后被驅(qū)動至熱交換器直到再循環(huán)的pls子池；和j.移出在ewtech-led的儲料器中獲得的銅陰極。9.根據(jù)權(quán)利要求8的在沒有用溶劑進行提取的情況下用具有5至30g/l之間的銅含量的pls進行電解沉積的方法，其特征在于在步驟b)中所使用的酸是硫酸，流量在0.01至5噸/小時之間，優(yōu)選2.11噸/小時，優(yōu)選0.07噸/小時。10.根據(jù)權(quán)利要求9的在沒有用溶劑進行提取的情況下用具有5至30g/l之間的銅含量的pls進行電解沉積的方法，其特征在于在步驟b)中所施加的酸的流量在0.01至5噸/小時之間，優(yōu)選2.11噸/小時，并且其濃度必須在每噸礦石1至100千克、優(yōu)選每噸礦石10千克的范圍內(nèi)，加上工藝用水。11.根據(jù)權(quán)利要求8的在沒有用溶劑進行提取的情況下用具有5至30g/l之間的銅含量的pls進行電解沉積的方法，其特征在于進行步驟b)直至結(jié)塊具有在5％和20％之間、優(yōu)選10％的濕度，和每噸結(jié)塊5－20千克酸、優(yōu)選每噸結(jié)塊10千克酸。12.根據(jù)權(quán)利要求8的在沒有用溶劑進行提取的情況下用具有5至30g/l之間的銅含量的pls進行電解沉積的方法，其特征在于在步驟c)中用已經(jīng)通過ewtech-led電解沉積模塊處理過的殘液液體沖洗動態(tài)池。13.根據(jù)權(quán)利要求8的在沒有用溶劑進行提取的情況下用具有5至30g/l之間的銅含量的pls進行電解沉積的方法，其特征在于在步驟f)中優(yōu)化的溫度為45℃。14.根據(jù)權(quán)利要求8的在沒有用溶劑進行提取的情況下用具有5至30g/l之間的銅含量的pls進行電解沉積的方法，其特征在于在步驟g)中添加的添加劑是新鮮的硫酸、瓜爾膠和硫酸鈷。15.根據(jù)權(quán)利要求8的在沒有用溶劑進行提取的情況下用具有5至30g/l之間的銅含量的pls進行電解沉積的方法，其特征在于在步驟i)中輸出溶液含有4gr/l的銅濃度。16.根據(jù)權(quán)利要求1的ewtech-led電解沉積槽的模塊，其特征在于包括以下：2至12個緊湊槽，其中每個槽通過陰極和陽極形成；槽中的電連接的分布在陰極和陽極之間串聯(lián)連接并且集成，以便維持相同的直流并且在所有的模塊中和在模塊之間具有相等的電流密度；陰極的操作面積在2至0.3m2范圍內(nèi)、優(yōu)選1m2；在模塊中調(diào)制0-450安培的電流密度，其中操作電流密度為每m2陰極150-300安培；還存在獨立于pls的流量的管道系統(tǒng)；和獨立的電場控制。當(dāng)前第1頁12